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佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日,日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
半导体芯片层叠而实现高性能的 3D 技术,满足客户多样化、高性能需求的同时,助力客户降本增效。 为了减少投射光学系统的像差,新产品首次将应用于前道工艺光刻机的校正非球面玻璃搭载在后道工艺的光刻机上。与以......
半导体芯片层叠而实现高性能的 3D 技术,满足客户多样化、高性能需求的同时,助力客户降本增效。 为了减少投射光学系统的像差,新产品首次将应用于前道工艺光刻机的校正非球面玻璃搭载在后道工艺的光刻机上。与以......
用小芯片技术设计的芯片,采用的是不同的架构,依赖的是芯片制造的后道环节。传统方法现在依赖的是ASML的光刻机和台积电的制造技术,而小芯片技术则不然,所依赖的是先进封装光刻机和先进封装技术。 上面......
导体芯片的制造工艺中,光刻机负责 " 曝光 " 电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道......
体设备是集成电路产业链自主可控的核心环节,可以分为IC制造设备和封测设备两大类。IC制造设备大致可以分为11大类,50多种机型,其核心有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道......
体设备也随之受益。据公开信息显示,半导体设备是用于生产各类型集成电路与半导体分立器件的专用设备,主要包含前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两大类。 前道工艺设备(晶圆制造)用于晶圆制造环节,设备产品包括光刻机......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
连ASML都发出了警告称,中国能够制造出一切他们所需要的产品。 而在芯片制造后道,封装环节部分中企也同样取得了突破,不仅发布了自己的原生小芯片技术标准,还实现了4nm芯片的封测技术,并且推出的国产封装光刻机......
设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。在半导体后道封装光刻机领域,上海微电子颇具优势。官方信息显示,2009年12月,公司首台先进封装光刻机......
设备(特别是EUV光刻机)等领域仍存在一定差距,但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域,中国企业已经取得了一定的市场份额,并逐步实现国产化替代。 市场......
。 首先是中国的国产替代逐渐成长,ASML担心自己的市场被抢。在后道光刻机产品中,上海微电子的光刻机产品,在国内的市场占有率达到了80%,全球也拥有接近40%的市场。 中国芯片制造企业以现有的DUV......
高性能模拟芯片生产线...详情请点击 光刻机巨头ASML扩产 面对全球芯片短缺,英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。 3月29日,据路透社消息,全球光刻机......
设备基本可以覆盖半导体制造流程的各阶段所需(除光刻机外),各领域设备国产化率及主要厂商如下图所示。 图片来源:全球半导体观察制表 整体上,我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高,在CMP、热处......
包含前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两大类。 其中,前道工艺设备(晶圆制造)用于晶圆制造环节,设备产品包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、CMP设备等。 后道工艺设备(封装......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
前道工艺可以类比晶圆制造,并不难理解。并且,光罩的图形也是二维的,不需要构建Source和Drain,所以相比晶圆制造的工艺流程,就显得没有那么复杂。 光罩制作的后道工艺就很不一样了。由于光罩的用户是光刻机......
战略合作协议。 公告指出,根据协议,光瞳芯将独家为叠铖光电提供超宽光谱叠层图像传感芯片的晶圆异质叠层以及测试等工艺技术服务。 晶圆异质叠层工艺复杂,必须利用光刻机、刻蚀机、薄膜沉积、晶圆检测等一系列前道及后道......
半导体领域。  除了历史悠久,经验丰富之外,公司在光刻胶方面有一个很大优势,就在于自己拥有5台光刻机,这一点与程彤新材旗下子公司北京科华类似。公司2020年购买了阿斯麦1900 Gi型光刻机,2021年下......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效,我们一直走在制程微缩的道路上,但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽,越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此,光刻机......
技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称“《目录》”)。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显,消费电子市场芯片亟待"去库存",然而车用芯片等市场仍旧供不应求,上游半导体设备供应紧俏引发关注,其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世:1nm工艺; 据报道,在工艺进入7nm节点之后,EUV光刻机是少不了的关键设备,目前只有能制造,单台售价10亿人民币,今年底还会迎来下一代EUV光刻机,价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温,EUV光刻机成为市场“香饽饽”,引发业界关注。 目前,英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备,并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口!国家迅速回应,外媒:荷兰将光刻机事情闹大了;近年来,行业发展迅猛,成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业,其对华出口的态度一直备受关注。然而,最近......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内,对EUV的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机(EUV)目前是先进半导体制程中,不论是DRAM或晶圆代工生产过程中,进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
上海新阳:ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日,上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示,公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展,美方不仅施压荷兰光刻机制造商,还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机,以及......
上海新阳半导体:公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间,上海新阳半导体发布公告,称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道,随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机,对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加,他们......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息,针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品,炬光科技回应称公司是ASML公司......
售价3.8亿美元!ASML正式宣布,外媒:光刻机市场“变天”了!; 芯片规则实施之后,台积电与中企的合作被中断,而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML,自然也成为了美国的主要针对对象,在签......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日,苏州晶瑞化学股份有限公司(以下简称“晶瑞股份”)发布公告称,经多方协商、积极运作,公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台,并于......
晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
考虑扩大在刻蚀设备领域的竞争优势,延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。 图片来源:中微公司2020年度业绩说明会视频截图 至于业界关注的光刻机研发计划,尹志尧则表示,公司......
3倍,光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺,英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日,据路透社消息,全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其......
胶已进入三星电子量产线的东进世美肯,也在准备为下一代的极紫外光刻机,也就是高数值孔径的极紫外光刻机(high-NA EUV)研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示,东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
布林克(Martin van den Brink)近日称,这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术......
25亿一台!英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装:展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美......
尼康计划推出支持3D半导体的光刻机,目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道,尼康计划在2025财年(截至2026年3月)将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年(截至2022......
ASML新一代EUV光刻机,一台售价近27亿元;据路透社报道,半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元(约合人民币26.75亿元)的新旗舰光刻机,有望2023年上半年完成原型机,最早2025......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机:成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难,光刻机龙头ASML也是举步维艰,一点点改进。ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......

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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如:布料花边冲孔,布料激光裁剪,有机玻璃、压克力制品加工,导光板切割,皮革打孔。激光刻字,金属件刻字,塑胶件激光打标,激光焊接加工。
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司
;南京华运天瑞激光设备有限公司销售部;;南京华运天瑞激光设备有限公司销售部是激光打标机、激光刻字机、激光机、激光雕刻机、激光刻字加工、激光打标加工等产品专业生产加工的有限责任公司,公司