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ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。 英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作，并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！; 众所周知，作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。 先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机......
在新北市林口工一产业园区内新建厂区，扩大产能。 说起芯片产业，就不得不提起ASML。作为全球最大的光刻机厂商，无论是用于14nm及以上的DUV光刻机，还是用于10nm及以下的EUV光刻机，ASML都是......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机;ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
，预计到2029年左右能过量产1nm，配合多重曝光可以在2033年前后做到0.5nm的量产，至少也能支持到0.7nm。 接下来的Hyper NA光刻机预计将达到0.75甚至更高，2030年前......
1.4nm，预计到2029年左右能过量产1nm，配合多重曝光可以在2033年前后做到0.5nm的量产，至少也能支持到0.7nm。 接下来的Hyper NA光刻机预计将达到0.75甚至......
进的下一代 EUV 光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML 的下一代 EUV 光刻机试验型号最快明年出货，2025 年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种 EUV 光刻机的售价将达到 4......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了;6月16日消息，去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外，同时正在研究更强大的Hyper NA......
实现更小的临界尺寸和金属间距，从而支持制造更小尺寸的芯片。目前，台积电和三星等其他半导体制造商也将陆续接收这种光刻机，预计将能够支持达到1nm工艺左右的芯片制造。 下一步，ASML正在研究下一代Hyper......
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片，目前正寻求产业链的合作。 2nm关键设备EUV，厂商“抢疯了” 随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强，半导......
许标志着这家三星电子在先进半导体制造领域取得重大进步。 ASML独家提供的极紫外光刻机对于2nm以下更先进制程的工艺至关重要，三星此前曾设定了到2027年实现1.4nm工艺商业化的目标，行业人士表示，三星将加快其1nm芯片商业化的开发工作。 据悉......
的耗电量就相当于全台2.3%的用电量了，台积电所有工厂将占到全台15%以上，对于供电提出了更高要求。 至于为什么耗电量这么大，一个重要原因就是1nm需要下代EUV光刻机，总功耗将达到2MW，也就是200万瓦......
工厂的耗电量就相当于全台 2.3% 的用电量了，台积电所有工厂将占到全台 15% 以上，影响极大，对供电的要求很高。 为何耗电这么大?一个重要原因就是 1nm 需要下代 EUV 光刻机......
突破了纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
向半导体芯片制造的前道工艺和后道工艺中，在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营，持续为半导体设备的技术创新做出贡献。   ※1. 使用了i线（水银灯波长 365nm）光源的半导体光刻设备。1nm（纳米）是10亿分......
光刻机设备，对工厂启用、维修检查提供协助。 1nm级别芯片，何时亮相？ 2nm之后，晶圆代工厂商关注焦点将是1nm级别芯片，按照晶圆代工厂商的规划，2027年至2030年，业界......
制程也一直在向前，未来当纳米数突破1nm，又有哪种光刻技术胜出，也未可知。 从俄罗斯方面来看，虽然有些新闻看似有点"可笑"，但面对卡脖子，他们没有停止，这种精神值得褒奖。光刻机本来就是全世界的成果结晶，如果......
ASML 正在准备向客户交付首台 High-NA EUV 光刻机，大概会在明年某个时间点完成。另外，High NA EUV光刻机可以用于生产制造1nm以上制程的芯片，主要是用于生产制造2nm等芯片，单台......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”，其数值孔径（NA）为0.55，可用于制造5nm及以下（2nm/1nm）芯片产品，预估......
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
国半导体制造技术在追赶西方的过程中始终被国外拉出一段距离。而近年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于中国半导体产业追赶西方来说是一大利好。 摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀......
年来，芯片制造技术进步放慢，摩尔定律出现失效的客观现象，对于苦苦追赶西方的中国半导体产业来说是可是一大利多。摩尔定律失效，一方面既有技术因素——先进光刻机、刻蚀机等设备以及先进芯片制造技术研发技术难度大、资金......
台积电的计划，2025年还会量产2nm。纳米发展到这个程度，已经接近物理芯片规则的极限了。但光刻机巨头ASML正式表态，摩尔定律还可延续十年，并且将推进到1nm工艺。本文引用地址：       且不说1nm......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？;5月26日，举办“2024年技术论坛台北站”的活动，CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的总部，以及......
究报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证实验，并且，有望在EUV光刻机中进行使用。 时隔仅一年之后，清华大学再度就科研项目进行官宣，国产1nm晶体......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机......
右。 不过真正量产1nm还需要很长时间，其中关键的设备就是下一代EUV光刻机，要升级下一代的高NA(数值孔径)标准，从现在的0.33 NA提升到0.55 NA，更高的NA意味着更分辨率更高，是......
有望实现量产，引得外媒直呼“围堵计划已落空”。 而在此之前，美方要求对华断供，从而拖慢“国产芯”的发展进程。然而他们万万没想到，荷兰光刻机巨头阿斯曼“擅作主张”，偷偷对华提供6台光刻机。这究......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
用Low-NA EUV光刻机相继量产N2P和A16，与N2P相比，A16的功耗降低了20%（在相同的速度和晶体管下），性能提高了10%（在相同的功率和晶体管下），晶体管密度提高了10%。 值得......
用Low-NA EUV光刻机相继量产N2P和A16，与N2P相比，A16的功耗降低了20%（在相同的速度和晶体管下），性能提高了10%（在相同的功率和晶体管下），晶体管密度提高了10%。 值得......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......
上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司......

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