资讯
尹志尧：打造全方位高质量的，有国际竞争力的半导体设备公司(2021-09-02)
)。CCP和ICP是等离子刻蚀设备中应用最广泛的两类设备。】
目前公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装。
半导......
总投资10亿元 思普尔科技项目落户扬州高新区(2021-03-24)
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。
图片来源：扬州高新区
项目分三期实施，一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线，主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影设备和等离子刻蚀设备......
布局省内首条产线，山东有研刻蚀设备用硅材料项目通线量产(2024-10-21)
在完善新一代信息技术产业链上迈出关键一步。
刻蚀设备用硅材料部件主要包括硅环和硅电极，是晶圆制造刻蚀环节所需的核心耗材，主要用于生产8至12英寸等离子刻蚀机，在刻蚀机上起到重要支撑作用。据悉，该项目总投资3.57......
中微公司：正进行高产出的ICP刻蚀设备的研发(2021-06-02)
会在保持当前市场地位和技术竞争优势的基础上，在Mini－LED新型显示及功率器件等领域进行布局。
ICP刻蚀产品方面，中微公司称，电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，截止2020年底，公司......
刻蚀设备收入增长58.49% 中微公司2020年营收22.73亿元(2021-03-31)
根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层及以上刻蚀应用及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外，电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，正在进行新技术研发，以满足5纳米......
中微公司在针对美商科林研发提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉(2023-07-11)
和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们......
扩产受阻！传长江存储大砍设备采购订单：北方华创遭砍单70%！(2023-02-15)
厂商泛林集团占据超过一半的采购量。中微公司中标了50台CCP 等离子体刻蚀机；屹唐半导体中标了13台ICP 等离子体刻蚀机；北方华创则中标了24台ICP 等离子体刻蚀机。此外，北方华创还中标了2台清洗设备......
聚集集成电路领域，嘉芯半导体与嘉善复旦研究院达成战略合作(2023-08-18)
2022年下半年开始，嘉芯半导体多次中标客户特色工艺生产线，包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、深槽刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机；高密度等离子薄膜沉积设备（HDP-CVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备......
中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案，终审胜诉！(2023-07-11)
Corporation，又称“科林研发”）提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。
在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中，法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀......
中微半导体诉讼美国泛林公司非法获取商业机密获胜(2023-07-12)
)提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。
在 6 月 30
日上海市高级人民法院的终审判决中，法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片;法院......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线(2021-04-06)
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线;4月6日消息，中微公司举行了2020年度业绩说明会。会上，中微公司董事长、总经理尹志尧表示，公司的等离子体刻蚀设备......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运(2024-03-21)
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运;3月21日，中微公司宣布，公司电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付(2021-06-10)
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付;中微公司官微消息显示，6月9日，中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反......
为刻蚀终点探测进行原位测量 使用SEMulator3D®工艺步骤进行刻蚀终点探测(2024-01-18)
深度控制。使用类似方法，也可以进行其他类型的自动工艺控制，例如深度反应离子刻蚀 (DRIE) 或高密度等离子体化学气相沉积 (HDP-CVD) 工艺控制。
参考资料：
[1] Derbyshire......
为刻蚀终点探测进行原位测量(2024-01-22)
以进行其他类型的自动工艺控制，例如深度反应离子刻蚀 (DRIE) 或高密度等离子体化学气相沉积 (HDP-CVD) 工艺控制。
......
为刻蚀终点探测进行原位测量(2024-01-18)
工艺中被完全去除，也可测量刻蚀后剩下的材料（取决于刻蚀类型）。使用这一方法可成功模拟原位刻蚀深度控制。使用类似方法，也可以进行其他类型的自动工艺控制，例如深度反应离子刻蚀 (DRIE) 或高密度等离子......
受益于半导体设备市场发展，中微公司2021年新签订单量暴增(2022-02-24)
利等国家和地区。
从上面的业绩报告来看，2021年中微公司的新签订单大幅增加也是净利润增长的主要因素之一。
据官方披露，2021年6月，中微公司宣布电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo......
中微公司南昌生产研发基地项目正式建成，并投入使用(2023-07-10)
MOCVD设备主要用于氮化镓（GaN）基Mini LED外延片量产，同年其设备订单超100腔，并入选江西省科技成果转化十大典型案例。
中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备......
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备(2022-04-02)
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备;据招标平台信息显示，4月1日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微半导体”）中标华虹半导体（无锡）有限公司12台刻蚀机。
图片......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准(2023-05-11)
已顺利导入客户端进行生产线核准。
中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。据悉，中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀......
