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半导体“粮草”先行,国产光刻胶走到哪一步了?;“两军交战,兵马未动,粮草先行”,诠释了粮草的重要性,而在半导体行业的激烈竞争中,半导体光刻胶的及时补给亦如此。 01 核心材料 光刻胶......
产品测试各项性能满足工艺规格要求,良率结果达标。” 在谈到这个光刻胶通过客户认证对公司的价值的时候,南大光电表示,ArF 光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于 90nm-14nm 甚至 7nm 技术......
其大规模生产线。2019 年 7 月,日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及 OLED 面板原材料,经过三年的努力,韩国实现了光刻胶本地化生产。 三星......
这项研究仍然处于早期阶段,可能需要“几年”才能商业化,因为在新形状基板上的尖端芯片封装中涂覆光刻胶,是这项研究中的一个关键瓶颈。这要求台积电这样的芯片制造巨头发挥其深厚的财力优势,推动......
制造、光通信、汽车涂料、医药等领域。 关于产品进度,飞凯材料透露,公司面板光刻胶正持续稳定生产出货,半导体光刻胶已形成少量销售;目前公司半导体光刻胶在做KrF相关的开发工作;公司......
光刻胶、高档I线光刻胶、化学放大型I线光刻胶在内的10支产品获得长江存储、中芯北方、广州粤芯、厦门士兰集科等用户订单。 彤程新材进一步指出,1-6月,北京科华抓住国内相关半导体光刻胶......
新阳拟继续受让由超成科技持有的芯刻微剩余的30%股权,将芯刻微纳入100%控股子公司。 ArF浸没式光刻胶在芯刻微实现了从无到有的过程并研发工作进展顺利, 取得可观的发展成果。公司和超成科技已于2021年8月签......
光刻 光刻在芯片制造过程中至关重要,因为它决定了芯片上的晶体管可以做到多小。在这个阶段,晶圆会被放入光刻机中,被暴露在深紫外光(DUV)下。很多......
三星电子的华城EUV生产线进行了测试,最终获得了资格。两家公司的合作,使得EUV光刻胶能够以高技术水平快速开发。 据了解,光刻胶应用于芯片上,当用半导体曝光设备照射光时,会发......
,韩国的光刻胶需求高度依赖于日本及从其它国家进口。 公开资料显示,光刻胶是光刻工艺中的关键材料,是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,主要......
徐州博康:半导体光刻胶获国内主流存储芯片厂客户订单;据华懋科技官方消息,华懋科技旗下徐州博康近期收到某国内主流存储芯片厂商的半导体光刻胶采购订单,此前该产品型号全部依赖于海外进口。 据悉,该产......
市场仅占整个半导体市场的0.34%。很显然,与规模巨大的半导体市场相比,光刻胶的市场空间显得非常小。 光刻胶在半导体制造环节极其重要,它合规与否决定了晶圆的良品率。《国际电子商情》注意到,2019年Q1,台积电14......
线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货,KrF光刻胶完成中试,目前已进入客户测试阶段,测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动,旨在研发满足90-28nm芯片......
。2018年5月,国家科技重大专项中的极紫外光刻胶项目顺利通过国家验收,标志着中国在高端光刻胶领域的重大进步。此后2019年11月,8种"光刻胶及其关键原材料和配套试剂"入选工信部的重点新材料指导目录,并且......
央视调查:光刻胶靠抢 进口芯片涨价20%;一颗芯片的诞生大致可以分为三个环节,先设计、再生产、最后进行封装和测试。当前,在芯片制造的环节中,原材料紧缺、产能供不应求同样存在。 而光刻胶是芯片封测的重要......
国产化率已经达到了50%,但在半导体及显示领域光刻胶国产化进度缓慢,尤其半导体领域的高端光刻胶,已经成为了当下国内亟需攻克的产业化难题。 近年来,国家出台了多项产业政策助力高端光刻胶在......
分布在晶圆边缘的电镀设备上,最终电解质溶液中的金属离子与光刻胶在晶圆上绘制的图案相遇。随后,电子与电解质溶液中的金属离子结合,在光刻胶绘制图案的地方进行还原反应,形成金属引线或凸点。 光刻胶......
使用EDA软件和IP授权等工具,EDA软件的重要性对IC设计而言,正如PS软件在平面设计中的地位。在EDA领域,仅Synopsys、Cadence、Mentor Graphic三家企业就占据了90%以上......
大基金二期的入股,可以说是扶持国产材料的重要一步,同时也是加速光刻胶国产化的重要一步。 封面图片来源:拍信网......
