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半导体CVD设备国产化进行到哪步了？(2023-07-24)
半导体CVD设备国产化进行到哪步了？;近日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。
CVD设备需求提升
薄膜沉积分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积......
近20亿元浙江大和半导体产业园三期建设项目竣工(2023-08-04)
盾源聚芯半导体科技有限公司将导入高纯硅部件项目。而浙江富乐德半导体材料科技有限公司将导入高纯氧化铝及化学气相沉积碳化硅产品生产线，氧化铝产品具备优异的耐高温、抗氧化、耐腐蚀、耐磨耗、高导热、高绝......
碳化硅设备加速！又一相关企业完成融资(2024-09-25)
基地位于湖南益阳，致力于半导体领域高纯碳化硅涂层及陶瓷零部件的研发、生产、销售、应用服务与开发支持。
其湖南制造基地（湖南铠欣新材料有限公司）建立了化学气相沉积（CVD）碳化硅涂层生产线、精密......
年产1600吨碳化硅衬底材料项目签约浙江安吉(2024-07-04)
产品为大尺寸、高纯度、低成本第三代半导体SiC原材料、SiC镀膜，目前国产化原材料产品已验证完成，获国内外多家客户认证。冠岚新材料采用独有的升级的化学气相沉积的原材料技术，生产出的晶棒较厚、成本较低、纯度......
应用材料公司全新技术助力领先的碳化硅芯片制造商，加速向200毫米晶圆转型并提升芯片性能和电源效率(2021-09-11)
= 化学机械平坦化 PVD = 物理气相沉积 CVD = 化学气相沉积
Cree公司总裁兼 CEO Gregg Lowe表示：“交通运输业的电气化势头迅猛，借助 Wolfspeed 技术......
湖南德智新材料半导体用碳化硅蚀刻环项目完成主体工程建设，将于明年初投产(2022-06-13)
新材落户动力谷自主创新园。随后，德智新材自主设计的国内最大化学气相沉积设备完成调试投入使用。这个设备能在高温、高真空环境下合成镜面纳米碳化硅涂层。目前，“德智新材”成为国内最大单晶太阳能生产企业——隆基......
深圳院企联手，拓展第三代半导体先进材料研发(2023-09-19)
电传感半导体材料制造方面取得了一系列成就。
纳设智能则成立于2018年10月，致力于第三代半导体碳化硅外延设备、石墨烯等先进材料制造装备的研发、生产、销售和应用推广。该公司自有第三代半导体碳化硅高温化学气相沉积外延设备，是中国首台完全自主创新的碳化硅......
中微公司：MOCVD设备已在客户芯片生产线上验证(2022-08-23)
功率器件和制造Micro-LED的MOCVD专用设备。除此以外，公司也在开发低压化学气相沉积设备（LPCVD）和外延设备（EPI）。
封面图片来源：拍信网......
ASM推出全新PE2O8碳化硅外延机台(2024-10-17 17:18)
外延技术，碳化硅设备制造商设计更大功率器件的能力也得到了增强。得益于其独特的双腔设计，PE2O8机台可以通过尤为精确的控制方式沉积碳化硅，实现了更高产量和吞吐量。其高......
台亚半导体首颗650V GaN功率元件顺利试产，子公司积亚明年量产SiC晶圆(2023-07-27)
复苏已露曙光。
台亚总经理衣冠君指出，在氮化镓方面，产线承袭过往硅功率元件的制程环境与技术经验，并购入专为氮化镓生产的有机金属化学气相沉积磊晶（MOCVD）等设备，已顺利试产首颗符合D-mode......
两家碳化硅材料公司获新一轮融资(2023-11-03)
司在12吋大硅片外延用SiC涂层石墨盘、实体SiC刻蚀环产品实现技术突破，成为国内极少具备量产能力的企业。
据了解，利用CVD气相沉积技术生成的碳化硅材料，相比于烧结成型的碳化硅材料纯度更高，因此......
半导体制造工艺——挑战与机遇(2024-01-12)
个制作过程中，薄膜材料被沉积在晶片上以生成电子元件。这可以通过多种技术来实现，包括化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）和原子层沉积（ALD）。这些工艺可用于沉积金属、氧化......
SEMICON2024收官，第三代半导体赛道竞争激烈！(2024-03-25)
成立于2020年，是一家法德合资的碳化硅源粉厂商，不同于国内主流的自蔓延碳化硅粉料合成方法，Zadient公司是通过化学气相沉积（CVD）工艺生产高纯度碳化硅源材料。
河北......
SEMICON2024收官，第三代半导体赛道竞争激烈！(2024-03-26)
源粉厂商，不同于国内主流的自蔓延碳化硅粉料合成方法，Zadient公司是通过化学气相沉积（CVD）工艺生产高纯度碳化硅源材料。
河北同光股份
同光股份在现场展示了6/8英寸高质量碳化硅......