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰(2023-10-17)
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰;海洋光学（Ocean Optics）长期以来一直为半导体工艺设备供应商的新材料研究提供强大支持，同时协助用户克服等离子刻蚀、沉积、涂层......
基于光学发射光谱法监测等离子体的光谱峰(2023-10-17)
供应商的新材料研究提供强大支持，同时协助用户克服等离子刻蚀、沉积、涂层和清洁等方面的困难和挑战。海洋光学的光谱仪，基于光学发射光谱技术，被广泛应用于等离子体监测，并在刻蚀终点检测方面表现出色。
实验配置：
实验......
国产半导体设备实现关键突破！(2024-09-12)
，目前北方华创的TSV刻蚀设备已广泛应用于国内主流晶圆厂和先进封装厂，是国内TSV量产线的主力机台。12英寸高密度等离子体化学气相沉积设备目前已正式进入客户端验证，电容耦合等离子体、晶边刻蚀......
国内半导体设备频传佳音：签单、合作…(2023-09-05)
，产品范围覆盖芯片制造核心设备的多个重要品类。
据了解，自2022年下半年开始，嘉芯半导体多次中标客户特色工艺生产线，包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀......
中微半导体设备（上海）股份有限公司声明(2024-02-05)
于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些......
52腔MOCVD设备，中微公司再接大单(2022-03-29)
显示屏等终端产品。
△Source：中微公司
资料显示，中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，开发的离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备。
其中等离子体刻蚀设备......
这家设备厂收购意大利薄膜设备TFE公司(2023-09-22)
收购将使我们能够在全球范围内扩大我们的研发资源和客户服务与支持团队，为我们的客户提供及时的解决方案。”
据悉，Plasma-Therm于1974年在美国成立，为专业半导体和纳米技术市场提供等离子刻蚀、沉积和先进封装设备。该公司目前拥有40多项等离子工艺和设备......
芳华十八，砥砺奋发：中微公司成立18周年(2022-08-03)
企业的翘楚。从2007年首台CCP刻蚀设备研制成功并交付客户起，中微公司等离子体刻蚀设备不断突破创新，其产品从65纳米到14纳米、7纳米、5纳米......
业绩抢先看！中微半导体 2020年净利润同比增161%(2021-02-26)
芯国际股价变动导致公司产生公允价值变动收益约 2.62 亿元。
中微半导体主要从事高端半导体设备的研发、生产和销售。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司......
16.7亿元中微临港产业化基地正式启用(2024-08-05)
滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中，建成后占地面积约10万平方米。未来，中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米。
此外，据了解，中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微......
泛林集团在芯片制造工艺的刻蚀技术和生产率上取得新突破(2020-03-12)
泛林集团在芯片制造工艺的刻蚀技术和生产率上取得新突破;近日，泛林集团（Nasdaq: LRCX）发布了一项革新性的等离子刻蚀技术及系统解决方案，旨在为芯片制造商提供先进的功能和可扩展性，以满......
中微公司在TechInsights 2023年客户满意度调查 榜单中位列两项第一(2023-05-19)
有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加......
国产半导体设备，传来新消息(2024-11-12)
公司正在逐步克服挑战，实现业绩反转。中微公司表示，营收变化因素主要系公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀......
反击！中国芯片设备制造商中微公司正式起诉(2024-08-19)
和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们......
湖南德智新材料半导体用碳化硅蚀刻环项目完成主体工程建设，将于明年初投产(2022-06-13)
，投产后年产值超1亿元。
消息显示，SiC刻蚀环是半导体材料在等离子刻蚀环节中的关键耗材。SiC刻蚀环对纯度要求极高，只能采用CVD工艺进行生长SiC厚层块体，随后经精密加工而制得，主要用于半导体刻蚀......
与科创板共同成长，中微公司迎来上市三周年(2022-07-26)
机，中微公司已经成为国内高端微观加工设备的翘楚。在刻蚀设备方面，中微公司等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米、5纳米......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目， 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备......
持续突破，中微公司超过十年平均年营收增长率超过35%(2024-01-31 10:13)
一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，中微公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。据2023年半年报披露，中微公司等离子体刻蚀设备......
已购置300台套进口光刻机等设备，安徽30亿半导体项目投产(2022-01-13)
华瑞微电子半导体IDM芯片首期项目已购置300台套进口光刻机、离子注入机、等离子刻蚀机等设备，该公司近日已进入试产阶段，主要生产6英寸晶圆。
据悉，华瑞微半导体IDM芯片一期项目的建成投产，创造......
多家A股厂商订单量大增，国产半导体设备进入成长期(2023-04-12)
预计年度新增订单区间在52-57亿元，制程设备订单区间为20-25亿元。
02
中微公司：等离子体刻蚀设备市占率提高，已在5纳米芯片生产线等批量销售
2022年，中微公司实现营收47.4亿元，同比......