进一步扩大生产的能力,建议抓住机遇,尽快扩产。 南大光电表示,ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片......
光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表);半导体光刻胶缺货 在价格方面,受下游需求不断增加,芯片价格上涨的影响,光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍,仅在今年1-2月,江苏......
需求高度依赖于日本及从其它国家进口。 外媒消息显示,东进世美肯半导体的光刻胶在去年通过了三星电子的可靠性测试,距今不到一年就被应用于大规模生产线。目前,除了东进世美肯外,韩国本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发光刻胶......
在当下各国加速国产竞争的格局下,光刻胶研发重要性进一步凸显。去年12月,据韩媒etnews报道,韩国东进半导体与三星电子合作并成功开发了EUV光刻胶,这代......
年7月日本宣布对出口韩国的半导体材料加强审查与管控。涉及的半导体材料包括应用于有机EL面板生产的氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯度氟化氢,它们是智能手机、芯片等产业中的重要原材料。 受此影响,韩国......
纳米间距)。 此次联合实验室的开放,被视为High-NA EUV技术大批量生产准备过程中的重要里程碑。业界预计,随着该技术的不断成熟和普及,将在2025-2026年期间迎来大规模的量产应用。 IMEC......
现将进一步提高分辨率并减小特征尺寸,同时降低焦深。这当然会导致薄膜(film)厚度缩小,这需要实施新的光刻胶和underlayers,以优化蚀刻过程中的 EUV 吸收和图案转移。 此外,imec认为......
产品的工艺进行验证,宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求,表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。 南大光电在公告中表示,ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以......
及G线、i线光刻胶,前三者均为高端光刻胶产品。本次产品的认证通过,标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。 ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要......
评估结果显示,本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证,宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求,表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。 据悉,ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要......
球半导体观察不完全统计,今年来共有超30项关键技术取得重要进展,涉足类脑芯片、光子芯片、人工智能芯片、第三/四代半导体(碳化硅/氮化镓/氧化钾/金刚石等),以及光刻胶材料、存储器、晶体......
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。 先进制程竞争开战:光刻机“挺忙的” 在芯片制造中,先进制程技术是当前行业研发的重点,掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔,从三大厂的动态来看,先进......
还可以保护硅基材免受腐蚀,阻止离子影响。 光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。 上海新阳曾于2022年8月左......
及配套试剂、电子气体、工艺化学品、溅射靶材、抛光材料等,光掩膜虽然在其中占比虽然没有硅片高,但其重要性同样不容忽视。 光掩膜的作用主要体现在半导体生产工艺的光刻环节,掩膜上印有集成电路的图形、工艺......
功取得第一笔订单。 公告指出,KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一,本次产品认证的通过及订单的取得,标志着“KrF(248nm) 厚膜光刻胶......
核心材料和零件不能从日本境外采购。 据韩国国际贸易协会称,90% 的晶圆涂层材料和 79% 的光刻胶仍从日本进口。多达 94% 的极紫外 (EUV) 光刻胶(半导体工艺中的关键材料)由日本生产。 日本于2019年......
蚀刻等其他工艺将图案深入基材中。 NIL的魅力在于潜在低成本获得高分辨率图案的潜力。通过绕过复杂的光学或光源,从理论上讲,这种方法可以比其他平版印刷形式更简单、更便宜。 NIL与EUV:技术比较 要理解NIL的重要性......
亿元。 鼎龙股份表示,上述光刻胶产品相关项目的立项,是公司作为创新类材料平台型公司综合实力的重要体现,有利于公司实现半导体材料产品多元化发展,扩大......
NAND闪存芯片的关键成分,由于2D NAND存储容量难以继续突破,NAND工艺逐渐转向3D堆叠架构,以更多的堆叠层数来得到更大的存储容量,光刻次数随着层数增加而增加,KrF光刻胶需求量日益增长,对存储器影响也日渐重要......
这家企业欲收购光刻胶龙头关键股份;日本芯片材料厂商Resonac的首席执行官Hidehito Takahashi正在为日本分散的芯片材料行业的另一轮整合做准备,并表示公司可能会出手收购JSR的关......
就算是有钱也买不到! 在老美多次修改芯片规则以后,就让我们认识到了半导体芯片产业发展的重要性,所以国内也开始着手打造属于我们自己的国产芯片供应链体系,而光刻机等卡脖子的技术也是我们重点研究的对象,随着......
