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国产光刻机巨头,更新上市进展?;近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE,简称 “上海微电子”)IPO动态消息震动产业界,概念股乘势而起,那么实际情况究竟如何? 并未披露实质性进展......
对于华为的机会是什么?任正非认为:它会把计算撑大,把管道流量撑大,这样我们的产品就有市场需求。 2. 网传国产28纳米进展 据传2023年1月上海SWEE的28纳米已通过科技部验证,发往......
对于华为的机会是什么?任正非认为:它会把计算撑大,把管道流量撑大,这样我们的产品就有市场需求。 2. 网传国产28纳米进展 据传2023年1月上海SWEE的28纳米已通过科技部验证,发往......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右,耗费时间占比约为40-50%,光刻工艺所需的光刻机也是其中最贵的半导体设备。目前前道光刻机的供应商主要是荷兰的ASML(80%以上市场份额)、日本的NIKON和CANON......
我们提到了已经具备了4纳米的先进封装技术,而在先进封装光刻机上,上海微电子已经做到了自研自产,所以在小芯片这个全新的赛道上,我们已经做到了全部的国产化,而且属于全球的领先水平。 不得不说,这一切太快了,标准......
工艺中不可缺少的材料,光罩的成本也占到光刻成本的将近一半,其地位自然是相当重要的!光罩在FPD,集成电路的前后道光刻中都是必须的材料。 01 强劲市场势头拉动国产......
国产光刻机最大的希望!上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露,上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市,中信建投是其辅导机构。 根据官方信息,上海......
“巧妇也难为无米之炊”。面对目前的产业困境,业界对光刻机的呼声很高,认为有了光刻机,芯片制造就不成任何问题。事实真相是并非如此,光刻机只是半导体前道7大工艺环节(光刻、刻蚀、沉积、离子注入、清洗、氧化......
半导体设备产业的头部企业集中在美国、荷兰、日本和韩国等国,尤其在光刻、刻蚀、沉积等关键领域占据主导地位。近些年,在晶圆厂扩产与国产化的双轮驱动下,中国半导体设备企业正在通过加大研发投入和国产化替代,并逐步取得进展。目前中国在高端光刻......
向塔斯社报告了这一点。 他表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10......
月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV      为了提高半导体芯片的性能,不仅在半导体制造的前道工艺中实现电路的微细化十分重要,在后......
线宽,双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上,能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻,有望使国产集成电路光刻机......
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
工艺和后道工艺中,在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营,持续为半导体设备的技术创新做出贡献。   ※1. 使用了i线(水银灯波长 365nm)光源的半导体光刻设备。1nm(纳米)是10亿分......
器件、化合物半导体等行业需要的芯片,这些芯片主要应用于航空航天、移动通讯、新能源汽车、消费电子、AI人工智能等。 ABM Inc.公司介绍 ABM Inc.是一家在光刻机领域具有显著影响力的公司,专注于半导体前道制造和先进封装的光刻机......
体设备是集成电路产业链自主可控的核心环节,可以分为IC制造设备和封测设备两大类。IC制造设备大致可以分为11大类,50多种机型,其核心有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道......
制造2025》中针对国产半导体制造设备提出了明确要求:在2020年结束之前,90-32nm工艺设备国产化率达50%,实现90nm光刻机国产化、封测关键设备国产化率达50%;在2025年结束之前,20......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分,半导体设备可分为晶圆制造(前道设备)和封装、测试设备(后道设备)。 前道晶圆制造设备占据了市场80%以上的份额,设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀......
俄罗斯媒体:中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章,原题:重大成就:中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道,上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
掩模版、晶圆代工全方位服务的综合性企业。 目前,晶合集成可提供28-150纳米的光刻掩模版服务,将于今年四季度正式量产,服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等,计划为晶合客户提供4万片......
EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?;近日,荷兰的光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布2020年度财报,全年净销售额达到140亿欧元,毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
正在建设28纳米工厂,但这个技术流程早已失去了相关性——4纳米技术流程早已掌握,并在2023年向3纳米过渡。 如上所述,IAP RAS 正在努力缩小俄罗斯与世界其他国家之间的巨大差距——大学专家正在开发第一款国产光刻机......
体设备也随之受益。据公开信息显示,半导体设备是用于生产各类型集成电路与半导体分立器件的专用设备,主要包含前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两大类。 前道工艺设备(晶圆制造)用于晶圆制造环节,设备产品包括光刻机......
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司,其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域,具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为,台积电收购IMS可确......
