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首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶，计划2024年6月投产;据中电二公司消息，近日，江苏首芯半导体项目生产厂房主体结构封顶仪式举行。江苏首芯半导体薄膜沉积设备研发及生产项目位于无锡江阴高新区，为集半导体前道制程薄膜沉积......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等;5月29日，微导纳米发布公告称，公司拟向不特定对象发行可转换公司债券拟募集资金总额不超过11.7亿元，扣除发行费用后募集资金净额将用于半导体薄膜沉积......
传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;据电子时报报道，随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效，业内普遍想知道这将对中国半导体行业产生的影响。此次出口管制共计23品类......
总投资5亿元 衍梓智能科技薄膜沉积设备项目落户青岛;据莱西经济开发区消息，4月7日，青岛莱西经济开发区管委会与上海衍梓智能科技有限公司（以下简称“衍梓智能科技”）薄膜沉积......
握的核心技术平台基础上，公司紧贴客户需求，将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合，形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积......
先研设备模组生产与装配基地项目、无锡先研精密制造技术研发中心项目、补充流动资金项目。 资料显示，是国内半导体刻蚀和薄膜沉积设备细分领域关键零部件的精密制造专家，公司形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积......
（ALD）技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。 ALD设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备，在28nm及以......
半导体设备上市公司万业企业携手全球产业专家共同投资成立，总投资规模达20亿元，用地面积109亩，公司研发及制造刻蚀、薄膜沉积、快速热处理等等集成电路成熟工艺的关键设备，产品范围覆盖芯片制造核心设备的多个重要品类。 据了解，自......
KKR收购。其以制造薄膜沉积设备闻名，薄膜沉积工序是在硅晶圆上添加薄膜层，以便形成电路。 封面图片来源：拍信网......
原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程; 本文引用地址： 在半导体工艺中，薄膜沉积是在半导体原材料硅晶圆上分阶段生长薄膜的核心工艺。它在半导体电路之间起到区分、连接和保护作用。由于......
芯屏高科技产业园开园，半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约;近日，蓝科·新站芯屏高科技产业园开园，现场5个入园项目集中签约、3家投资基金签订战略合作。 现场，半导体刻蚀机用陶瓷材料、半导体薄膜沉积......
（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积......
。未来，通过使用狭缝挤压涂布法等工业化兼容的薄膜沉积法，制备具有更大面积的逐层沉积的紫外光掺杂氧化锌薄膜或将助推有机光伏市场化进程。......
科技已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等薄膜设备产品系列，广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。 拓荆科技表示，公司本次新建项目通过提升公司半导体薄膜沉积设备的产能，可以......
设备（Atomic Layer Deposition, ALD）的高速增长。 原子层沉积技术，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积方法。通俗来说，可以将一层层亚纳米厚的薄膜......
的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。 普达特科技表示，热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著提高生产效率，改善......
集成电路制造前道生产线的国产设备公司。据悉，2023年上半年，微导纳米通过原有的薄膜沉积类产品研发、推广和产业化的经验，成功推出了半导体集成电路薄膜沉积CVD产品，已在客户端验证。 盛美上海是一家半导体设备制造商，主要......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW; 【导读】近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著......
半导体CVD设备国产化进行到哪步了？;近日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。 CVD设备需求提升 薄膜沉积分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积......
厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分，半导体设备可分为晶圆制造（前道设备）和封装、测试设备（后道设备）。 前道晶圆制造设备占据了市场80％以上的份额，设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀......
备，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW; 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;中国上海，2023年5月9日—— 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出......
存储、FLASH闪存集成电路制造各技术节点产线SiO2、SiN、SiON、BPSG、TEOS等多种通用介质材料薄膜沉积工序，并具备向更先进技术节点拓展的延伸性。基于现有PECVD产品平台，拓荆......
的高效电池技术产能持续存在缺口，而技术进步和成本下降预计将为光伏行业带来更多增长机会。为应对这一趋势，公司紧跟下游行业电池技术的迭代和扩产步伐，充分利用ALD、CVD等多种先进的薄膜沉积技术平台，拓宽产品线，提高......
迈入全新发展阶段。 2023年10月项目主体结构正式封顶，仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分，主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法......
化产能的同时，支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中，每个腔体都安装有多个加热卡盘，以优化工艺控制并提高产能。   封面图片来源：拍信网......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准;近日，中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。 Preforma......
。 据当时消息，嘉芯半导体将设立6个子公司，2个事业部，主要从事刻蚀机、快速热处理、薄膜沉积、单片清洗机、槽式清洗机、尾气处理、机械手臂等8寸和12寸半导体新设备开发生产及设备再制造等相关业务，产品......
知识产权产品并实施产业化。 资料显示，拓荆科技（上海）有限公司成立于2020年12月，是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积......
使得反应都沿着能量最低的方向进行。该取向成核机制为开发针对性的钙钛矿薄膜质量提升策略及其规模化沉积方案提供了一定的理论依据和技术探索。 研究团队基于此优化了钙钛矿薄膜沉积策略，在两步法和一步法沉积......
