资讯
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶(2023-06-27)
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。
相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%(2023-05-19)
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
的升级就势必与分辨率水平相关联。
光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm
及更先进制程芯片的基础，采用了更加成熟化的极紫外光源，同时还采用了立体化的全数控光刻......
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元(2024-07-02)
元）。
ASML是全球最大的光刻设备厂商，其对2025年规划的产能目标是，90台EUV极紫外光刻机、600台DUV深紫外光刻机和20台High-NA EUV高数值孔径光刻机。
晶圆......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。
纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
光刻机巨头ASML三季度净销售额近40亿欧元，毛利率45.7%(2020-10-14)
-Tencor）占据了全球集成电路设备市场的前五名，其中，荷兰承包了全球四分之一以上的半导体设备份额。
而AMSL在三季度售出的光刻机中，价格最贵的14台极紫外光刻机大部分被台积电拿下，目前台积电旗下EUV（极紫外光......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
收获存储客户多个订单，2552亿美元光刻机巨头公布最新财报(2022-04-21)
，全球仅有少数几家厂商具备制造芯片光刻机的能力，而主要用于生产7纳米及更先进制程芯片的极紫外光刻机（EUV）目前仅有ASML能够生产，作为欧洲最大的科技公司，ASML目前的市值已高达2552亿美......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元(2022-05-23)
第二季度芯片制造设备的市场需求超过供应量，将上调长期营收预期，维持今年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变，并表示，2025年将能生产70多部极紫外光刻机。
封面图片来源：拍信网......
韩国总统尹锡悦会见荷兰光刻机巨头ASML CEO温宁克，共讨半导体合作(2023-07-31)
元之间。
EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，目前各方都在争取机会，以通过高新技术帮助本土芯片制造。此前，据日经中文网消息，日本......
ASML 一季度财报解读，EUV未出货订单累积到21台(2017-04-20)
，ASML的毛利高于行业平均水平，而其净利润24%也是超过行业平均的11.5%。
当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
）光刻机以及90台EUV（极紫外光）光刻机。
封面图片来源：拍信网......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
美光推出1β DDR5 DRAM：速度7200MT/s，每瓦性能提高33%(2023-10-11)
产品为16Gb LPDDR5X-8500。美光表示，这代1βDRAM将是美光最后一代采用DUV深紫外光刻机制造的内存芯片，之后将采用EUV极紫外光刻机......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元(2024-06-06)
Dassen）在近期的分析师电话会议中表示，包括和在内的两大客户都将在今年年底前拿到高数值孔径极紫外线（high-NA EUV）。本文引用地址：已经下单购买了这款最新的光刻机，并于去年12月底......
ASML全年净销售额增30.2%，2030冲击0.7nm工艺(2024-02-18)
了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片，并有望进一步推动摩尔定律的发展。
据了解，这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值（NA），能够......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？(2017-04-05)
%左右，其他的对手包括尼康，佳能等。
当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售了四台，单台的平均售价达1.1亿美元，最新......
每小时曝光160片晶圆！ASML新款EUV光刻机创记录(2021-10-21)
和业务摘要：
EUV（极紫外光）光刻业务：本季EUV系统的出货量和营收都刷新纪录。最新款的NXE:3600D EUV光刻系统在客户的生产线上创下了每小时曝光160片晶圆的记录。
DUV（深紫外光）光刻业务：15......
未来投资有望达2606亿，三星P3晶圆厂5月装机(2022-04-26)
，平泽晶圆厂将大量采用极紫外曝光设备 (EUV) 生产，报道提到，这一工厂的NAND闪存生产线，将采用极紫外光刻机生产第7代176层V-NAND闪存，而为其他厂商代工晶圆的3nm工艺，也需要极紫外光刻机......
国际光刻机大厂ASML上交亮眼财报！(2024-01-25)
兼首席执行官Peter Wennink表示，2023年未交付订单总额共计390亿欧元。2023年末，公司向客户交付了第一台高数值孔径极紫外光刻系统（High NA EUV）——EXE:5000的部分组件。
展望......
又一台天价光刻机，即将出货！(2024-11-01)
又一台天价光刻机，即将出货！;
据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！(2023-11-22)
市场高度集中，全球掌握该技术的只有少数几家企业，其中荷兰ASML是全球最大的光刻机企业，也是全球最先进的光刻机企业，此外，尼康、佳能、上海微电子装备等公司亦在积极布局光刻机领域。
而用于曝光半导体的极紫外光刻......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
-2026年每年扩大到90台低数值孔径极紫外光刻机，以及20台高数值孔径极紫外光刻系统（High NA EUV）；到2027年-2028年，每年将推出新光刻工具。
新的发展赛道即将来临
ASML、尼康、是全球光刻机......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
）、深紫外光刻技术（DUV）和极紫外光刻技术（EUV）不断向前延伸，其波长也从436nm、365nm、248nm，不断向193nm、13.5nm不断延伸。
每个制程技术节点用什么光刻技术，IEEE一直......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
，ASML也将其电源功率提升到200瓦特。
后记
上面EUV光刻机的介绍，是让大家知道，目前最先进的是极紫外光光刻机，光源是极紫外光，而关于中科院的中紫外光的波长是多少，半导......
