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俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具?;近期,俄罗斯国际新闻通讯社报道,俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用于蚀刻......
创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机,第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案,俄媒称其目的是直接用于形成纳米......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期,国际新闻通讯社报道,在开发可以替代的工具。据悉,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片,这将......
成本几十万,俄罗斯也要自研“光刻机”?;据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体,在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称,第一台用于无掩模纳米......
挑战泛林集团,东京电子2025年推新型蚀刻机,可生产超400层堆叠NAND芯片;近日,全球半导体设备龙头东京电子表示,将于2025年开始发货其正在开发的新型蚀刻设备,据悉该新型蚀刻机......
、圆盘蚀刻机、精密曝光机、显影生产线、水平电解退钛线等一系列先进的金属蚀刻、前处理设备和辅助设施。 5.北京正盛鸿成电子科技有限公司 成立于2003年,是一家集技术研发、设备制造、产品加工、技术......
纳米(EUV)。 EUV是线宽突破10纳米,甚至之后的7纳米5纳米、3纳米工艺的关键。 Source:ASML 华创证券调研报告显示,半导......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具:还要生产7nm芯片; 10月10日消息,这对于ASML来说是不是有点魔幻,俄罗斯号称开发出可以替代的芯片制造工具。 据俄罗斯国际新闻通讯社报道,圣彼......
消息得到了几家设备制造商的证实:Philoptics生产激光切割机,FNS Tech生产用于薄膜晶体管的湿式蚀刻机,KCTech制造清洗机,HIMS制造......
邻近校正 (OPC) 以及集成图案化和蚀刻技术。准备工作最近取得了首次曝光,首次展示了使用0.55NA EUV原型扫描仪在Veldhoven的金属氧化物光刻胶 (MOR) 上印刷的10纳米密集线条(20......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个......
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息,目前,ASML High NA EUV光刻机仅有两台,如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。 当地......
下一代光刻机,万事俱备了吗?;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产;动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣,这要归功于 ASML......
%。 台积电指出,CFET晶体管现已在台积电实验室中进行性能、效率和密度测试,并已经实现了48nm的栅极间距 台积电在其CFET晶体管工艺中,尝试将纳米片中和锗的交替层进一步隔离。例如,台积电通过特定的蚀刻方法去除纳米......
,2纳米的精细可想而知。 未来,只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩,因此这些设备纵使卖到上亿欧元,都能被客户所接受。 今天是《半导体行业观察》为您......
星电子副会长李在镕开启了7日欧洲穿梭之旅,据韩媒报道,他将与光刻机巨头ASML进行接洽,争取EUV光刻机优先供货。据悉,3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示,ASML在2021年出......
压印光刻系统FPA-1200NZ2C,佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案,相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。 另据佳能透露,经由改良、期待未来NIL光刻机......
使得市场人士担心将影响到整体半导体制程的研发状况。 只是,对于ASML在第2代EUV光刻机可能遭遇研发瓶颈,因此将延后问世的情况,如今有来了神队友的救援。外媒报道指出,日本最大半导体镀膜极蚀刻设备公司东京电子(东京......
导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一,在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化。 目前,其承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单,累计......
一部分都要用于购买半导体设备,其中主要的采购厂商包括了ASML、KLA、应用材料等,他们供应的曝光机、蚀刻机等都是制造3纳米制程的重要设备。 根据统计,全球排名前5的半......
进一步提升性能、降低功耗和成本,也能够加速2nm芯片的到来。 值得注意的是,三星在5/4nm时代因良率不佳导致订单落后于台积电后,希望通过下一代的产品技术革新扭转局面。这种背景下获得了新一代EUV光刻机......
。如果进行两次完整的光刻/蚀刻循环来创建双重曝光,那么循环时间会增加。据专家介绍,如果您的工艺有25个光刻层,其中有5层需要双重曝光,那么您将会有30个光刻循环。 “这是看待问题的另一种方法,对于......
工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。 报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作,准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。 三星......
难使用同样的波长填满更小的晶体管。EUV光刻技术有望降低波长,在芯片上蚀刻出更细微的特征。这种技术有望实现7纳米工艺,但即便已经投资了数十亿美元研发资金,这种技术依然很难部署。 MIT认为,他们......
Electron)的蚀刻机、尼康(Nikon)光刻设备、爱德万测试(Advantest)的测试设备等等十多家半导体公司的产品和业务。 日本经济大臣西村康稔表示,日本......
生产导入EUV(极紫外光)设备,其DRAM芯片产品皆采用DUV(深紫外光)光刻机制造。 近期,媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产,预计......
垂直通道的难度随着深宽比的增高逐渐加大。 除高难度和低良率外,高深宽比蚀刻也是一项耗时耗财的工艺:目前每次这种蚀刻约需要 1 小时,NAND 原厂若想提升产能,则必须购进更多的蚀刻机台。 因此铠侠在 BICS8 中使......
亿欧元,毛利率为48.6%,净利润达36亿欧元。 EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备,主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年,ASML共销售31台EUV,较前一年增加5台,创收45......
晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
可怕的台积电,一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明:本文内容来自经济日报,如您觉得不合适,请与我们联系,谢谢。 巴隆周刊(Barrons)报导,艾司摩尔(ASML)上周......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
,2020年推出5纳米,今年3纳米也即将量产。此外,据TrendForce集邦咨询数据显示,台积电在2021年第四季前十大晶圆代工业者中占据首位宝座,其2021年第四季营收达157.5亿美元,季增5.8......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备......
