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研发客服6月30日，上海新阳发布公告称，公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。
公告指出，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功，为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。
上海新阳在公告中表示，光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多，以及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长，公司光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用，有利于公司业务的长期发展。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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