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将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以......
TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式，属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式)，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
胶配套高纯显影液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
新的出口管制条例主要针对先进的芯片制造技术，包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 据悉，这些规定将于2023年9月1日正式生效。因此，光刻机巨头ASML可以在此日期之前开始提交出口许可证申请，而荷......
造需求。 尼康披露旗下首款半导体后端工艺用光刻机 而尼康依旧想在ArF浸润式和ArF干法领域有所收获。据悉，尼康计划在2026财年之前陆续推出三款半导体光刻机，进一步通过增加氟化氩（ArF）干式、氟化......
也是唯一的EUV光刻机的供应商。 由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低，多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV 步骤......
制程节点上，同时用浸润式光刻和 EUV 系统进行量产，并达到 2.5 奈米的迭对精度(on-product overlay)。另一方面， 3D NAND 客户对于KrF 干式光刻系统的需求持续升高，目前......
发展先进半导体所需的技术和设备，都会被加入到禁售清单中，其中就包括DUV浸润式光刻机。 DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次......
康指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展，只能采取从低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机，以及周边设备材料等，EUV......
代则248nm的KrF激光，第四代193nm波长的ArF光刻机，属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi，即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。 据悉，氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
该公司指出，公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线，具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力，目前......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于......
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日，中国招标投标公共服务平台官网公示，上海华虹宏力半导体制造有限公司（以下简称“华虹宏力”）中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
等浸入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机......
收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。 据介绍，项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建......
！ ASML财报显示2023年ASML卖出了53台EUV光刻机，125台浸润式DUV光刻机，32台普通干式DUV光刻机，184台KrF光刻机，55台L-line光刻机，所有类型的光刻机合计449光刻机......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1......
每小时曝光160片晶圆！ASML新款EUV光刻机创记录;今日晚间，ASML发布2021年第三季度财报，EUV光刻机的出货量和营收都刷新纪录。 财报显示，ASML2021年第三季度净销售额为52......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩（ArF）”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品，可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机......
中国半导体厂商再引入ASML光刻机！;近日，上海鼎泰匠芯科技有限公司（以下简称“鼎泰匠芯”）洁净室交付，首台ASML光刻机设备搬入。 鼎泰......
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻......
和日本还没有正式公开宣布对华半导体出口限制措施的计划，但随着两国最终确定法律安排，实际实施可能需要数月时间。 ▲相关报道截图 如果上述消息属实，那么预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机......
兼CEO彼得·温宁克（Peter Wennink）表示，这主要得益于本季度浸润式DUV光刻机的超额营收，以及在第二季度开始浸润式设备快速发货带来的收入确认。“事实上，我们销售的浸没式光刻......
ASML否认特供版DUV：没有面向中国推出特别版光刻机; 日前有报道称，将面向中国市场推出特别版DUV，不过此事已经辟谣，ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机......
半年公司已导入多款高分辨KrF、ArF光刻胶（含干式和浸润式）和BARC底部抗反射涂层等产品在客户端验证，并陆续通过客户产品认证，其中ArF光刻胶已开始形成销售。 在溶剂领域，彤程新材借由高纯试剂的生产能力，实现半导体暨显示光刻......
ASML回应荷兰半导体出口管制新规：涉及DUV光刻机; 据证券时报，3月9日上午，荷兰巨头阿斯麦(ASML)发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。 同时......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米; 12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻......
还需要通过多个半导体芯片紧密相连的 2.5D 技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。 为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
荷兰芯片出口管制新规生效，光刻机巨头ASML发声;9月1日早上，荷兰光刻机巨头ASML在一份声明中称，该公司已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻......
有报道称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W设备。 上海微电子的第一大股东是上海电气控股集团有限公司，持股......
胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为......
主要被用于45nm以下成熟制程的生产。 依据ASML在声明中所言，主要关注成熟制程的客户，使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。 TWINSCAN NXT: 2000i 是ASML生产的一款用于半导体制造的光刻机......
，ASML用第一台步进式光刻机迈入中国市场，如今该公司在中国的总装机量已超过1000台。目前全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机。 数据显示，2021年，ASML在中......
需要比以往更先进的扫描仪校正和补偿功能。 据介绍，NSR-S636E是一款用于关键层的浸润式光刻机。尼康声称，它较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形，并实现了高重叠精度（MMO ≤ 2.1 nm）。NSR......
台的一系列半导体出口措施保持一致。 外媒消息称，在具体的执行层面，即是禁止向中国出售DUV浸润式光刻机，其先进程度比EUV光刻机落后一代，是制造7nm以上制程芯片的必备硬件。 据了解，在半......
胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付;据路透社报导，全球光刻机大厂ASML CEO Peter Wennink表示，尽管有些供应商遇到了一些阻碍，但今......
回顾步进式光刻机概念的诞生：一个关于直觉的传奇故事;......
:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di，此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号光刻机，为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式光刻机。 2023年3月......
胶以正性为主。按应用领域，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。而下文将主要围绕半导体光刻胶展开描述。 数十年里，半导体行业的迅猛发展离不开光刻工艺的进步，而光刻工艺必然也离不开光刻机......
位于荷兰费尔德霍芬的ASML在周一发布的一份声明中表示，荷兰政府最近部分撤销了其NXT：2050i和NXT：2100i光刻系统在2023年装运的许可证。 周二，ASML股价下跌2.6%。 ASML销售光刻机，这是......

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