室也是有够疯狂的了! 但Zeloof在车库造芯的脚步,至此还并没有停止。 据WIRED介绍,Zeloof最近升级了他的光刻机,可以把工艺缩小到300纳米......
从事电子湿化学品、电子特种气体和半导体前驱体的研发、生产和销售。其中,电子湿化学品主要产品包括电子级氢氟酸、电子级硫酸、电子级硝酸、电子级盐酸、电子级氨水、缓冲氧化物刻蚀液、poly蚀刻液等;电子......
350nm,俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息,据外媒报道称,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出,该设备可确保生产350nm(0.35μm......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中,佳能的策略是专注于KrF和i-line,而不涉及EUV......
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出,2024年将开始生产350纳米光刻机......
湖南德智新材料半导体用碳化硅蚀刻环项目完成主体工程建设,将于明年初投产;据“株洲高新技术产业开发区管理委员会、株洲市天元区人民政府”官网消息,在新马工业园内,湖南德智新材料有限公司(以下简称“德智......
在2024年对2纳米制程开始风险性试产,2025年开始量产。 2纳米不是芯片生产的终点,2022年5月,IMEC(微电子研究中心)对外公布了1纳米以下至2埃米(A2)的半......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局:三分天下 光刻机是半导体制造的核心,用于将电子电路蚀刻在基板上。目前,ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前,尼康和佳能曾在光刻机......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后,佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能,以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外,在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求,佳能也在致力于推进纳米......
约43亿美元,SK海力士与ASML签署EUV光刻机采购合同;据路透社报道,SK海力士于2月24日宣布,已与ASML签订了一项为期5年、价值4.8万亿韩元(约43.4亿美元)的采购合同。SK海力......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称“《目录》”)。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm......
也将芯片的封装订单交给了通富微电,而且还是签订的长期订单合同,可见在封装技术上,我们已经反超了。 另外在芯片前道制造的相关设备上,我们也取得了诸多成果,例如蚀刻机就实现了5nm的量产,并且......
出了全球首个采用全栅极(GAA)技术的3纳米半导体芯片制程技术后,三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机,目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术,2025年进入2纳米制程技术,并在2027年进入1.4......
三星:3纳米制程代工市场2026年将达242亿美元规模;据外媒报道,三星电子研究人员日前在该国举行的EUV光刻机生态体系会议上表示,到2026年,全球3纳米工艺节点代工市场将达到242亿美......
成本抬升,每片芯片价格将上涨高达50%。 建造一座月产量5万片晶圆的2纳米晶圆厂成本约280亿美元,同样产能3纳米晶圆厂成本约200亿美元,成本提高来自EUV光刻机增加,2纳米比起3纳米需更精细制程,要保......

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;罗智文;;佛山市利达蚀刻机械厂是专业生产和制造蚀刻机、显影机、去膜机、清洗机、曝光机、烤箱等产品的厂家,公司总部设在佛山市禅城区张槎大富工业区16号A4,利。佛山市利达蚀刻机械厂的诚信、实力
;智鹏五金机械厂;;本公司业务范围如下机械:制造蚀刻机(腐蚀机)晒版机 拉网机 丝印机 钟表腐蚀机 工艺饰品蚀刻机器材:蚀刻器材 感光油墨 抗酸油墨 腐蚀剂蚀刻加工:标牌铭牌 手表配件 电子
;艺峰科技;;专业生产开发销售.系列广告设备.各类标牌机.腐蚀机.蚀刻机.环保蚀刻机.铜锌腐蚀机.购机后免费培训.常期提供技术支持.
类:吸气丝印台、半自动丝印机、 全自动丝印机、双面滚涂机 ③烘干类:恒温烤箱、遂道炉 ④感光类:双面精密曝光机、晒版机 ⑤显影类:显影生产线 ⑥蚀刻类:水平蚀刻机、平曲面蚀刻机、 圆盘蚀刻机、SMT钢网蚀刻机
;深圳市龙岗区云林机械配件经营部;;深圳市云林机械设备经营部座落于深圳龙岗镇,专业从事五金蚀刻设备,PCB/FPC电路板设备。主要经营:五金蚀刻机、转盘蚀刻机蚀刻生产线、显影线、成品清洗机、抗氧
药白、镭射牌制作等各种广告技术。 京豫科技公司 专业制造标牌设备,金属蚀刻设备有晒板机,蚀刻机,自动上色机,电镀设备,铝氧化设备,精密蚀刻设备等等。我们供标牌机、雕刻机、镂空机 腐蚀机,蚀刻机,烂板机。
生产销售电子设备、标牌设备、蚀刻机、精密蚀刻机,不锈钢蚀刻、金属蚀刻机、电泳涂装设备、电镀设备、数控设备、曝光制版设备等,并为广大企业、工厂、个体按需求订制单机、成套设备、生产
设备、金属上色机,电镀机,铜版画机,电泳机,刷镀机,堆金机,蚀刻机,电腐蚀机,金属蚀刻刻字机,自动上色机,电镀设备,铝氧化设备精密蚀刻设备,标牌机、雕刻机、镂空机 腐蚀机,蚀刻机,烂板机。设备
司坚持可持续发展,不断创新,先后推出了镜片退镀机、喇叭网镂空双面蚀刻机、金属铭牌双.单面蚀刻机、钟表园盘蚀刻机;磨板机及金属拉丝抛光机等等一系列先进的蚀刻设备,能在不锈钢、铜、铁、铝等金属上蚀刻各种图案,已经
;上海市阿康工贸发展有限公司;;我公司专业生产金属蚀刻机 ,金属打标机,电焊机,点焊机,等离子切割机