奥趋光电成功制备出高质量3英寸氮化铝单晶(2022-12-23)
光电核心专注于第三代/第四代超宽禁带半导体氮化铝晶圆衬底材料、蓝宝石基/硅基/碳化硅基氮化铝/氮化铝钪薄膜模板、全自动氮化铝PVT气相沉积炉及其相关产品的研发、制造与销售，核心产品被列入《中国制造2025》关键......
市场规模节节攀升，第三代半导体成收购的热门赛道(2023-03-10)
功开发了红色GaN外延片，同年6月又宣布Micro LED用红色GaN外延片已量产出货；
2023年1月，美国设备厂宣布收购CVD化学气相沉积外延设备系统厂Epiluvac AB，加速切入SiC......
市场规模节节攀升，第三代半导体成收购的热门赛道(2023-03-13)
片已量产出货；
2023年1月，美国设备厂宣布收购CVD化学气相沉积外延设备系统厂Epiluvac AB，加速切入外延设备领域，瞄准高速成长的电动汽车市场的发展机遇；
2022年11月29日，国星......
天岳先进、天域半导体等碳化硅大厂迎最新动态！(2024-07-08)
外延片的生长工艺。
此碳化硅外延片的生长工艺包括依次的如下步骤：（I）将碳化硅衬底进行前处理；（II）采用分子束外延设备于所述碳化硅衬底上形成第一碳化硅缓冲层；（III）置于化学气相沉积......
德国PVA TePla发布为中国定制的首款碳化硅生产设备“SiCN”(2024-03-29)
步完善了公司两大板块工业系统和半导体系统设备。
注：色块为PVA可提供设备的板块
至今，PVA TePla掌握了几乎所有与工业领域应用的晶体生长技术，包括区熔法、直拉法、垂直梯度法，还有化学气相沉积法及PVT法。尤其在碳化硅......
深圳2022年关键技术拟资助项目名单揭晓！多家企业半导体项目入围(2021-11-26)
资助，补助金额最少为100万，最多为300万。本次拟资助项目的覆盖了电子信息、生物环境、智能装备、材料能源四大高新技术领域，其中电子信息领域的攻关项目最为集中，达89个。
另外，涉及半导体方面的项目有深圳市纳设智能装备有限公司的第三代半导体碳化硅高温化学气相沉积......
碳化硅，跨入高速轨道(2024-08-19)
指出，纳设智能成立于2018年10月，坐落于深圳市光明区留学人员创业园。公司主要从事第三代半导体碳化硅、新型光伏材料、纳米材料等先进材料领域所需的薄膜沉积设备等高端设备的研发、生产和销售。
6......
北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线(2024-01-11)
北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线;近日，由北方华创自主研发的12英寸高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备Orion Proxima正式进入客户端验证。
北方......
手握通威、隆基等多家龙头订单！这家光伏企业冲刺IPO(2024-01-16 14:26)
是化学通式为SinH2n+2的一系列硅和氢的化合物总称，其中甲硅烷化学分子式为SiH4，是习惯上所称的硅烷。电子级硅烷气在光伏行业中主要应用于太阳能电池片的生产。一方面，电子级硅烷气通过化学气相沉积在硅片表面形成氮氧化硅......
这家A股公司瞄准第三代半导体设备领域，拟增资埃延半导体(2021-09-13)
露，埃延半导体由拥有20-30年高温气相沉积开发经验的团队组建，主要成员来自美国应用材料公司，该公司创始人及其技术团队研发的第一代设备“单腔体多片式8英寸硅片外延设备”在境外已经获得国际主流芯片厂商I公司......
第三代半导体功率器件在汽车行业的应用(2023-09-19)
）、液相法（LPE法）、高温化学气相沉积法（HT-CVD法）等。
碳化硅单晶生长方法对比表
4.3外延片
碳化硅外延片，是指在碳化硅衬底上生长了一层有一定要求的、与衬底晶向相同的单晶薄膜（外延......
总投资超30亿元！绵阳炘皓新能源将建14GW N型高效电池项目(2024-01-22 10:23)
安装硼扩散、等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）、物理气相沉积设备（PVD）、板式原子层沉积设备（ALD）、烧结炉、光注入、碱抛机、碱制绒机、热水机、烘干炉、镀舟机、插片机、分选机、测试机、冷水......
三星加码氮化镓功率半导体(2024-09-05)
司正式宣布：“我们将在2025年为消费电子、数据中心和汽车领域推出8英寸GaN功率半导体代工服务。”
根据这一战略，三星电子第二季度在其器兴工厂引入了德国爱思强（Aixtron）的有机金属化学气相沉积......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目， 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
备，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积......
