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非常复杂，不是申请几项专利就够的。一个EUV光刻机有10万个零部件，还有，EUV光刻机还需要光刻胶等上下游产业链的配合，此外还需要测量台与曝光台(双工件台)、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
细，显然量子芯片才是未来的方向。 其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
通过改进透镜和镜台等光学零部件，来提高曝光精度，增加布线密度，从而实现3D光刻，用以满足人工智能领域所需的大型半导体的生产需求，佳能新型3D光刻机有望于明年上半年上市。 TSS 2022亮点......
应对这些挑战，涂层/开发人员正在联合高NA实验室来安装先进的制程模组，以其能够处理含金属的抗蚀剂。 事实上，采用0.55NA值的第2代EUV光刻机比第一代采0.33NA值的EUV光刻机有......
胶为 2-3 年。但验证过之后便会形成长期供应关系，甚至在未来会推动企业之间的联合研发。 原材料成膜树脂具有专利壁垒。树脂的合成难度高，通常光刻胶厂商在合成一种树脂后会申请相应的专利，目前树脂结构上的专利......
麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch......
的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
将问世，2030年实现全面量产，生产4nm芯片。这突破将让ASML不安。 虽然技术攻克还有路要走，但中国具备突破EUV光刻机核心技术的实力，2025年国产EUV光刻机有望面世。2030年，国产......
上了，EUV光刻机有储备。 更具体地说，台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺；预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能；亚利......
%，而尼康当年光刻机业务亏损达到70亿日元，双方当初的十年之约也已到期，尼康又卷土重来。 2017年，尼康就就浸没式光刻相关11项欧洲专利和2项日本专利分别在荷兰海牙 、德国曼海姆和日本东京对ASML......
技术正不断向10nm级别靠近，甚至未来有望突破10nm以下，这一过程中，EUV光刻技术也将在未来发挥更加重要的作用。随着美光1γ DRAM开启EUV时代，三星等存储大厂继续深耕EUV，未来EUV光刻机有望在DRAM生产......
大公司文化的贡献，他的领导力、毅力和远见。我们向 Wim 的家人表示哀悼。” 特鲁斯特是飞利浦晶圆步进机的开发人员，也是在飞利浦管理团队会议上唯一一个表示对光刻机有研究兴趣的人。1984 年，飞利浦和 ASM......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
。 生前，他曾是飞利浦晶圆步进机的开发人员，也是在飞利浦管理团队会议上唯一一个表示对光刻机有研究兴趣的人。当时，他几乎是单枪匹马地在资源匮乏的情况下维持了项目的运转，并寻......
。 国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机......
独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。 未来，三星......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中，你将了解到：纳米压印光刻能绕开光刻机吗，纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势，纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
DUV光刻机将受限？荷兰拟对华实施半导体出口新限制;据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布了这一决定，称限制措施将在夏季之前出台。信件......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机......
取得了巨大的成功，ASML成为光刻机市场的老大，台积电则在芯片居于全球领先水平，而日本的佳能和尼康则迅速衰落。 自进入5G时代后，我国在诸多科技领域赶上甚至对西方形成了反超，比如华为，这是全球5G核心专利......
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机;3月26日，格科微官微宣布，目前公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，今年2月16......
形成积极的反馈循环。 2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。 「但技术的演进需要多年的持续研发，我们......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息，日前，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
这种原材料主要掌握在国外企业手中，全球的年产量为6万吨，国内产业约为5000吨。而且，均苯四甲酸二酐的纯度关乎于聚酰亚胺的成败，如果纯度不够，更容易产生副反应，导致生产的聚酰亚胺纯度不达标。 专利壁垒 如今的光刻......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利;近日，据国家知识产权局官网消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。 集成......
松博士也明确说中芯国际可以不用EUV的光刻机实现7nm工艺（当然后面5nm/ 3nm还是要用的）。 从TSMC的历史经验来看，第一代7nm（低功耗的N7）没用EUV，后面一些衍生版本才用到——而且......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
高通回应苹果：你曲解了我基带的巨大价值; 版权声明：本文内容整理自网络，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢。 日前，苹果向高通发起诉讼，索赔10亿美元，称其利用在手机芯片领域的垄断地位征收不合理的专利......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
化学等。 今日所述的JSR东京日化、信越化工、住友化学等则是业界知名的日本光刻胶企业。从市场格局来看，日本占据了全球9成左右的光刻胶市场份额，并且全球专利分布前十的光刻胶公司，约有7成来......
盛美上海：Track设备预计明年年中完成与光刻机对接工艺测试;12月21日，盛美上海披露最新的调研纪要，公司Track设备目前在客户端验证进展顺利，预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试；此外......
上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司......
售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！; 芯片规则实施之后，台积电与中企的合作被中断，而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML，自然也成为了美国的主要针对对象，在签......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于......
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......

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