资讯

器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11个模块的组件。 即便的光刻机专利是全世界最先 进的,没有这些上下游产业链支持,也是白搭。尤其是光刻机......
麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下,在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前,光刻系统被广泛应用于制造半导体,而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”(Fitch......
是半导体制造的后道工艺〉 在半导体芯片的制造工艺中,半导体光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。另一方面,保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在......
光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。另一方面,保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。   〈关于半导体光刻机解说的网站〉 我们......
的时间。1984年,正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征,即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”,真正意义上的浸入式光刻......
则是不可少的设备。 伴随技术提升的还有售价,由于更加复杂、精密,NA=0.55的EUV光刻机价格大幅上涨,具体多少不确定,此前消息称不低于4亿美元,人民币接近30亿元了,是现在的2-3倍。 这还......
%,而尼康当年光刻机业务亏损达到70亿日元,双方当初的十年之约也已到期,尼康又卷土重来。 2017年,尼康就就浸没式光刻相关11项欧洲专利和2项日本专利分别在荷兰海牙 、德国曼海姆和日本东京对ASML......
ASML:中国已有近1400台ASML光刻机;11月3日消息,毫无疑问,中国厂商正在疯狂抢购ASML的光刻机,但是你知道有多少了吗? 在第六届中国国际进口博览会上,ASML全球副总裁、中国......
。 国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知,该专利于2016年9月9日在中国专利局申请,申请人是华为技术有限公司,发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之,华为早在4年前就开始着手光刻机......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米; 12月10日消息,宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”,生产效率、套刻......
独家供应商,每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利,其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。 未来,三星......
压印技术,完全有替代EUV光刻机的可能性,目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能,佳能在NIL技术上专利全球最多,且已经有了量产机器,目前在改进精度,希望国产加油,也能够赶紧推出NIL光刻机......
总归要讲商业逻辑,路要一步一个脚印地走。 另一方面,要考虑到技术实现的问题。光刻机不仅是吞金兽,还是吞电兽、吞水兽,这么大的机器要用多少电、用多少水、废水怎么处理都是要看考虑的问题;光有一个EUV光源......
规定。这些专利保护 Wi-Fi 或 5G 等尖端技术,这些技术对于技术标准至关重要,这意味着 如果不使用它们,就无法开发物联网 (IoT) 产品。 它们还在互联汽车、智能......
,ASML也将其电源功率提升到200瓦特。 后记 上面EUV光刻机的介绍,是让大家知道,目前最先进的是极紫外光光刻机,光源是极紫外光,而关于中科院的中紫外光的波长是多少,半导......
纳米,压在晶圆上面就是多少纳米”;同时,“纳米压印的图案每一层都一次压印成形,不像传统光刻会用到SADP/SAQP(多重曝光)等复杂工艺”。 其特点在于制造成本更低,而且耗电量也远低于EUV光刻机......
芯片等工艺水平并不高,这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片,也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片,不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了;2022年,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布,正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用7nm生产......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
取得了巨大的成功,ASML成为光刻机市场的老大,台积电则在芯片居于全球领先水平,而日本的佳能和尼康则迅速衰落。 自进入5G时代后,我国在诸多科技领域赶上甚至对西方形成了反超,比如华为,这是全球5G核心专利......
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机;3月26日,格科微官微宣布,目前公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成,今年2月16......
外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔当天宣称,“我们采取这一措施是为了(保护)国家安全”,相关半导体设备可能“被用于军事用途”。他还补充说,只有“非常有限”数量的公司和产品型号将受到影响。 当时有媒体分析认为,虽然公告中没有直接提及中国和荷兰光刻机......
英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位?;12月21日,荷兰巨头通过社交媒体宣布,其首套高数值孔径极紫外(High-NA )正从荷兰Veldhoven总部开始装车发货,将向进行交付。本文......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上,制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高,光刻机......
构光(Structured Light)解决方案的专利替代品,可实现体积更小、速度更快、能耗更低的3D感应方法。就其本质而言,ILT使用受专利保护的规则点状投影模式,而结构光方案当前使用的是随机点状投影。ILT技术......
构光(Structured Light)解决方案的专利替代品,可实现体积更小、速度更快、能耗更低的3D感应方法。就其本质而言,ILT使用受专利保护的规则点状投影模式,而结构光方案当前使用的是随机点状投影。ILT技术......
”。 据了解,在半导体芯片的制造工艺中,光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。 保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在......
光路设计上改动比较小,光刻机工程化应用相对容易,有希望使国产光刻机在高端领域弯道超车、有所突破。 【关于转载】:转载仅限全文转载并完整保留文章标题及内容,不得删改、添加内容绕开原创保护,且文......
形成积极的反馈循环。 2022 年 11 月 15 日,国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」,代表着极紫外(EUV)光刻机核心技术的重大进步。 「但技术的演进需要多年的持续研发,我们......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展,提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前,半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大,KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
EUV将成主流,哪些公司将受伤?; 来源:内容来自 华盛证券,作者华盛九叔 ,谢谢。 据相关机构统计,整个2016年,ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58......
工程院院士吴汉明:本土可控的55nm芯片制造,比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息,日前,在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上,中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
突破了纳米材料应用的极限,二是不需要光刻机。 首先,传统的芯片是基于硅打造的,目前量产的最先进的硅基芯片是5nm,而即使未来能够做到1nm,那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位,如果要追求更小、更精......
费率最高不超过0.75美元;而通过物联网增强联接的设备,许可费率为每台0.3-1美元。 总体来看,华为设置的5G手机专利许可费率上限与国外厂商相对比是偏低的。国外厂商中,爱立信2017年公布的5G多模手机专利......
这种原材料主要掌握在国外企业手中,全球的年产量为6万吨,国内产业约为5000吨。而且,均苯四甲酸二酐的纯度关乎于聚酰亚胺的成败,如果纯度不够,更容易产生副反应,导致生产的聚酰亚胺纯度不达标。 专利壁垒 如今的光刻......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道,、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络:或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务;将全......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超?(附厂商盘点);刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺,有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化(CMP)等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了,新闻的热度与这天气一样,慢慢转凉。笔者......
导体芯片的制造工艺中,光刻机负责 " 曝光 " 电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在......
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中,你将了解到:纳米压印光刻能绕开光刻机吗,纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势,纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓......
事关EUV光刻技术,中国厂商公布新专利;近日,据国家知识产权局官网消息,华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利专利申请号为202110524685X。 集成......
、以及相应的设备和技术。该交易完成后,LEKIN拥有完整的GaN/GaAs等化合物半导体光电子材料与器件技术平台和相关发明专利,目前已成为我国拥有化合物半导体高价值专利数最多的公司之一,专利保护......
合作条约》(PCT)是知识产权领域重要的国际条约之一,PCT于1970年缔结,目前已有158个缔约国。 申请人只需提交一件PCT国际专利申请,就可以同时在多个缔约国中寻求专利保护。 据了......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止......
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。 现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
精神”? 美国断供芯片,俄罗斯大炼自主「熊芯」决定从头开造光刻机......
技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称“《目录》”)。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm......
另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......

