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研发客服近日，拓荆科技（青岛）有限公司成立，法定代表人为刘静，注册资本5000万元，经营范围包含：电子专用设备制造；电子专用设备销售；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售等。企查查股权穿透显示，该公司由拓荆科技等共同持股。
1月20日晚间，拓荆科技披露2024年年度业绩预告，预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元，与上年同期相比增加12.95亿元至14.95亿元，同比增长47.88%至55.27%。资料显示，拓荆科技专注于研发和生产高端半导体专用设备，产品线包括离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三大系列。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微等国内主流晶圆厂产线。
今年上半年，拓荆科技超高深宽比沟槽填充CVD设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备等新产品及新工艺已经下游用户验证导入。去年12月末，拓荆科技发布公告，公司控股子公司拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司(简称“拓荆键科”)拟与上海稷以科技有限公司(简称“稷以科技”)签订设备采购合同，合同总金额约人民币1000万元(含税)。本次拟采购碳化硅刻蚀设备一台，本次设备采购将有助于提高拓荆键科的生产能力，为新产品的产业化提供保障。
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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