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鼎龙股份：目前已在28nm节点HKMG制程的铝制程抛光液产品上取得了突破;近日，鼎龙股份在接受机构调研时表示，公司 CMP 抛光垫产品已经深度渗透国内各家主流晶圆厂的供应链，成为......
材料在化学和机械的共同作用下，材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化学反应，形成易抛光的软化层，抛光垫和抛光液中的研磨颗粒对材料表面进行物理机械抛光将软化层除去。 图源：鼎龙股份 在 CMP......
鼎龙股份：氧化铝抛光液产品已通过客户端验证，并开启计划采购;3月10日，湖北鼎龙控股股份有限公司（以下简称“鼎龙股份”）发布《关于公司抛光液产品通过客户端验证并开启计划采购的公告》。 公告......
耗材的生产与研发。芯谦通过与上海集成电路材料研究院引领的集成电路材料研发项目合作，启动本项目的建设。 报告书介绍称，化学机械抛光技术(CMP) 是集成电路制造中获得全局平坦化的一种手段，具体工艺由抛光设备、抛光液和抛光......
步加速国产替代进程。 公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
步加速国产替代进程。公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
融资由中科创星领投，天汇资本和张家港智慧创投跟投。资金将用于产能扩建与设备研发。 安储科技成立于2020年，专注于先进电子材料研发、生产和销售，主营产品为配方型功能电子化学品（如抛光液、清洗液， 湿法刻蚀液， 光刻......
永光抢进第三代半导体;永光跨入第三代半导体市场，受瞩目。化工厂永光积极开拓电子化学品市场，投入开发碳化硅（SiC）基板抛光制程的抛光液，传已小量出货给硅晶圆厂。 市场近期传出永光的碳化硅基板抛光制程抛光液......
面积11.5万平方米，项目总投资约10亿元。历经15个月的建设，同步迎来千吨级半导体OLED面板光刻胶（PSPI) 、万吨级CMP抛光液（Slurry）和万吨级CMP抛光液......
产品已实现全面自主研发和量产，有用于金属及非金属硬脆材料加工的切削研磨抛光材料及研磨抛光的精细化工产品，包括但不限于团聚金刚石微粉、团聚金刚石研磨液、氧化铝抛光液、二氧化硅抛光液......
应全球重要的CMP材料包括抛光垫、抛光液等。 从产业地位来看，陶氏化学在全球光阻剂市占率约17%，CMP抛光垫市占79%，CMP抛光液市占率约15%左右。 半导体业界人士表示，陶氏......
化学不仅拥有高纯度化学品产品线，还提供了一系列的光阻材料，包括光阻剂、光阻溶剂、光阻辅助剂等。同时，陶氏化学还是全球重要的CMP（化学机械抛光）材料供应商，包括抛光垫、抛光液等。 数据显示，陶氏化学目前在全球占有17......
安集集成电路材料基地自动化信息化建设项目、宁波安集新增2万吨/年集成电路材料生产项目、安集科技上海金桥生产基地研发设备购置项目等。 资料显示，安集科技成立于2006年，是国内领先的半导体抛光液......
万华电子材料二期项目桩基已于8月19日开工。该项目是“半导体新材料制备与应用技术”项目，项目建成后，将助力化学机械抛光液和抛光垫市场国产化进程。 常州承芯二期机电项目已于9月28日提......
产学研合作。 据介绍，鼎龙股份目前重点聚焦光电成像显示及半导体工艺和显示材料领域，其及子公司已开展多项半导体工艺材料、半导体显示材料及其上游原材料的研究项目，如：CMP抛光垫、抛光液、清洗液等，抛光......
于先进电子材料研发、生产和销售，主营产品为配方型功能电子化学品（如抛光液、清洗液， 湿法刻蚀液， 光刻胶剥离液等）以及电子特气安全存储负压钢瓶两大产品系列。 中科创星提到，碳化硅（SiC）作为......
技术唯一可实现全面平坦化的工艺。CMP材料主要包括抛光液、抛光垫、调节器、CMP清洗以及其他等耗材，其中抛光液和抛光垫占CMP材料细分市场的80%以上。 如今，全球CMP抛光液65%的市场被Cabot、日立、FUJIMI......
开发 300mm 硅片单面抛光机，开始了 CMP 设备的研发。2014 年，四十五所作为“300mm 超薄晶圆减薄抛光一体机研发与产业化”子课题“去应力抛光系统研发与产业化”的责任单位，成功突破承载器、抛光液......
