8月26日晚，拓荆科技发布2022年半年报显示，公司实现营收5.23亿元，同比增长364.87%；归母净利润为1.08亿元，较去年同期实现扭亏为盈。从单季度上看，拓荆科技第二季实现营收4.157亿元，归母净利润实现1.20亿元，分别同比增长658.42%、1336.55%。

针对业绩变动，拓荆科技表示，营业收入较上年同期增长364.87%，主要原因为，受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长，公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售订单持续增长。

报告指出，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备和SACVD设备厂商，也是国内集成电路ALD设备厂商。该公司已于2022年4月20日在科创板发行上市。

拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线。

拓荆科技称，报告期内，公司主营业务收入主要来自于PECVD设备、ALD设备及SACVD设备销售收入，其中PECVD设备的收入为公司主营业务收入的最主要来源，ALD设备及SACVD设备较同期相比均实现收入。

数据显示，报告期内，拓荆科技核心产品PECVD设备实现收入4.67亿元，较上年同期增长345.21%；SACVD设备较上年同期实现收入0.41亿元；ALD设备较上年同期实现收入848.37万元。

研发投入方面，报告期内，拓荆科技不断丰富产品种类，拓展工艺应用领域，持续加大研发投入，公司本期研发投入1.18亿元，同比增长45.66%，主要系研发的直接投入和研发人员薪酬增加所致。

拓荆科技披露，在产品产业化应用进展、新产品研发等方面均取得了突破和进展。公司PECVD、ALD及SACVD三个系列产品及新产品获得了现有及新客户订单。

其中，SACVD产品持续拓展应用领域，BPSG及SA TEOS薄膜工艺在40/28nm逻辑芯片制造领域取得客户验收。截至报告期末，SACVD产品在12英寸40/28nm以及8英寸90nm以上的逻辑芯片制造领域均已实现广泛应用，并取得了现有及新客户订单。

在其他新产品研发方面，新产品多边形高产能平台、HDPCVD系列设备、UVCure设备均完成设计开发，已出货至客户端进行产业化验证，并取得客户订单。

此外，拓荆科技产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大，截至报告期末，公司设备在客户端产线生产产品的累计流片量已由截至2021年12月份的4600余万片增加至7100余万片。

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