中微半导体首台8英寸CCP刻蚀设备顺利付运(2021-06-17)
中微半导体首台8英寸CCP刻蚀设备顺利付运;近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微半导体”）首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利......
攀登勇者，志在巅峰 | 中微公司二十载风华正茂，临港基地落成共启新篇章(2024-08-05)
和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们......
攀登勇者，志在巅峰 中微公司二十载风华正茂，临港基地落成共启新篇章(2024-08-05 11:02)
（上海）股份有限公司中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012，英文简称：AMEC）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备......
积塔半导体临港厂区3月份生产超目标完成，维持98%以上产能正常运转(2022-04-22)
资本由40亿元增至93.21亿元。
今年以来，积塔半导体设备需求明显上升，根据机电产品招标投标电子交易平台数据不完全统计，2022年以来至今积塔半导体发布的设备类招标信息中，招标设备超100台，包括金属等离子刻蚀......
半导体设备高光时刻来临，景气度有望拉满第三年(2022-10-08)
基本可以覆盖到半导体制造的各阶段所需，在制造实力上，我国在刻蚀、清洗、薄膜沉积设备方面较为突出，尤其是我国的刻蚀设备，已经成长为我国最具优势的半导体设备领域，逐渐进入到成熟期。而在CMP、光刻、离子注入等设备上，我国......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）(2020-08-18)
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识
1.基本原理
前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备......
欧空局推出硬币大小的MEMS火箭推进器(2023-10-11)
Laboratory）内采用了他们开发的MEMS工艺制造而成的。他们通过反应离子刻蚀（Reactive Ion Etching，RIE）技术刻蚀难溶金属来构建推进器的结构。接着溅射沉积铱层，铱层......
奥松电子推出AS200系列质量流量控制器(2023-07-20)
, 如外延炉、扩散炉、CVD、等离子刻蚀机、溅射台、离子注入机; 以及镀膜设备、光纤熔炼设备、微反应装置、混气配气系统、气体取样装置、毛细管测量仪、气相......
焕芯启程，聚势腾飞：中微公司南昌新厂落成仪式隆重举行(2023-07-07 16:23)
代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些......
焕芯启程，聚势腾飞：中微公司南昌新厂落成仪式隆重举行(2023-07-07)
代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些......
相关企业
星型CD/DVD激光刻录机，激光系统等 2、微结构电铸系统：包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机：EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
/DVD激光刻录机，激光系统等 2、微结构电铸系统：包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机：EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备：等离子刻蚀
星型CD/DVD激光刻录机，激光系统等 2、微结构电铸系统：包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机：EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
高素质的核心管理层，专业研发、生产、销售工业用专业制造等离子清洗机（电浆清洗机）、等离子刻蚀机、自动硅片插片机等，广泛应用于LED、LCD、LCM、显示器, 手机和笔记本电脑的按键及外壳, CMOS摄像
致力于为以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等高品质设备： 半导体LED：硅片清洗机；硅片腐蚀机；硅片清洗腐蚀设备；基片湿处理设备；硅片清洗刻蚀设备；硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备
、氧化、等离子刻蚀、离子注入，直拉式晶炉，精密半导体、燃料电池、气调储存保鲜相关设备、生物反应器、生物过程控制器、大学实验室、研究所、食品及制药产业、医疗设备、气相色谱仪等相关行业。 致力于为客户提供专业的仪器仪表及精密稳定的过程控制设备
闭状态容器内部活动多余物的检测，此产品获得过科工委科学进步奖； （二）代理国际知名品牌的半导体材料制备和分析检测设备，例如: 超高真空薄膜沉积系统;分子束外延系统；脉冲激光沉积系统；感应耦合等离子刻蚀设备
、RCA湿法清洗机，磷硅玻璃清洗设备，液晶湿制成设备（PR前清洗设备.PI前清洗设备.TOP前清洗设备.显影刻蚀设备）,二手设备维护翻新业务等.
求，高品质为产品技术理念，力争打造成为中国本土半导体设备制造业航母。 产品包括：太阳能电池清洗设备, 半导体清洗设备,微电子工艺设备及清洗设备，太阳能电池片清洗刻蚀设备, 微电子半导体清洗刻蚀设备,LCD
，微电子行业，连接器等行业，广收客户好评，在这些行业应用中积累了许多的工艺知识，可为类似的客户提供更全面的工艺方案，并为其配置合理的机型，力求用最低的成本取得最优的效率，我们从小型到中型及大型等离子清洗及刻蚀设备