工艺用到的材料有抛光液、抛光垫、调节器等，其中抛光液和抛光垫是核心材料，占比分别为49%和33%。据Cabot Microelectronics公开信息，2018年全球CMP抛光液市场约12.7亿美......
的功率半导体和射频生产线目前国产化替代率已达到70%以上。 耗材方面，立昂微表示生产使用的耗材90%左右已实现国产替代，只有少量耗材如抛光液、光刻胶等需要依赖进口。硅片使用的多晶硅一部分来自国产供应商，另一......
电路产业的关键原材料、零配件（靶材、光刻胶、掩模版、封装载板、抛光垫、抛光液、8英寸及以上硅单晶、8英寸及以上硅片）生产企业，集成电路重大项目和承建企业。 而申请列入清单的企业，原则上需要于每年3......
片和晶圆等生产过程中，晶片表面会吸附各种杂质，超纯水能够有效地清洗晶片表面，去除杂质； 而在SiC半导体制造的蚀刻和抛光等湿法工艺中，则需要使用超纯水来配制蚀刻液、抛光液等化学试剂，确保......
胶、掩模版、封装载板、抛光垫、抛光液、8英寸及以上硅单晶、8英寸及以上硅片）生产企业，进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品。 （四）集成电路用光刻胶、掩模版、8英寸......
、PVD、清洗机等设备，氮化镓方面可以提供刻蚀、PECVD、清洗机等设备。 安集科技目前最新市值达130.94亿元，该公司主营业务为关键半导体材料的研发和产业化，目前产品包括不同系列的化学机械抛光液......
创新奖"。 IC创新大奖 安集载誉前行 "IC创新奖"由大联盟设立，面向国内集成电路产业链上下游企事业单位征集，重点鼓励集成电路技术创新、成果产业化、产业链上下游合作。 大联盟活动中，安集科技凭借"集成电路用自动停止化学机械抛光液......
的需求。公司会持续与客户保持紧密合作，为客户现有产线、新产线、新技术等提供一站式的服务和保障。 上海金桥生产基地，主要生产化学机械抛光液；宁波北仑生产基地，主要生产功能性湿电子化学品，这两......
会持续与客户保持紧密合作，为客户现有产线、新产线、新技术等提供一站式的服务和保障。上海金桥生产基地，主要生产化学机械抛光液；宁波北仑生产基地，主要生产功能性湿电子化学品，这两......
载板、抛光垫、抛光液、8英寸及以上硅单晶、8英寸及以上硅片）生产企业，进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品。 （四）集成电路用光刻胶、掩模版、8英寸及以上硅片生产企业，进口......
。化学机械抛光是化学腐蚀和机械磨削同时进行，分为铜离子抛光、铬离子抛光和普遍采用的二氧化硅胶体抛光。二氧化硅胶体抛光是由极细的二氧化硅粉、氢氧化钠（或有机碱）和水配制成胶体抛光液。抛光......
，2024年底有望提升至50万片/月。 扩产高峰之下，在硅片、抛光液、抛光垫、靶材、电子气体、湿化学品、光刻胶等领域，本土半导体材料厂商均已实现不同程度的突破。部分......
平方英寸，光刻胶年产能 58 万加仑，抛光液年产能 496 万加仑，工艺化学品年产能 70 万吨，溅射靶材年产能 20 万个。 谈及未来我国半导体材料产业发展面临的挑战，石瑛表示，当前，全球......
%的CMP抛光垫市场占有率，以及15%的CMP抛光液市场占有率。 针对此次事件，陶氏化学路易斯安那运营部随后发表声明表示，陶氏化学紧急行动中心正在与当地和州政府机构密切合作，以应......
材料研发、制造和销售的科技型企业，主要产品与服务有抛光垫（PAD）、抛光液（Slurry）、金刚石修整盘、精密抛光头零部件及组装服务（Head Rebuild）等，是实......
集成对半导体材料的要求—适用于系统级封装（SiP)、堆叠封装、异构集成等新型封装架构的先进封装材料解决方案—集成电路领域化学机械抛光液—大尺寸硅片、先进光刻胶、聚酰亚胺、底部填充胶、高端塑封料、电镀液、键合胶等—基于......
电路线宽小于0.5微米（含）的化合物集成电路生产企业和先进封装测试企业，集成电路产业的关键原材料、零配件（靶材、光刻胶、掩模版、封装载板、抛光垫、抛光液、8英寸及以上硅单晶、8英寸及以上硅片）生产......