博康已研发I线光刻胶15款,以及3大种类的电子束光刻胶,现已为数十家企业和高校提供标准化、定制化的电子束光刻胶产品。 据了解,徐州博康承担了国家“02专项”中的“ArF光刻胶单体产品的开发与产业化”的子......
干膜、特种油墨、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品等系列感光电子化学品。 容大感光公告指出,感光干膜作为PCB光刻工艺中的关键材料,公司自2018年起即组建研发团队负责该领域的技术攻关;2021年9......
该公司历史最高水平,整体处于供不应求状态。 聚焦国产替代,多家厂商发力光刻胶技术突破与生产 光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的混合液态感光材料,也是光电显示和半导体领域的重要......
线边缘粗糙度(LER)如何影响先进节点上半导体的性能;与泛林一同探索先进节点上线边缘粗糙度控制的重要性 介绍 由后段制程(BEOL)金属线寄生电阻电容(RC)造成的延迟已成为限制先进节点芯片......
产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作,验证进展顺利。从目前测试结果看,ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平,并实现了ArF光刻胶国产化和本土化,打破了被国外长期垄断的被动局面,测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片......
半导体IC厂商是不会自行生产这种晶圆,通常都是直接从硅圆片厂中直接采购回来进行后续生产。 前工程——制作带有电路的芯片 6、涂抹光刻胶 买回......
应用在手机、军工、航天等各个领域,是能够影响一个国家现代工业的重要因素。但是我国在芯片领域却长期依赖进口,缺乏自主研发。中国是世界上第一大芯片市场,但芯片自给率不足10%。2017年,芯片进口金额超过2500......
依托华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家研究中心等国家级平台在集成电路制造领域十余年深耕取得的重要成果,致力于光刻掩模优化设计技术与软件(OPC软件)的自主开发,旨在打破Synopsys、Mentor、ASML......
晶圆厂运行效率,以推动制造过程的大型数据中心的能源效率来改善芯片生产。 02 什么是计算光刻技术? 上述新闻中,计算光刻被反复提及。这项技术是什么?为何对先进制程芯片生产如此重要?在回......
来说,目前国外的光刻胶阻抗可以做到10^15,国内基本上停留在10^10。阻抗越高纯度越高,光刻胶纯度不足会造成芯片良率下降,甚至污染事故。2019年台积电就因为光阻原料污染导致上万片12寸晶......

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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片光刻胶光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;盐城经纬化工有限公司;;进出口电子材料包括热致变液晶,显示器液晶,光刻胶,清洗剂等
;引进(香港)发展有限公司;;本公司主要是代理日本三井有关边框胶、显示液、光刻胶、导电铜浆等,本公司在香港成立已经有20年的历史,主要市场是香港和广东地区
;深圳市鑫天翔实业有限公司;;鑫天翔实业的使命是保存您的葡萄酒资产,使您的葡萄酒资产增值不断! 鑫天翔实业深知葡萄酒资产保存的重要性,专注于葡萄酒的商业性陈列酒架、酒柜和收藏酒窖解决方案。
;深圳容大感光科技股份有限公司;;深圳市容大感光科技股份有限公司成立于1996年,是一家专业生产PCB油墨、LED白油、五金玻璃油墨、正性负性光刻胶、金盐等光电化学材料的专业制造商。公司
;深圳鑫雅莱电子有限公司;;我司成立于2002年,是主营LED发光二极管芯片的私营企业,我司主要代理晶元,国联,光磊,联诠芯片,是晶元芯片中国地区一级代理商之一。
;上海市徐汇区万邦桶装水配送服务社;;上海桶装水订水网是上海最大的、品种最多的品牌桶装水金牌代理商,每年桶装水销量达500万桶。随着人们生活水平和生活质量的不断提高,越来越多的人开始意识到饮水健康的重要性
;黄桂强;;弘建科技股份有限公司,台湾南亚、华镓芯片中国区域一级代理。正规包客诉,价格实惠, 优势原厂货源,技术支持服务最全面的。
;成都光谱光电技术有限公司;;我公司是专业光学薄膜和光信息化学品生产商,成立于1994年,多年来一直致力于为客户提供高品质的光学薄膜元件和光信息化学品。拥有光学薄膜和光信息化学专业的高素质人才.主要从事紫外正型光刻胶
司经营理念.、满足客户的差异化服务,丰富产品线、提升在细分市场的核心竞争力、积极参与并担当国际化产业分工链条中的重要角色,致力于成为具核心附加价值的专业元器件代理商之一.