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2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 据悉，晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶......
旗下参股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司（以下简称“芯刻微”）委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶......
已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻胶......
还与IC制造工艺紧密结合，因此厂商要想研发光刻胶，首先就需要有一台光刻机。光刻机的价值之高想必大家都有所耳闻。在2021数博会上，中国工程院院士吴汉明公开表示，一台高端EUV光刻机价值1亿美元。根据......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻胶......
”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，就安排购买了ASML-1400光刻机等核心设 备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的 回复》中披......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用;近日，南大光电在业绩说明会上表示，公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
购买ASML光刻机，晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日，晶瑞电子材料股份有限公司（以下简称“晶瑞电材”）发布公告称，公司......
来生产，更需要高端的光刻胶作为辅助材料，以及大量的芯片原材料，才能成功生产出华为手机所需要的芯片。 光刻机被美国和荷兰的公司垄断，现在EUV光刻机对中国处于断供状态，中芯国际花了12亿购买的EUV光刻机......
过部分重要客户测试，KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中，计划2022年形成批量供货。 自2020年启动集成电路制造用高端光刻胶研发项目以来，晶瑞电材不断完善半导体设备。在原有3台光刻机的基础上，晶瑞电材于2020......
配套高纯显影液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻胶......
发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前，光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。 根据曝光波长的不同，光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别，其中g线、i线一......
晶瑞电材：高端KrF（248）光刻胶已完成中试，公司已到5台光刻机;12月15日，晶瑞电材在互动平台表示，公司近期已购得KrF光刻机一台，可用于KrF光刻胶的曝光测试，同时公司KrF光刻胶......
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。 作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显......
德州大学奥斯汀分校支持成立的半导体联盟，由德州当地政府、半导体企业、国立研究所等所组成，而TIE将使用NIL光刻机进行研发与试产先进半导体。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，佳能......
半导体领域。  除了历史悠久，经验丰富之外，公司在光刻胶方面有一个很大优势，就在于自己拥有5台光刻机，这一点与程彤新材旗下子公司北京科华类似。公司2020年购买了阿斯麦1900 Gi型光刻机，2021年下......
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
飞凯材料：半导体光刻胶已形成少量销售，正在做KrF相关的开发工作;4月12日，飞凯材料公布投资者关系活动记录表。飞凯材料的光刻胶主要有显示面板光刻胶和半导体光刻胶，其主要产品多应用于半导体封装、面板......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测;4月11日，容大感光在投资者互动平台表示，公司的光刻胶产品主要包括PCB用光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶，其中半导体用光刻胶......
以正性为主。按应用领域，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。而下文将主要围绕半导体光刻胶展开描述。 数十年里，半导体行业的迅猛发展离不开光刻工艺的进步，而光刻工艺必然也离不开光刻机......
企业之一，公司已建成具有国际水平的高端光刻胶生产线和研发测试平台，是国内光刻胶厂商中唯一同时拥有紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF全系列光刻机测试实验平台的专业光刻胶......
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
，南大光电的营收为3.21亿元，净利润0.55亿元，同年晶瑞股份的营收为7.6亿元，净利润为0.31亿元，由此可见一斑。   并且由于需要加速追赶，国内光刻胶企业近年来相继斥资购买光刻机......
ASML光刻机设备、购置ArF光刻机配套设备、建设研发大楼。 此外，晶瑞电材8月1日宣布，曾在知名光刻胶企业任职近10年的陈韦帆加入公司光刻胶事业部担任总经理职务。 彤程新材方面，其通过进一步收购股权实现对光刻胶......
表着韩国通过企业间的相互合作成功实现了国产化。 在ASML最新的EUV光刻机带动下，未来EUV光刻胶市场前景一片大好。在更早之前，三星已经率先量产了使用EUV光刻机生产的DRAM；2021年，SK海力士也引入EUV；近年，美光也宣布，将在......
时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。 光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶。如之前介绍的那样，当光线照射到光刻胶上时，会产......
产业基金正在按照项目的进度在陆续出资，该公司生产的光刻胶已经陆续进入了国内的一线大厂。 值得一提的是，博康集团的光刻机板块影速公司已正式启动了IPO工作。 封面图片来源：拍信网......
主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。 如晶瑞电材ArF高端光刻胶研发工作已启动，为适应行业现状带来的发展机遇，已在......
研发工作已启动。 近年来，瑞红苏州建成了具有国际水平的高端光刻胶生产线和测试实验平台，同时拥有紫外宽谱、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）全系列光刻机......
足国内微电子产业14nm制程的需求，成功填补国内空白、正在推进进口替代。 在光刻胶方面，目前晶瑞KrF已经进入了客户验证阶段，并且在今年1月采购了一台ASML XT 1900Gi光刻机用于研发ArF光刻胶......
片上的的图像印在相纸上，只不过在光刻过程中，“胶片”变成了掩膜版，“相纸”变成了涂抹了光刻胶（PR）的硅片。刻有电路图案的掩膜版，经过光刻机特定波长的光学系统投影后被缩小，再“曝光”到硅片上，光刻胶......
层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻......
下一代光刻机，万事俱备了吗？;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产；动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣，这要归功于 ASML......
型光刻机设备已安装到位，KrF光刻胶已完成中试，ArF光刻胶研发进行中，未来几年公司产品升级有望带来公司光刻胶业务持续增长。眉山生产基地扩产光刻胶及其生产原料，是在充分考虑市场、客户......
已完成中试，建成了中试示范线，目前已进入客户测试阶段，同时KrF（248nm）光刻胶量产化生产线正在积极建设中；高端ArF(193nm)光刻胶研发项目已完成光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
消息显示，年产1200吨集成电路关键电子材料项目计划投资1.4亿元，建设内容为光刻胶中间体1000吨/年，光刻胶1200吨/年。 晶瑞电材当时指出，公司ASML1900型光刻机设备已安装到位，KrF光刻胶......
元件尺寸以及优化器件电路设计。 △Source：英伟达官网 其中，元件尺寸缩小在很大程度上是由光刻工艺和技术的发展推动的。光刻阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下，光线会通过“掩模版”投射到晶圆上，光刻机的光学系统将掩模版上设计好的电路图案缩小并聚焦到晶圆上的光刻胶......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
的半导体产业链基础薄弱，打造完整的供应链体系相当困难。究竟半导体产业链各环节的国产化程度如何？ （一）、上游材料主要被日美企业垄断 半导体上游材料主要由硅晶圆、光刻胶、光掩膜版、特种气体、CMP抛光......
工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。 报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作，准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。 三星......
%。 此外，晶瑞股份在年报中表示，其于2020年下半年购买了ASML1900Gi型光刻机设备，正式启动ArF高端光刻胶研发工作，以研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶......
上海新阳：1400光刻机安装调试基本完毕;4月12日，上海新阳在投资者互动平台表示，公司与中芯北方搭建的1400光刻机安装调试基本完毕。 另外，上海新阳表示，公司研发费用投入超2亿元，且主要系光刻胶......
是两种不同的技术路线。两者的目标相同，简单描述就是将设计好的集成电路图“复制粘贴”到硅片上。而实现方法却大有不同，形象地比喻类似“照相”与“盖印章”。 传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶......
线穿过掩模并照射在晶圆表面的曝光设备。5步进式光刻机（Stepper）: 一种在工件台逐步移动时，通过开启和关闭快门控制光线以进行光刻的机器。显影（Development）是一种利用显影液来溶解因光刻工艺而软化的光刻胶......

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