骨干企业加快光掩模、光刻胶、聚酰亚胺、溅射靶材、高纯度化学试剂、电子气体、蚀刻液、清洗剂、抛光液、电镀液功能添加剂、氟化冷却液、陶瓷粉体等半导体材料的研发生产。最高可给予2000万元的奖励。 突破......
Omdia预计2022年Mini LED背光液晶电视出货总量为300万台; 【导读】 2021 年 Mini LED 背光电视出货量接近 200 万台，是 2020 年出货量的 4 倍......
过制造硅锭、切割锭及研磨和抛光晶圆表面后，再经过抛光液和抛光机来抛光晶圆表面。在进一步加工之前抛光晶圆称为裸晶圆，表示尚未制造芯片。使用许多物理和化学工艺在裸晶圆上制造集成电路后，晶圆最终制作完毕。半导......
合达成功打入全球导电型碳化硅衬底材料市场前十榜单。 一 材料：8英寸产品不断开出，国产替代卓有成效 展会现场展出了许多半导体材料，如美科瑞先进材料带来了多款抛光液，容大感光、科华、宁波南大光电均展出了光刻胶等材料，第三......
替代卓有成效 展会现场展出了许多半导体材料，如美科瑞先进材料带来了多款抛光液，容大感光、科华、宁波南大光电均展出了光刻胶等材料，材料厂商也非常多，天岳先进携其高品质6英寸、8英寸碳化硅衬底产品亮相展会；天科......
南沙将重点发展SiC、GaN衬底、外延材料等第三代半导体材料；突破积层法多层板等新型封装基板技术；金属靶材、合金靶材等高纯度靶材，形成规模供应能力，突破陶瓷靶材、8N纯度以上靶材生产工艺等技术；抛光垫、抛光液......
垫材料领域进行布局，主要聚集CMP抛光垫、CMP抛光液、清洗液产品，半导体显示材料领域的YPI、PSPI产品，并在半导体产业链下游的国内主流晶圆厂、显示面板厂放量销售并稳定供货。 鼎龙股份表示，公司......
充等领域的进一步渗透意义重大。 普瑞昇新材成立于2023年4月，在12月也完成了数千万人民币天使轮融资。该公司专注于高端氧化铝抛光液和抛光磨料等产品研发，为包括SiC在内的第三代化合物半导体抛光提供有效的国产替代方案。 此外......
汽车抛光、打蜡、封釉和镀膜有何区别？;新车到手，除了正常的洗车、装饰之外，很多人都会急不可耐的给爱车美容，打蜡、封釉、镀膜又该如何选择呢？这些到底有什么区别呢？ 1、产品......
晶盛机电半导体材料抛光及减薄设备项目建成时间延后至明年6月;6月15日，晶盛机电发布公告称，审议通过了《关于部分募集资金投资项目延期的议案》，同意将向特定对象发行股票募集资金投资项目“年产80台套半导体材料抛光......
资料 新型ECMP技术 目前在抛光工艺上，成本、环保等方面仍是制约碳化硅衬底广泛应用的瓶颈。传统CMP（化学机械抛光）需要使用大量的抛光液材料，抛光液成本占抛光环节成本比例较大，这不......
除发行费用后拟向12英寸集成电路大硅片设备测试实验线项目投入5.64亿元，向年产80台套半导体材料抛光及减薄设备生产制造项目投入4.32亿元，剩余4.24亿元用于补充流动资金。 其中，年产80台套半导体材料抛光......
鼎龙股份：拟新建集成电路CMP用抛光垫项目及集成电路制造清洗液项目;鼎龙股份14日公告，公司拟新建集成电路CMP用抛光垫项目（三期）及年产1万吨集成电路制造清洗液项目。计划投资合计5.67亿元，本次......
材料领域，一些中国厂商打破了垄断，开始填补产业空白：2020年鼎龙股份的抛光垫产品成功量产并销售，2019年安集微电子具备量产8-12英寸芯片抛光液的能力；在湿电子化学品领域，德日美韩台企占据85%的全......
组合覆盖半导体行业中特种气体、湿电子化学品，光刻胶，硅基材料，研磨液抛光液等产品的制造工艺；厂务和制程层面包括从厂务超纯水各参数的在线监控到制程中湿电子化学品的测量。 梅特勒托利多展台 六、安徽耐科装备科技股份有限公司 安徽......

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