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总投资22亿元，迈特光电光掩膜版项目在重庆两江新区开工;据重庆两江新区消息，4月24日，重庆迈特光电光掩膜版项目在重庆两江新区开工。项目总投资22亿元，预计明年开始生产，计划2024年第......
月24日，重庆迈特光电光掩膜版项目在两江新区正式开工。 据“重庆日报”此前报道，该项目总投资22亿，预计2024年开始正式生产，计划2024年第四季度开始量产。 重庆迈特光电......
—28nm光掩膜版量产，满足8寸和12寸晶圆厂掩膜版需求，年产光掩膜版80000片。 其中，“高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期”的产品覆盖250nm-65nm制程的高端半导体掩膜版。高端半导体掩膜版项目......
产能。DaiNippon Printing也在4月至9月期间的半年财报中看好未来市况。 国内厂商方面，今年11月，冠石科技对外表示，公司投资建设的光掩膜版项目目前处于建设阶段，首批设备交付后预计2025年公......
亿元）、半导体紫外LED及模组项目（投资5亿元）、精细金属掩膜版项目（投资5亿元）；第三批签约共7个项目包括半导体掩膜版项目（投资10亿元）。 ......
（投资20亿元）、半导体紫外LED芯片及模组项目（投资5亿元）、精细金属掩膜版项目（投资5亿元）；第三批签约共7个项目包括半导体掩膜版项目（投资10亿元）。 封面图片来源：拍信网......
开工。  清溢光电佛山生产基地项目将建设平板显示配套掩膜版生产线和半导体IC配套掩膜版生产线。未来，将实现250-28nm光掩膜版量产，满足8寸和12寸晶圆厂掩膜版需求。 封面图片来源：拍信网......
和12英寸集成电路生产线，光掩膜版生产线，芯片测试厂。2021年8月，青岛芯恩正式宣布8英寸厂投片成功，光罩厂也于同期完成了产品交付。 02 光罩市场集中度高 光罩也称为光掩模版，主要......
半导体将在临港新片区投资建设国内首条半导体级14nm光掩膜基板生产线，该半导体级先进制程光掩膜基板生产线的落地，将使光掩膜产业链中关键产品实现本地化。 公开资料显示，光掩膜一般也称光罩、掩膜版，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜......
年5月16日与宁波前湾新区管理委员会签署《投资协议书》，投资建设半导体光掩膜版制造项目。该项目实施主体为宁波冠石半导体有限公司，项目总投资约20亿元，先期投资16亿元，拟用地约68.8亩，建设......
的产能需求。而路维光电此次IPO也募资扩建高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版产能。 另外，由中芯国际创始人、青岛恩芯创始人张汝京主导的掩模版材料产业链项目落户于浙江嘉兴科技城，该项目......
清溢光电拟募资12亿元投建高端半导体掩膜版基地等;近日，清溢光电发布公告称，公司拟向特定对象发行股票募集资金总额不超过12亿元（含本数），募集资金扣除相关发行费用后将用于投资高精度掩膜版生产基地建设项目......
模行业还存在产业链断层的情况。掩膜版的关键上游材料基板都依赖于从日本进口。这就意味着，即使中国光掩模企业从海外巨头手中抢得订单，但上游材料却依然需要从日本进口，增添了许多的无奈。 核心......
清溢光电拟定增募资不超12亿元，投建半导体掩模版等项目;12月6日，清溢光电发布公告称，公司拟向特定对象发行股票募集资金总额不超过12亿元（含本数），募集资金扣除相关发行费用后将用于投资高精度掩膜版生产基地建设项目......
高端功率及数模混合芯片产品生产线一条、12英寸40～28nm超低功耗逻辑与嵌入式以及RF-SOI先进芯片产品生产线一条、180～14nm光掩膜版生产线一条。 一期达产后，将形成年产相当于8英寸36万片......
预计总投资人民币20亿元，项目公司将依托路维光电在掩膜版领域的技术基础，深耕半导体掩膜版领域，建设130nm-28nm制程节点的半导体掩膜版产线。 公开资料显示，江苏路芯半导体技术有限公司是一家半导体掩膜版......
22日，华润微电子迪思高端掩模项目奠基仪式在无锡高新区举行。据介绍，无锡迪思微电子有限公司是华润微电子旗下的重点企业，长期聚焦光掩模制造领域。 据悉，掩膜版......
超20亿！豪雅光掩模版项目签约落户重庆;据重庆两江新区消息显示，1月11日下午，2023两江新区全球招商大会在两江新区礼嘉智慧馆举行。此次签约项目中，制造业项目20个，金额超249亿元，在智......
公布的“2018年全球半导体材料市场构成”数据可知，硅片约占了整个半导体材料的38%，其次是电子特气和光掩膜版分别各占13%，再次是光刻胶及配套材料约占12%，CMP抛光材料占了7%，湿电子化学品占了5......
清溢光电拟对半导体掩膜版生产基地项目增资5亿元;12月16日，清溢光电发布公告称，为进一步提升公司的核心竞争力，推动公司整体产业发展的战略布局，满足清溢微高端半导体掩膜版生产基地建设项目......
过ASML 的产品认证，为多家国际一流半导体厂商供货。 掩膜版 掩膜版（Photo mask）又称光罩、光掩膜等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，在光刻过程中，掩膜版......
路芯半导体掩膜版生产项目厂房主体结构封顶;据苏州工业园区发布消息，近日，路芯半导体掩膜版生产项目举行厂房主体结构封顶仪式。 路芯半导体掩膜版生产项目位于高贸区胜浦路以西，同胜路以北，占地......
将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶形成的图形与掩膜版（光罩）相同，负性光刻胶显影时形成的图形与掩膜版相反。根据感光树脂的化学结构，光刻胶可分为光聚合型，光分解型和光交联型。根据应用领域，光刻......