光电子能谱仪进行分析的结果(右)。（来源：MIPT） 虽然ALD的生长缓慢，但它能实现3D结构的共形涂层，取代MIPT和其他研究实验室迄今所使用的奈米薄膜沉积技术。其关键的区别在于ALD依次......
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。 该公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维......
元授权的回购计划。 据了解，国际电气于2018年从日立国际电气独立，随后纳入了美国投资公司KKR集团旗下。国际电气以制造用于薄膜沉积的设备而闻名，该设备是在硅晶片上添加薄膜薄层以形成电路的工艺。2019年7月......
是中车时代首次批量采购国产设备。 邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其......
、零部件翻新及新品制造的高新技术企业。该公司主要从事产线泵、通道连接件、气体分配件、阀门、运输腔管路、制程腔体等化学气相沉积工艺设备、离子薄膜沉积工艺设备、半导体蚀刻工艺设备的关键零部件的国产化。主要......
业界变动，北方华创表示，公司主营业务发展良好，应用于集成电路领域的刻蚀、薄膜沉积、清洗和炉管等数十种核心工艺装备市场认可度持续提升，工艺覆盖度及市场占有率显著增长，产品销量同比大幅度增加。 同日，北方......
理、薄膜沉积上近几年国产化突破明显，而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备上，仍较为薄弱。值得注意的是，上述提及的企业正是在经历了2020至2022年的两年设备短缺潮后，接单能力有了明显提高，业绩......
世界半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一，面向薄膜沉积、等离子体刻蚀、光刻胶去胶和硅片清洗提供多种产品组合，它们是互补性加工步骤，用于整个半导体制造过程中。 封面图片来源：拍信网......
于荷兰的阿斯麦(ASML)、美国的应用材料公司和泛林集团。 该公司在多个关键设备领域占据市场领导地位，包括涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉和批量沉积设备，同时在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针......
圆制造的湿法工艺设备，其产品主要应用于泛半导体、光纤、生物医药、液晶行业和汽车行业。此前，至纯科技表示，公司在12寸28纳米节点可提供全部工艺的设备。 在半导体制造设备中，一般包含光刻、刻蚀、薄膜沉积、两侧、清洗......
收入较上年同期增长364.87%，主要原因为，受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长，公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售......
电路高端装备产业化应用中心项目、补充流动资金。 微导纳米成立于2015年，公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积......
。团队基于集成电路材料全国重点实验室300 mm SOI研发平台，依次解决了300 mm RF-SOI晶圆所需的低氧高阻晶体制备、低应力高电阻率多晶硅薄膜沉积、非接触式平坦化等诸多核心技术难题，实现......
晶圆。团队基于集成电路材料全国重点实验室300 mm SOI研发平台，依次解决了300 mm RF-SOI晶圆所需的低氧高阻晶体制备、低应力高电阻率多晶硅薄膜沉积、非接触式平坦化等诸多核心技术难题，实现......
。 △Source：拓荆科技公告截图 资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀......
铌酸锂光子芯片从光刻、薄膜沉积、刻蚀、湿法、切割、量测到封装的全闭环工艺。 该平台还兼顾硅、氮化硅等其他材料体系，搭建 N 个特色工艺平台，结合“研发中试 + 技术服务”运营模式，不仅可为高校、科研院所、创新......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专......

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闭状态容器内部活动多余物的检测，此产品获得过科工委科学进步奖； （二）代理国际知名品牌的半导体材料制备和分析检测设备，例如: 超高真空薄膜沉积系统;分子束外延系统；脉冲激光沉积系统；感应
北京德仪天力科技发展有限公司
高品质的产品，先进的技术，过硬的质量和周到的技术服务，DE公司正在稳步向前发展。 十几年来，DE已成功地为国内近百家企业、高校实验室和科研院所提供了全球最先进的真空镀膜沉积设备和优质的技术服务。
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上海恒蕊冷焊机机电设备有限公司
;上海恒蕊冷焊机机电设备有限公司;;金属缺陷修补冷焊机,铸造缺陷修补冷焊机,模具修补冷焊机, 放电被覆沉积堆焊,电火花沉积堆焊机, 铜铝
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;深圳市德天成科技有限公司;;深圳市凯跃科技有限公司是专业致力于表面技术、薄膜技术及真空技术的研究和开发，集设备研制、技术开发、产品应用于一体的高科技公司。公司结合自身技术实力与有关科研院所合作进行薄膜
激埃特光电有限公司
全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。力求把最适用的方案提供给光机电厂家!
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;北京信田博瑞光电技术有限公司;;北京信田博瑞光电技术有限公司，专业从事光学镀膜工艺技术设计和光学薄膜产品生产.拥有多台先进光学真空镀膜机，以及全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发、离子辅助沉积多层薄膜
广东激埃特光电科技有限公司
全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。 激埃特以追求质量，客户满意为宗旨。率先通过ISO9001:2008质量管理体系认证，产品