。 首先是中国的国产替代逐渐成长,ASML担心自己的市场被抢。在后道光刻机产品中,上海微电子的光刻机产品,在国内的市场占有率达到了80%,全球也拥有接近40%的市场。 中国芯片制造企业以现有的DUV......
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片,目前正寻求产业链的合作。 2nm关键设备EUV,厂商“抢疯了” 随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强,半导......
,2纳米的精细可想而知。 未来,只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩,因此这些设备纵使卖到上亿欧元,都能被客户所接受。 今天是《半导体行业观察》为您......
的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术,以期在光刻机上有突破,从而实现先进光刻机的独立自主,最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机,且已......
工厂内的试产产线设置EUV光刻机设备,对工厂启用、维修检查提供协助。 2nm,2025年见分晓! 传统晶圆代工龙头企业台积电、三星电子以及新兴企业Rapidus都在积极布局2nm芯片,这三家企业进展......
积电也将在下半年开始量产3纳米。但近日,台积电方暗示4nm、3nm等产能将趋于紧张,原因显示可能是先进制造设备到货延期,这直接指向DUV和EUV光刻机。业界猜测,受到光刻机设备短缺影响,近两......
已经做到了5nm技术,只是因为美国限制了ASML光刻机的出口,导致我们没法生产5nm芯片,但起码技术有了。 据了解,国产光刻机也在抓紧突破中,一旦我们能够攻克光刻机的困难,那么美国就很难制裁到中国科技企业了,甚至......
装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。 EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。 但问题是EUV光刻机......
称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造,而......
国产光刻机巨头拟A股上市;近日,中信建投披露关于上海微电子装备(集团)股份有限公司首次公开发行股票并上市辅导工作进展情况报告(第十期),指出上海微电子装备(集团)股份有限公司(以下简称“上海......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片的前道......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机在硅晶圆上制造出半导体芯片的前道......
)的芯片。 图片来源:塔斯社报道截图 公开资料显示,350纳米尺寸芯片在当代较为落后,但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机......
亿欧元,毛利率为48.6%,净利润达36亿欧元。 EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备,主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年,ASML共销售31台EUV,较前一年增加5台,创收45......
国际和台积电的光罩厂就属于自建,而凸版和大日本印刷(DNP)这样的就是独立光罩厂。2020年以前,国内有能力生产相对高端前道光掩模的光罩厂除了中芯国际,就只有凸版和厦门的PDMC(美日丰创)这样......
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清;近期,一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏,消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化,并表示该项目已在雄安新区落地。 对此,9月18日中......
生产导入EUV(极紫外光)设备,其DRAM芯片产品皆采用DUV(深紫外光)光刻机制造。 近期,媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产,预计......
光谷传来好消息,宇微光学成功研发计算光刻EDA软件; “OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们......
亿日元,占到其营收的24%,2021财年前两个季度来自中国大陆的营收已经超过韩国,成为其营收最大市场。此外,ASML的DUV光刻机营收最大市场也是中国大陆。 国产设备最新进展 国产......
增资完成后,上海睿励注册资本增加至4.28亿元,公司持有上海睿励股权比例为20.4467%。 资料显示,上海睿励成立于2005年6月,致力于集成电路生产前道工艺检测领域设备研发和生产,主营......
台积电:3纳米需求超越供给 明年将满载生产;据钜亨网报道,晶圆代工龙头台积电10月13日召开法说会,总裁魏哲家表示,客户对3纳米的需求超越台积电的供应量,明年将满载生产,3纳米家族量产前......
了28nm光刻机样机,EUV光刻机正在紧张攻关,已取得重大进展。 长春光机所克服了反射镜技术问题,双工作台精度达到5nm,EUV光源系统有重大突破,2025年,国产芯片可达70%资产率,国产EUV光刻机......
危言耸听。但是也不必担心,因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。   对于这样的现状,首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步,这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......

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;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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;济南圣诺(雕刻机)数控设备有限公司;;本厂家专业生产研发:机械雕刻机 木工雕刻机 大理石雕刻机 玻璃雕刻机 工业雕刻机 广告雕刻机 三维扫描雕刻机 圆柱体雕刻机 大功效多功能雕刻机 uv平板
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如:布料花边冲孔,布料激光裁剪,有机玻璃、压克力制品加工,导光板切割,皮革打孔。激光刻字,金属件刻字,塑胶件激光打标,激光焊接加工。
批发写真机配件,大量写真机墨水,雕刻机,喷绘机,复膜机“优” 赶快联系我们。 一; 二手写真设备: 1)进口压电写真设备(罗兰、武藤,米马克) 速度高达28平米/2小时,最高分辨率可达2880DPI