计算光刻技术 cuLitho。cuLitho可以将下一代芯片计算光刻度提高 40 倍以上，极大降低了光掩膜版开发的时间和成本。 cuLitho的成功，帮助摩尔定律前进到2nm扫平了一些外在障碍，同时也证明在传统CPU......
宁波江丰电子年产5.2万个超大规模集成电路用超高纯金属溅射靶材产业化项目、甬矽微电子集成电路IC芯片封测项目二期、半导体光电和功率器件IDM项目、睿晶半导体掩膜版生产基地项目、灵芯......
土生土长的人才和技术才能落地生根，枝繁叶茂。 EUV光掩膜自制市场为主 由于......
模版，KrF、ArF移项光掩模版，前瞻布局深紫外光（DUV）掩膜版；同时聚焦目前国产化率较低、市场需求较大的高端KrF、ArF深紫外线（DUV）光刻胶，力争打造全国规模最大、技术......
使用半大马士革工艺流程研究后段器件集成的工艺;SEMulator3D®虚拟制造平台可以展示下一代半大马士革工艺流程，并使用新掩膜版研究后段器件集成的工艺假设和挑战 作者：半导......
边缘定位误差，并实现具有挑战性的制造工艺，需要进行工艺调整。为应对这些挑战，我们尝试在节点后段自对准图形化中使用方法。我们在imec生产了一组新的掩膜版，以对单大马士革和双大马士革进行电性评估。新掩膜版......
新进展 光掩膜需求上升 1三大原厂HBM最新开发进度 据TrendForce集邦咨询最新HBM市场研究显示，为了更妥善且健全的供应链管理，NVIDIA也规划加入更多的HBM供应商，其中......
DNP开发出用于3纳米EUV光刻的光掩膜工艺;响应电路线宽日益精细化的半导体市场需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜......
半导体寒冬下，这一关键材料却陷供应紧缺，交期为往常4至7倍;尽管半导体行业整体景气欠佳，但是却有一类关键材料陷入供应紧缺。 据韩国ET News报道，半导体光掩膜供应紧缺，多家光掩膜......
日本产半导体光刻机PPC-1 广告 50周年纪念标志 佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
预期可能过于乐观。从更实际的表现来看，2019年10月，TCL公布华星光电的OLED喷墨印刷项目进展顺利，公司预期其8.5代广州T8生产线会在2024年开始大规模量产。 早前的《广州市2020年重点建设预备项目......
系统上与之竞争。可即使在DUV领域，ASML也拥有62％的市场份额。 然而，极紫外光刻产业又并不仅仅只有EUV光刻机。 根据半导体专家莫大康的介绍，与EUV相关的还包括光掩膜......
的半导体产业链基础薄弱，打造完整的供应链体系相当困难。究竟半导体产业链各环节的国产化程度如何？ （一）、上游材料主要被日美企业垄断 半导体上游材料主要由硅晶圆、光刻胶、光掩膜版、特种气体、CMP抛光......
来源：新材料在线） 另外，在将终端材料蒸镀到基板上的过程当中，还需要用到掩膜版，这是OLED蒸镀工艺中必不可缺少的高价值核心生产耗材，需要定期更换，生产......
光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系，当这些子光束投射在掩膜版上叠加时会形成固定的干涉图样，出现有明暗变化、光强不均匀的问题，因此，必须先进行去相干处理(或者采用避免相干影响)，达到匀光效果，以保......
ultraviolet，EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时，相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系，当这些子光束投射在掩膜版......
普斯赛特光电第三代半导体产业基地项目封顶;据湖南润成建设有限公司消息，5月24日，普斯赛特光电第三代半导体产业基地项目封顶仪式举行。 消息称，普斯赛特光电第三代半导体智能化产业基地建设项目......
直接成像设备及直写光刻设备两大核心系列产品。其中在直写光刻设备方面，公司目前能提供最小线宽在500nm-10μm的设备，主要应用于下游IC掩膜版制版以及IC制造、OLED显示......
光刻装置中，相干光源 1 发出的光线经旋转的反射镜 2 的反射后，通过照明系统 3 分割为多个子光束并投射至掩膜版 4 上，以进行光刻。 在光刻装置中，上述照明系统 3 作为重要组成部分，其主......
功耗逻辑与嵌入式以及RF-SOI先进芯片产品生产线一条、180～14nm光掩膜版生产线一条。 2019年10月，一期项目厂房封顶，同年12月，青岛芯恩设备进场；2020年7月20日，西海......
是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统......
也标志着半导体行业的制造工艺即将迎来革命性进展。 光刻技术：皇冠上的那颗明珠 在集成电路芯片制造中，光刻是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于......
等离子旋转晶圆，形成原子级别膜的设备，利用EUV光掩膜的成膜设备，准确形成硅膜、硅化合物膜的设备； 热处理：通过热处理，除去薄膜内空隙的设备； 曝光：EUV涂覆、显影设备，防护板(EUV光掩膜方向)生产......
推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。 所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照......
规模，打造具有全球影响力的MEMS封测产业集群。推动济南、青岛2市8英寸集成电路晶圆制造生产线形成量产能力，加快提升大尺寸硅片、光掩膜版、光刻胶等制造环节材料产能。 提升......
还与日本 Lasertec 公司合作开发专门用于 High-NA 光掩膜的检测设备。 IT之家援引 DigiTimes 报道，三星已经购买了 Lasertec 的 High-NA EUV 掩膜......
部门 的问题 涉及cycle time的问题始于掩膜部门。在流程中，芯片制造商设计一个IC，然后将其转换为文件格式。然后基于该文件格式开发光掩膜。 光掩膜是IC设计的主模板。掩膜......

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