15亿元！拉普拉斯光伏及半导体工艺设备研发制造基地项目签约落户(2022-09-29)
年底入驻运营；二期为生产基地项目，2023年底启动建设，投资14.4亿元，占地约40亩。
据介绍，深圳市拉普拉斯能源技术有限公司是一家高科技高端装备研发制造企业，主要产品涵盖低压水平扩散系统、低压化学气相沉积......
武汉发布《关于促进半导体产业创新发展的意见》：打造集成电路产业链聚集区(2022-01-18)
第三代半导体衬底及外延制备。在设备环节，支持物理气相传输法（PVT）设备、金属有机化合物气相沉积（MOCVD）、分子束外延（MBE）等工艺设备的研发及产业化；在材料环节，引进碳化硅（SiC）衬底、SiC外延、氮化......
“后起之秀”氮化镓新动态：签约、量产、应用…(2023-08-04)
承载过往硅功率元件的制程环境与技术经验，并购入专为氮化镓生产的有机金属化学气相沉积磊晶（MOCVD）等设备，已顺利试产首颗符合D-mode 650V氮化镓功率元件，在动、静态方面参数都可以达到业界标准，后续......
GaN开启了“无限复制”时代！(2024-02-22)
GaN开启了“无限复制”时代！;2月21日，光州科学技术院（GIST，校长Kichul Lim）宣布，学校电气工程与计算机科学学院的Dong-Seon Lee教授的研究团队已经开发出了仅采用金属有机化学气相沉积......
泛林集团推出一种用于沉积低氟填充钨薄膜的新型原子层沉积工艺(2016-08-10)
一种受控的表面反应来调节应力和氟含量，并有效降低电阻。与传统化学气相沉积 (CVD)的钨填充相比，ALTUS Max E 系列产品工艺可使检测到的氟减少 100 倍、内应力降低10倍、薄膜电阻率降低 30......
威科仪器起诉中国专利局，中微半导体“躺枪”(2020-04-23)
北京知识产权法院提起行政诉讼，该案于2018年被受理，定于2020年9月10日下午14时开庭审理。
据了解，“化学气相沉积装置”专利涉及的MOCVD装置为生产半导体器件如发光二极管（LED）芯片的核心设备，占据......
突破300Wh/kg利器，硅碳负极产业化大提速(2024-09-18)
其一致性更好，化学气相沉积(CVD)法制备多孔硅碳复合材料膨胀率更低，对应的循环性能也得到了显著提升。“宁德时代从中长期提升能量密度的角度，鼓励材料厂商发展硅碳负极，尤其是化学气相沉积法。”该机构称。
当然......
盛美上海等多家厂商迎突破，碳化硅设备国产化加速！(2022-07-20)
了小尺寸SiC单晶片的激光剥离。目前，这一研发项目已通过专家论证，正式立项启动，下一步将研发快速生产化、全自动化、低能耗化的激光剥离设备。
纳设智能在今年2月成功出厂了高温化学气相沉积设备，该设备专门用于碳化硅......
投资5亿元 宁夏盾源聚芯硅部件项目竣工投产(2021-07-20)
件项目竣工投产仪式于银川市西夏区经济开发区举行。
图片来源：宁夏富乐德石英材料有限公司官微
宁夏富乐德石英材料有限公司官微消息称，宁夏盾源聚芯是一家专业从事半导体石英坩埚、半导体硅部件材料、半导体刻蚀用硅部件以及气相沉积碳化硅......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
金属膜层刻蚀机、化学气相沉积设备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测装备等。
封面图片来源：拍信网......
北方华创高介电常数原子层沉积设备获批量订单(2024-03-21)
北方华创高介电常数原子层沉积设备获批量订单;3月21日，北方华创宣布，近期公司12英寸高介电常数原子层沉积设备Scaler HK430实现稳定量产，获得批量订单。这标志着北方华创 CVD （化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW(2023-05-09)
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;
【导读】近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
上海高端装备7000亿产业规划出台，集成电路定了重点(2021-12-21)
注入设备、气相沉积设备、量测检测设备、先进封装设备等核心产品研发，在关键制程实现产业化突破；加强核心零部件本土保障能力，推进光学、过滤、真空、运动、电控、密封、陶瓷等零部件攻关。
二是新型显示装备，推进......
大基金持股26.48%，设备厂商拓荆科技科创板首发过会(2021-11-01)
机共同构成芯片制造三大主设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已......
涨知识！氮化镓（GaN）器件结构与制造工艺(2024-06-17)
构和参数进行模拟仿真。
2、外延片制造流程
氮化镓外延片可在硅衬底、碳化硅衬底或蓝宝石衬底上进行生长，从成本和大批量生产考虑，外延的每一层的沉积一般采用MOCVD（金属氧化物化学气相沉积）。
图 5 氮化......