相关企业

;招远市众信家电维修部;;多少年来从事家电配件和维修
高清晰的监控视野由白天扩展到伸手不见五指的黑夜,可以满足不同行业对所需监控目标区域实现全天候监控的需要。 博视特的核心产品有以多项专利保护的阵列式LED红外光源系列;以多项专利保护的、以阵列LED红外
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;林生亮;;本公司主要经营视贝系列产品:(照明产品;插座/转换器;家电遥控器;同硕线材)/及广州聚量牌LID手电筒:(双灯双档,专利保护,信心保证)。公司秉承"顾客至上,锐意进取"的经营理念,坚持
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;深圳少年王科技有限公司;;智能视力保护仪 产品名称:“眼护神”学生智能红外线视力保护仪。 价格:全国统一零售价218元。 知识产权:2010.05学生智能红外线视力保护仪获得专利
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;安溪铁观音;;我们立足于中国茶都--安溪,以著名茶乡安溪感德为生产基地,收集茶农茶叶,经过加工后销售。主要经营安溪铁观音、本山、毛蟹、黄金桂等。多少年来,“铁观音”发源地安溪,一直
;CHC全国青少年右脑潜能开发调研示范基地;;CHC全国青少年右脑潜能开发调研示范基地是有全国科监委行业发展战略专业委员会依据右脑生理学家李浩然教授右脑开发科研实践成果设立的调研示范基地。旨在通过李浩然右脑开发专利成果普及教学让全国更多的青少年