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了28nm光刻机样机，EUV光刻机正在紧张攻关，已取得重大进展。 长春光机所克服了反射镜技术问题，双工作台精度达到5nm，EUV光源系统有重大突破，2025年，国产芯片可达70%资产率，国产EUV光刻机......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
公众对半导体产业链有很多认知误区： 误区一，有了光刻机就能制造芯片？因众所周知的原因，我们拥有强大的芯片设计能力，但却无法将其实现并量化。如果在以前，全球分工明确的环境下，这些都不是问题。但在当前大冲突的背景下，我们......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降。 ASML硬气......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
两年是芯片缺产能，然而今年下半年开始市场需求不足，芯片产能又大增，台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称，由于5nm芯片的利用率下降，台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机，该公......
上了，EUV光刻机有储备。 更具体地说，台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺；预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能；亚利......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
等浸入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机......
/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。 目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
的5nm制程的先进半导体制造设备市场，则由ASML的EUV光刻机所垄断，单台价格约1.5亿美元。 对于接下来更为先进的及以下制程的芯片，ASML也推出了成本更为高昂的High-NA EUV光刻机，单台......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！;尽管半导体产业仍处调整周期中，但部分应用市场需求强劲，正吸引半导体厂商积极扩产，而在芯片制造过程中，制造设备不可或缺。近期，为满足市场需要，全球光刻机大厂ASML又有......
向塔斯社报告了这一点。 他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10......
-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶......
突破了纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
又一台天价光刻机，即将出货！; 据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
加大在光芯片领域的研发和投入，这也使得ASML光刻机不再是必需品。如今的芯片市场上以电子芯片为主，这些芯片以一个或多个电压来产生信号，从而组成千变万化的数字、模拟电路。但是随着制程不断突破，5nm、4nm......
ASML柏林厂大火恐将影响EUV光刻机供应...;市调机构TrendForce在最新调查中指出，占地32,000平方公尺的柏林厂区中，约200平方公尺厂区受火灾影响。而柏林厂区主要制造光刻机......
是可以进行多次曝光。 至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程？据台积电前研发副总林本坚（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻机，是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm，但要......
部件会直接缺失。 但DUV光刻机荷兰的本土化率很高，缺失的部分中国大陆也都可以提供。换句话说荷兰的DUV光刻机可以完全的非美化，不用任何的美国零部件都能造出来，甚至可以完全的非美国盟友化。 实现成熟制程工艺国产......
、镀膜、热处理等设备的国内自给率已经相对较高，都达到了≥10%的水平。而像光刻机、涂胶显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是芯片制造的核心设备光刻机方面。 ·国产光刻机比ASML落后15......
就需要用到一种设备——光刻机。 目前上海微电子装备公司生产的600系列光刻机代表了中国的最高水平，加工精度只有90nm。而世界上最先进的光刻机，荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）已经可以满足5nm......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”，其数值孔径（NA）为0.55，可用于制造5nm及以下（2nm/1nm）芯片产品，预估......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
的制程节点受益。 Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜，机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价，每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价，显然还是要低很多。此前有报道称，业界......
着芯片制造技术的提升，一些半导体设备，制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识，只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的，一方......
EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程，这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示，因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果，使台......
开消息显示，英特尔目前已获得ASML的先进光刻机，极紫外 (EUV) 光刻机。 据悉4月上旬，英特尔在位于爱尔兰Leixlip的Fab 34工厂，完成了首台极紫外（EUV）光刻机的安装，Fab 34......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？; 来源：内容来自 华盛证券，作者华盛九叔 ，谢谢。 据相关机构统计，整个2016年，ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58......
实施出口管制的六大技术，都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关，尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。 “用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”涵盖EUV光刻......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场，也是唯一能量产EUV光刻机（可生产7nm/5nm的芯片）的厂商。 据半导体咨询公司VLSI Research发布的“2019年全......
可怕的台积电，一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明：本文内容来自经济日报，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢。 巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
进的高数值孔径EUV设备的数值孔径将从0.33提高到0.55，这意味着设备可以绘制更精细的电路图案。 自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm、5nm、3nm工艺，台积......
Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破产重组）提供90-250nm芯片制造，拥有8英寸晶圆厂，两家都以提供军用、航天和工业领域芯片产品为主。因此，预计新的国产光刻机......
入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i......
时会引入两台EUV极紫外光刻机，一旦成熟就会投入量产。 AMD、IBM都对GF的进展表示了祝贺，GF也提出将继续深入研究下一代5nm，并继续与IBM、三星合作。 后两家都已经公布了5nm......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中......

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