我国两条12英寸产线带来好消息！(2024-11-04)
主研发的高均匀性、大产能，并适用大翘曲硅片的12英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备交付客户。此次推出的Cygnus系列12英寸等离子体增强化学气相沉积设备，主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅......
泛林集团推出先进介电质填隙技术，推动下一代器件的发展(2020-09-24)
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半导体制造行业一直以来使用的填隙方法包括传统的化学气相沉积 (CVD)、扩散/熔炉和旋涂工艺。然而，由于这些技术需要在质量、收缩率和填充率之间权衡取舍，因此已无法满足当前3D NAND......
限制出口！中国稀土、IC等技术管制再调整(2023-12-25)
似与集成电路产业链有关联的技术主要有：化学气相沉积法（CVD）制备碳化硅（SiC）纤维技术（材料）、多种人工晶体生长与加工技术（材料）、非晶、微晶金属冶金技术（材料）、宽带小型化隔离器制造技术（器件......
1.8亿！四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
纳米均持股27.7624%，盛美上海持股16.6574%。
资料显示，拓荆科技主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积......
产品应用于国内晶圆厂14nm及以上制程产线 拓荆科技叩响科创板大门！(2021-07-13)
，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列，已广......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等(2024-05-30)
建设先进的生产车间，购置先进生产设备和量测设备，提升公司薄膜沉积设备的生产能力。本项目主要生产半导体领域 iTomic 系列和 iTronix 系列产品，其涉及原子层沉积和化学气相沉积两大类设备。
微导......
泛林集团推出先进介电质填隙技术，推动下一代器件的发展(2020-09-24)
辑存储器的极端结构。不仅如此，该系统还具备更低的持续运行成本和更好的技术延展性，以满足半导体产业技术路线图的发展。
全新的工艺方案——先进的Striker® FE平台
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半导体制造行业一直以来使用的填隙方法包括传统的化学气相沉积......
相关企业
;上海禹王精密陶瓷有限公司;;上海禹王精密陶瓷有限公司是山东禹王集团旗下的高新技术企业。是集化学气相沉积技术的研究、开发、生产为一体的工业实体，拥有国内先进的技术、设备和高水平的研发团队。
● 主要
;普光科技（番禺）有限公司;;普光科技（番禺）有限公司成立于1999年，由香港普基集团投资设立的高新技术企业。公司吸引了国内外擅长光电材料成长和研发等方面的人才，并采用先进的金属有机物化学气相沉积
我们减少了生产环节，降低生产成本，缩短供货时间。我们能根据客户的不同需要提供多种表面处理技术，包括电泳，喷涂和最先进的高分子气相沉积。此外我们也有很先进的充磁技术，能够对任何材质的器件进行任意形式的充磁。
;唐山德意陶瓷制造有限公司;;唐山恒通碳化硅有限公司（唐山德意陶瓷制造有限公司）成立于 2000 年 10 月 1 日，位于唐山市高新技术开发区。公司是由多名青年科技专家投资兴建，集科
;江苏环能硅碳陶瓷有限公司;;泰州市环能硅碳棒制造有限公司是一家专业生产碳化硅制品企业，公司致力于研发高性能硅碳棒及碳化硅陶瓷，并与高等科研所合作开发新型高温电热元件，是一
;淄博兴德碳化硅有限公司;;本公司目前致力于开发｜磁性材料炉用推板 碳化硅莫来石结合新型耐火材料
;枣庄市鑫阳磨料磨具有限责任公司;;碳化硅 枣庄市鑫阳磨料磨具有限责任公司 地址：山东省滕州市经济工业园区 电话：0632－5883388 5883366 传真：0632－5883366 电子
和销售于一体的综合性企业。公司专业生产刚玉、碳化硅，刚玉莫来石耐火材料，产品广泛应用于磁性材料厂、陶瓷厂和玻璃窑炉等行业。现主要产品有：规格为25KG-1T的刚玉-碳化硅坩埚、浇口；粉体煅烧匣钵；氧化
;无锡金鼎隆华化工有限公司;;无锡金鼎隆华 本公司专门从事化工原料经营的公司，国产全系列气相二氧化硅（气相白碳黑）华东总代理、乌克兰卡路什化学公司全系列气相二氧化硅（气相白碳黑）华东总代理、另外
;苏州英能电子科技有限公司;;苏州英能电子科技有限公司，成立于2011年5月，是一家专注碳化硅二极管研发、生产、销售的半导体制造公司，其以优秀的归国博士团队为基，与浙江大学电力电子中心密切合作，引进国外碳化硅