无锡光刻机

国内首条光子芯片中试线启用，覆盖从光刻到封装全闭环工艺;9 月 26 日消息，据上海交通大学无锡光子芯片研究院消息，9 月 25 日，在 2024 集成电路（无锡）创新发展大会上，上海交通大学无锡光...

清洗以及切割工艺的研发，可部分满足6/8 英寸晶圆薄膜酸光子芯片制造中光刻、刻蚀、沉积、清洗和切割需求。所有设备将于今年5月完成安装调试，形成薄膜锯酸理光子芯片全流程中试能力。 上海交通大学无锡光...

光子芯谷创新中心（一期）正式开工，专注研发高端光子集成芯片;据无锡滨湖发布消息，12月11日，无锡光子芯谷创新中心（一期）开工仪式举行。这意味着我国首个集光子芯片前沿应用研究和产业化于一体的光子芯片中试线将扎根于无锡...

用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力，新厂预计在2025年建设完成，投资2400亿韩元（约合13.7亿人民币）。 所谓再制造，指的是以旧的机器设备为毛坯，采用专门的工艺和技术，在原...

国内首条光子芯片中试线将进入设备调试冲刺阶段;据无锡日报消息，本月底，国内首条光子芯片中试线将进入设备调试冲刺阶段。 资料显示，上海交通大学无锡光子芯片研究院成立于2021年12月，位于...

SK海力士计划升级在华工厂，DRAM生产设备提升至第四代10nm工艺; 【导读】据韩媒《首尔经济》报道，韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，对其...

上能电气：新增全资公司作为储能项目的实施主体;近日，上能电气发布《关于新增募投项目实施主体的公告》。 根据公告显示，上能电气新增全资子公司无锡光曜能源科技有限公司作为公司2022年向...

上能电气新增全资公司作为年产5GW储能变流器及储能系统集成建设项目的实施主体;近日，上能电气发布《关于新增募投项目实施主体的公告》。 公告称，同意公司新增全资子公司无锡光...

传 ASML 将提供特供 DUV 给中国，官方回应！; 据业内消息，在荷兰对实施了出口管制措施之后，业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机，近日 ASML 官方...

工厂正在生产两款较旧的10纳米DRAM。报道认为，SK海力士对无锡工厂进行技术升级并不容易，因为美国为阻止中国半导体产业崛起，从2019年开始单方面限制制造尖端半导体必需的光刻机出口中国。 报道称，随着...

SK Hynix无锡厂引入光刻机计划“黄了”？最新回应！;上周，外媒消息称，由于美国不希望让更多先进半导体设备进入中国，SK Hynix 原本拟定的在无锡半导体工厂引入ASML的EUV光刻机...

方米，容积率6.67，总投资约81.5亿元。该项目计划分两期实施。 一期项目占地约45亩，建筑面积约25万平方米，建设以芯片设计为核心的高新技术产业园，打造区域性地标性产业高地。其中重点建设上海交大无锡光...

622 万亿韩元，韩国建半导体产业超级集群;据了解，韩国芯片制造巨头 SK 海力士正在考虑打破美国对华极紫外（EUV）光刻机出口相关限制，以提升其在中国的半导体工厂的技术水平。本文引用地址：业内...

我国多条12英寸芯片生产线迎来最新进展！;近期，我国多条12英寸产线迎来最新进展，其中华虹无锡二期12英寸生产线首批光刻机搬入；华润微重庆12英寸产线投料满载，预计下半年可实现满产；华润微深圳12...

增强核心竞争力。项目达产后，将新增90nm-28nm高端掩模版产能2000片/月，总产能达5000片/月。 此外，宁波前湾新区管理委员会官网消息，近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机...

中芯国际订购ASML光刻机；小米、华为再投半导体企业;中芯国际12亿美元购光刻机 3月3日，中芯国际发布公告，2021年2月1日，公司与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议，据此...

上涨 19.4%。 此外，ASML 第二季度的毛利率为 51.3%，净利润 19 亿欧元，二季度净预订额为 45 亿欧元，其中 16 亿欧元为 EUV 光刻机。ASML 预计三季度净销售额在 65~70...

高效数据处理的需求也与日俱增，光子芯片的研发落地也愈发紧迫。 9月25日，我国在光子芯片上迎来关键性突破，上海交通大学无锡光子芯片研究院建设的国内首条光子芯片中试线，宣布正式启用。另外今年早些时候，清华团队发布AI...

了其广泛应用。 光量子路线则具有室温运行、芯片化、兼容人工智能等优点，且光量子芯片制造可使用成熟的CMOS工艺，不依赖国外高端光刻机。上海交大无锡光子芯片研究院光子芯片中试线已建成启用，预计2025年第...

抛光、清洗、检测、外延等；第二个阶段是芯片制造、封测，即从整块晶圆到单颗芯片的过程。 这两个阶段涉及多种设备，如单晶炉、氧化炉、PVD/CVD、光刻机、涂胶显影机、检测设备、清洗设备、干法刻蚀机、湿制...

霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止...

技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机...

技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm...

另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是...

佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导...

三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机...

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格...

半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机...

ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近...

ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条...

全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年...

国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机...

ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是...

上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML...

首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及...

上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司...

阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们...

下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司...

售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！; 芯片规则实施之后，台积电与中企的合作被中断，而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML，自然也成为了美国的主要针对对象，在签...

晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于...

晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机...

涵盖先进半导体、先进显示和新能源等高端工业领域。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。 封面图片来源：拍信网...

3倍，光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺，英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日，据路透社消息，全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其...

胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻...

布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术...

25亿一台！英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装：展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息，ASML新任CEO近日公开表示，两台High NA EUV光刻机（单台设备的售价约为3.5亿美...

尼康计划推出支持3D半导体的光刻机，目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道，尼康计划在2025财年（截至2026年3月）将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年（截至2022...

ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元;据路透社报道，半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完成原型机，最早2025...

ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的...

新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50...