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业务部长岩本和德还表示，如果改进光罩，纳米压印甚至可以生产先进制程的芯片。 佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。 更为关键的是，佳能的纳米压印设备成本和制造成本都远低于ASML的EUV光刻机。岩本......
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。   半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
华为哈勃新入股一家纳米压印设备厂商;企查查资料显示，7月30日，深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）（以下简称“深圳哈勃”）新增对外投资青岛天仁微纳科技有限责任公司（以下简称“天仁微纳”），持股......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
。 目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗;自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开 ASML（阿斯麦）的 DUV（深紫外）和 EUV（极紫......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
不再是实验室技术，佳能已经推出5nm纳米压印设备“FPA-1200NZ2C”。之前铠侠等一些日本半导体厂商曾尝试使用该技术来替换EUV，但因为内部颗粒污染、良率过低等问题没能实现商业化，看来......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备;于 10 月 13 日宣布，已将 FPA-1200NZ2C 商业化，这是一种纳米压印半导体制造系统，利用（NIL）技术实现尖端半导体电路的形成，并于......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML;12 月 27 日消息，佳能今年 10 月宣布 FPA-1200NZ2C，这是一款纳米压印光刻（NIL）半导体设备。 佳能......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
日本佳能公司推出纳米压印半导体制造设备;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 随着......
用满足全球最严格生产要求的标准化生产方法方面拥有丰富的经验。此次是纳米压印工艺设备和服务提供商与纳米压印母版生产商之间的首次合作，对行业来说是一次巨大的胜利，我们将通过合作，帮助我们的客户迅速扩大NIL应用......
新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。 纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移;佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。 （FPA-1200NZ2C......
这项技术的实际生产速率也慢得没朋友。 世界不是没有研究这项技术，美国、欧洲、中国都有科研机构着重研究了这项技术，但生产效率太低，所以只适合特定场景。 所以，除了EUV，我们没有任何其它手段了吗？那也未必，纳米压印......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道，佳能表示，首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备，不过这将用于试运行。 报道称，这些新设备的工作原理是在晶圆上压印......
于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造，纳米压印设备的构造更为简单，功耗仅需十分之一。同时还能通过单次压印形成复杂的三维电路图案，能够处理用于最先进逻辑芯片的极细电路。 据悉，这次交付的首台设备......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
2023 年 10 月公布 FPA-1200NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。 佳能半导体设备......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
点是产能低，效率低，无法大规模量产芯片，只能实验室用，但也不失为一条新的路。 第二条路是纳米压印，也称NIL技术。原理是电路图设计出来后，刻在纳米板上，再像印书一样压印在硅片上。 这种的优点非常多，比如......
佳能推出纳米压印半导体制造设备，执行电路图案转移; 宣布推出FPA-1200NZ2C设备，该设备执行电路图案转移。自日本(Canon)官网获悉，10月13日，宣布推出FPA-1200NZ2C设备......
基于纳米压印超构透镜阵列的增强现实方案;研究人员基于超薄纳米压印超构透镜阵列开发出一种透视增强现实（AR）原型，开创了一种全彩、视频速率和低成本的3D近眼显示方案。 据麦姆斯咨询介绍，集成......
研发制造基地。 根据报道，此次吉佳蓝与无锡高新区、市产业集团签约合作在锡落户中国总部项目，将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一......
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。 KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
人高育龙将嵌入式印刷平台从工艺流程和技术支撑两个维度拆分为6个板块，依次是：设计、制版、纳米压印、嵌入式印刷，以及用于支撑工艺的材料和设备。昇印的研发团队正是按照上述分工构建而成，即强大的昇印科学院。自成立以来，昇印搭建了16人的软件团队，设计......
纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？; 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到......
产品验证线，同时计划引入纳米压印光刻设备生产，努力打造海外优质半导体装备项目示范标杆，进一步增强无锡集成电路产业核心竞争力。 据悉，吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业，主要......
：Coherent高意公司 光学元件的创新是显著降低工业激光器拥有成本(Cost of Ownership)并加快其在现有和新应用中采用的关键因素。Coherent高意利用其专有的纳米压印......
制造技术赋能百业——纳米压印技术平台的价值》。他介绍了纳米压印技术的产业化历程，突出其技术优势和应用拓展情况。同时，罗博士重点探讨了纳米压印技术平台的价值，以及新维度公司在该模式的布局情况。他指出，纳米压印......
纳米压印（NIL）半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。随着模具技术改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。 13日当日，美迪凯、晶方......
资5亿元。 海门开发区微平台消息称，半影光学（南京）有限公司主要致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务，该公司生产的光掩模产品在技术上突破了传统纳米压印......
都有所规划，并且已经持续数十年，它就是国际器件与系统路线图（IRDS）。 根据路线图规划，极紫外光刻（EUV）、导向自组装（DSA）和纳米压印光刻（NIL）是下一代纳米制程节点的技术候选方案。不过，纳米压印......
路线发展受欧美限制，且该技术路线前景灰暗的情况下，中国大陆厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随，还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径？将会面临困难的抉择。比如佳能去年就推出了面向先进制程的奈米压印设备......
厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影的量产技术。当前铠侠已掌握15纳米的制程量产技术，目前正在进行15纳米......
加工（（非）柱面微透镜、2-20 微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于 3 微米的双面微透镜结构等特殊微纳结构，并可制备特定角度的微棱镜形成集成式一体化微透镜。 SMO自主研发的纳米压印......
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻......
厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL) 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
端的SPAD传感器、光子计数CT、利用深度学习的图像处理技术、下一代商业打印技术和纳米压印光刻，因此该公司取得了诸多技术专利。 美国作为庞大的市场，且拥有众多的高科技公司，对于......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
了炬光科技的企业发展历程、海外并购布局及企业发展战略，并着重介绍了炬光科技公司所掌握的核心微纳光学技术，例如行业领先的光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术、纳米压印......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备......
应用于制造绘制半导体电路图案的"光掩膜"板，用于下一代图案转印的纳米压印光刻技术的 "模板"，以及为传感器MEMS提供代工服务等。通过运用在过去业务中积累的玻璃和硅基板加工以及处理技术和微缩布线技术，此次......
电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与测量设备，以及光刻胶涂布机、清洗......
（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领先供应商。主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/光刻纳米压印（NIL）与计量设备......
在做一种“纳米压印”光刻技术——达成光刻的方法和“光学曝光完全不一样”，“类似于盖章，没有复杂的光学元器件”，不是通过图案mask（掩模板）后微缩曝光，而是一种“等比例”的技术，“reticle上面是多少纳米......
电子领域的ALD设备，以及年产40套半导体领域ALD设备的生产规模。 微导纳米表示，通过募投项目的实施，将有助于公司把握下游行业发展趋势，持续升级现有产品，提高公司薄膜沉积设备的生产能力和市场占有率，促进半导体装备国产......
，其中北方华创刻蚀设备已应用于7纳米和5纳米生产线；中微半导体刻蚀机已经达到5nm水平，并应用于台积电产线。但先进设备研发难度很高，国内厂商仍任重道远。 02 半导体设备国产......
曙光白配色，采用无量象限ID设计，延续了曙光基因，黑白构成设计美学，搭配幻彩RGB LOGO，RGB贯穿式曙光灯环，自带光芒，又酷又闪，出场即焦点。金属A壳，电泳工艺，纳米压印，在质......

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