多家光刻大厂扩产进行时：ASML公开年产690台扩充计划(2022-11-14)
扩大旗舰EUV设备产量。在2025年到2026年，将年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机。在2027年到2028年，增产20个系统High-NA EUV光刻机。
同时......
ASML 回击质疑：High－NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-04 09:58)
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻......
台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们(2024-06-06)
财务官Roger
Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。
英特......
单台成本3亿-3.5亿欧元，ASML新High-NA EUV有望2024年出货(2022-11-16)
芯片厂可能为了先获得设备展开激烈竞争。
此前ASML曾表示，计划在2025年到2026年进一步提高产能，包括年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机，同时，在2027年到2028年，增产20......
接受了荷兰当地媒体 Bits&Chips 的采访。在采访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
事关光刻机！美国开发新光源：效率有望提升10倍(2025-01-08 14:03:24)
极紫外光刻系统的能耗问题备受关注。以一般数值孔径（Low-NA）和高数值孔径（High-NA）EUV极紫外光刻系统为例，二者......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
代则248nm的KrF激光，第四代193nm波长的ArF光刻机，属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi，即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。
据悉，氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元(2023-09-08)
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。
NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。
ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
日本与荷兰签署半导体合作备忘录，助力采购ASML EUV光刻机(2023-06-27)
例，表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。
EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，荷兰对这类尖端设备进行出口管制，限制对华出口。根据日媒报道，日本......
ASML第三季度净销售额75亿欧元，预计年全年约280亿欧元(2024-10-16)
资者日所给出的预期范围的下半段区间。我们预计2025年的毛利率将在51%到53%之间，该数值低于当时的预期，主要由于市场对EUV（极紫外光）光刻系统的需求时间发生推迟。”......
与ASML平分市场，日本这家工程机械企业不容忽视(2023-06-30)
与ASML平分市场，日本这家工程机械企业不容忽视;据路透社报道，荷兰政府计划于当地时间6月30日宣布新法规，对ASML次顶级产品线深紫外DUV光刻机提出许可要求，此前，ASML极紫外EUV光刻机......
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限(2024-08-02)
极紫外光刻新技术问世，超越半导体制造业的标准界限;据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
市场占据主导，随后ASML在最尖端的极紫外(EUV)设备的开发竞争中实现赶超，随着极紫外光刻机在2010年后半期实用化，ASML逐渐占据光刻机市场主导地位。
作为......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机(2024-06-17)
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机;ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货(2022-11-28)
也是唯一的EUV光刻机的供应商。
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低，多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV
步骤......
俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！(2024-12-20)
俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！;
12月19日消息，据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容......
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本(2024-08-05 09:20)
极紫外光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本;据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻......
美光积极准备EUV技术，争取与三星及SK海力士竞争(2020-12-24)
美光积极准备EUV技术，争取与三星及SK海力士竞争;根据韩国媒体《Etnews》报导指出，目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光（Micron），因日......
ASML 回击质疑：High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择(2024-02-02)
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）仍是未来最经济的选择。本文引用地址：SemiAnalysis 之前刊发文章，认为......
华特气体四款光刻气产品通过日本GIGAPHOTON株式会社认证(2021-10-09)
过了日本GIGAPHOTON株式会社的合格供应商认证。
图片来源：华特气体公告截图
据介绍，日本GIGAPHOTON株式会社创立于2000年，是半导体光刻用准分子激光机、其他用途准分子激光机以及极紫外光刻......
存储大厂公布先进制程DRAM进展(2023-12-14)
进展。日媒报道，12月13日美光日本法人高层Joshua Lee对外表示，美光日本广岛工厂将在2025年生产最先进存储器1γ DRAM。Joshua Lee指出，美光将成为第一家将EUV（极紫外光）光刻机......
10亿一台仍供不应求，光刻机为什么这么值钱？(2024-05-05 16:19:28)
年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商，总部位于荷兰费尔德霍芬。
下面是最近ASML公布的极紫外光光刻机内部加工时的镜头，十分......
韩国半导体厂商周星工程研发 ALD 新技术，降低 EUV 工艺步骤需求(2024-07-16)
研发出原子层沉积（ALD）技术，可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻（EUV）工艺步骤需求。
极紫外光刻（EUV）又称作超紫外线平版印刷术，是一种使用极紫外光波长的光刻技术，目前用于 7 纳米......
相关企业
激光打标机、二氧化碳雕刻机、紫外光打标机），激光切割机（CO2切割、紫外光FPC切割机）及进口激光设备。最小激光光束可达0.005mm。广泛用于电子器材：手机壳、数码相机、电池、MP4/MP3的五
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
），UVB（280~315nm）系列，UVC（100~280nm）系列，UVV（100~400nm）系列，另有内置放大电路紫外光电管，紫外光电探测模块, 封装形式有贴片SMD1608,ø3mm,ø5mm
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;义乌市锐星照明电器厂;;锐星照明电器厂创建于2008年，从事生产制造冷阴极和热阴极，253.7紫外线杀菌灯管,UV紫外线杀菌灯管，254紫外线水杀菌灯管，同时也设计与生产冷阴极紫外
;海宁市洁康紫外线电光源厂;;浙江海宁洁康紫外线电光源厂是一家专业生产紫外线杀菌灯的企业，主要生产冷、热阴极紫外线灯管，可制作相应的电子镇流器，专业为水处理、空调、冰箱、橱具，坐便器，空气
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