国产光刻机重大突破

国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机获重大突破...

有报道称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W设备。 上海微电子的第一大股东是上海电气控股集团有限公司，持股...

最新，国产光刻胶通过验证！; 据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现...

新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50...

半导体行业分析师张宏周二对《环球时报》表示，上海微电子装备集团（以下简称，上海微电子）一直致力于研发 浸没式光刻机，预计首台国产 SSA/800-10W 光刻机将于 2023 年底交付。 这将是该行业的重大突破...

出明显的优势。   但国产光刻胶企业想要突破它，不仅面临原材料、纯度等难题，还面临强大的专利壁垒。   从全球EUV光刻胶专利的申请量上来看，1998年EUV光刻胶专利的申请量只有6件，此后...

ArF光刻胶，各项光学性能均达到商用胶的水平，可实现先进光刻胶的国产替代，产业化取得关键突破，拿到国产光刻胶的首个订单，实现小批量销售。  据悉，目前南大光电的光刻...

国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中...

ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条...

化。 在接下来的一年内，多家国产光刻胶企业宣布自己的KrF/ArF光刻胶项目取得关键性突破，也有一批本土光刻胶项目获得了新投资。 2021年5月，南大光电在业绩说明会上表示，公司的ArF光刻...

经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国...

一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者...

化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。 国产光刻胶新突破！ 另外，值得肯定的是，国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例，该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年...

国产光刻胶上演“冰火两重天”;今年以来，国产光刻胶一直是业界关注的焦点，资本青睐、光刻胶厂商也不断加码布局，而关于光刻胶的讨论与争议从未停歇。 投资布局火热 作为备受关注的“卡脖子”半导...

发生的背景是：在全球缺芯持续之下，一个半导体行业500人的微信群内正就国内半导体领域紧缺的“光刻胶”耗材国产化进行交流，但是对于光刻胶以及中芯国际看法上，被称为“中芯国际光刻胶负责人”的杨晓松认为，虽然国产光刻...

Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破产重组）提供90-250nm芯片制造，拥有8英寸晶圆厂，两家都以提供军用、航天和工业领域芯片产品为主。因此，预计新的国产光刻机...

资委批准，徐直军将被调到上海微电子担任董事长兼总经理”。 资料显示，上海微电子是国产光刻机的龙头企业，成立于2002年，大股东是上海电气。 截图自上海微电子官网 风口浪尖的华为，再度曝出重大人事变动，势必...

，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破...

的市场份额，且侧重中高端光刻胶布局，垄断地位稳固。 从我国光刻胶情况看，国产光刻胶产品主要集中在g/i线市场，同时厂商也在不断发力KrF、ArF等高端光刻胶领域，并获得了一定突破。 在KrF光刻...

直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限，我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机，产能...

国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未...

晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻...

成立了半导体与集成电路产业联盟，围绕重大项目落地，高水平建设集成电路专业园区，吸引上下游配套企业集聚，逐步由“点状的重大项目用地”发展成“面状的集成电路专业园区...详情点击 4国产光刻...

%，跃升为全球第三。 据公众号“ASML阿斯麦光刻”介绍，这是一次重大突破，ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。ASML的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产，为其...

巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据...

了国内许多优秀的半导体企业，尤其是在半导体材料方面，不仅有沪硅产业这样的龙头，也有南大光电和晶瑞股份这样知名的国产光刻胶企业。 接下来， 跟随小编一起逛一逛那些 参加2021 SEMICON...

电子”的企业苗子； 3、加速装备从验证到“批量采购”的过程，为本土装备材料企业争取更多的市场机会。 总结 南大光电作为国产光刻胶龙头企业，近期已经取得了不错的成绩，此次...

上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要...

向塔斯社报告了这一点。 他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10...

微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机...

替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州...

正在建设28纳米工厂，但这个技术流程早已失去了相关性——4纳米技术流程早已掌握，并在2023年向3纳米过渡。 如上所述，IAP RAS 正在努力缩小俄罗斯与世界其他国家之间的巨大差距——大学专家正在开发第一款国产光刻机...

技术及关键零部件进口难度可想而知。 短期内，核心部件技术突破并不现实，那么通过外交干涉来解决核心部件进口问题将成为关键，如何处理中美、中日等复杂的国际关系是摆在中国政府面前的一大挑战。 巨头垄断，设备推广面临挑战 相对于国产光刻机...

已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至...

国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 在半导体制造环节，光刻...

国产光刻胶新突破！;近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大”技术。本文引用地址：在半导体制造环节，是不可或缺的材料，其质...

16日起在全国中小企业股份转让系统挂牌公开转让。 官网显示，瑞红苏州成立于1993年，是国内著名的专业生产微电子化学品的工厂，主要生产光刻胶、配套试剂、高纯化学试剂等黄光区湿化学品，应用于FPD...

后，俄罗斯日常突破  先不谈技术，其实俄媒CNews是一个很"咋呼"的媒体，时常传出重大突破的新闻，可能比我们国内某些标题党还厉害。让我们先"品鉴"一下俄罗斯的光刻"突破"之路： 2022年4月...

胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机，现已全部到厂。 目前，其自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，光刻胶项目取得重大突破。 同日，上海新阳发布公告称，公司...

工艺中不可缺少的材料，光罩的成本也占到光刻成本的将近一半，其地位自然是相当重要的！光罩在FPD，集成电路的前后道光刻中都是必须的材料。 01 强劲市场势头拉动国产光...

得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。 据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布(当前...

胶厂商占据市场规模小，但未来替代空间较大。 当前国产光刻胶产品主要集中在g/i线市场，同时厂商也在不断发力KrF、ArF等高端光刻胶领域，并获得了一定突破。 KrF光刻胶领域，北京...

现了中国政府直面挑战的决心和大国魄力。 巨头垄断，设备推广面临挑战：相对于中国产光刻机的步履维艰，中国产氧化炉、刻蚀机与薄膜沉积设备已初现活力，中国产设备正逐渐打入中芯国际、华力微电子、三安光电、武汉...

俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机...

软件等规模化应用，探索光刻机整机测试平台建设。填补核心材料产业空白环节，实现光刻胶、溅射靶材和专用气体等材料国产化突破。加速先进封装工艺和测试能力落地，满足国产CPU、显示驱动和5G射频...

21年来首次！佳能扩产光刻机设备！;据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标...

集中体现西方近百年来的工业结晶。近期在求是缘举办的光刻机座谈会上，傅新教授谈到在光刻机研发中，可能是中国缺乏高精度加工的设备及部分材料等。由此表明要全盘国产化是十分艰难的。只有选择性的进行突破，长自己的志气，才有希望。因此对于半导体国产...

中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机...

制造工艺可达到0.768nm，打破了当前光刻机预期的1.8nm工艺极限，这对于ASML来说无疑是重大打击。 全球各个经济体研发无需光刻机的工艺，在于当下的光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，第二...

胶及G线、i线光刻胶，前三者均为高端光刻胶产品。本次产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。 ArF光刻...