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，其技术发展路径从接触式、接近式、投影式、步进式和扫描式光刻机。无掩膜光刻机主要为激光直写光刻机，主要应用于FPD、PCB、PV等泛半导体领域。 高精度：ABM Inc.的光刻机具备高精度......
在不使用EUV光刻机的情况下，实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。 封面图片来源：拍信网......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米; 12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度......
代工全方位服务的综合性企业。 图片来源：晶合集成官微 资料显示，晶合集成一直专注于高精度光刻掩模版研发和生产，目前可提供28-150纳米的光刻掩模版服务，将于今年四季度正式量产，服务范围包括光刻......
也需要为客户培训更多的维护及维修技术人员。 外媒最新的报道就显示，阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心，已经开通。 新开通的极紫外光刻机培训中心，在首尔以南约42公里的龙仁市，占地1445平方米，设有洁净室、办公空间等，旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机......
量测速度和准确度，可以满足3纳米制程的要求。与以前的系统相比，主要的增强功能包括更快的工作台和更快的波长切换，这可以实现高精度的套准测量和使用多个波长的设备匹配。 ASML预计，下一代EUV光刻机......
DMD直接成像技术，配合合理的光路设计，使得解析精度可至6/6μm；采用高精度的精密位移平台系统，配合高精度的环境温度控制，使得对位精度达到5μm。 芯碁微装成立于2015年，专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度......
融化的锡液，一对激光束照射每一滴液体产生等离子体，释放出更短的波长，超高精度的反射镜引导光线......7纳米极紫外线光刻机，分为13个系统，3万个分件，作动......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;IT之家 9 月 6 日消息，宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式“NSR-2205iL1......
仍需要大量的核心技术理论验证，该技术被率先应用在DUV光刻领域要更高，可以以此推动国产DUV光刻机在芯片制程精度上的迭代。 众所周知，在光刻机领域里，ASML公司是一家独大的，依靠......
甚至已经将该技术集成到其EDA工具中，将服务2nm甚至更高精度的制程。 NVIDIA认为，新技术可以实现更高的芯片密度和产量，按照更好的设计规则以及借助人工智能驱动光刻行业前进。 按照NVIDIA预估，未来......
是已经取消这个限制了），但主要原因还是工业积累的时间不够长。从科技树的角度上看，光刻机依赖于高精度机床、高精度光学设备（镜片），这些东西国产的都不行，说到尼康，都知道是做单反的，其实尼康还做光刻机，而国内就没有这样的企业，所以国产光刻机......
节点研发的重点设备。 光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成电路图形。目前，我国高精度......
转向了用设计来抵消EUV带来的更高精度。 事实上，近些年来芯片领域在先进封装技术、碳基芯片、光子芯片等领域都实现了突破。一旦芯片设计的多样化手段进入实际应用阶段，光刻机的发展前景将不再一枝独秀。 并且......
市）的协同，对光刻设备的状态进行监测分析，实现光刻设备良好的品质管控以及更高的运转效率。 〈大视场半导体光刻设备的市场动向〉 在全画幅CMOS传感器的制造中，通过高精度......
每一步骤都是在前一步的基础上进行的，最终成品率是每一步成功率的乘积。若整个流程包含超过两千个步骤，即使每一步都能达到99%的成功率，最终生产出来的成品率也只有0。 因此在芯片制造技术中，好的设备很关键，尤其是需要高精度的光刻机......
功率远比EUV光刻机低，一台EUV光刻机一年要用1000万度电，但这种NIL技术能耗减少90%，且制造成本比EUV光刻机低40%。 缺点是目前精度不够，远远达不到7nm、5nm的级别，大约还处于28......
专家：半导体行业开启“材料时代”，先进材料和清洗方案比光刻机更重要;12 月 27 日消息，行业专家表示，半导体行业在过去 20 多年时间里，光刻领域的进步，主要由特殊设备决定的；而在未来 10......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
，作为全球领先的制造商，不用过多介绍。此次发布的Twinscan NXE：3800E光刻机，是ASML在EUV光刻技术领域的又一重要成果。这款新型光刻机采用了先进的Low-NA EUV技术，显著提升了芯片制造的精度......
设备的作用是将在掩膜版上绘制的电路图案通过投影透镜缩小，再将图案曝光在晶圆上。晶圆在晶圆台上依次移动，电路图案将在一个晶圆上重复曝光。因为电路是由从微米到纳米※8级别的超精细图案经过多层堆叠制成，所以半导体光刻机也需具备超高精......
Plus”（2022年9月上市）的协同，对光刻设备的状态进行监测分析，实现光刻设备良好的品质管控以及更高的运转效率。〈大视场半导体光刻设备的市场动向〉在全画幅CMOS传感器的制造中，通过高精度......
瑞利判据公式，更高的数值孔径意味着更好的光刻分辨率。 范登布林克表示，未来的 Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程，规避通过 High NA 光刻机双重图案化实现同等精度......
光刻技术在性能（每小时处理的晶圆数量）和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度，相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%，将来......
通过改进透镜和镜台等光学零部件，来提高曝光精度，增加布线密度，从而实现3D光刻，用以满足人工智能领域所需的大型半导体的生产需求，佳能新型3D光刻机有望于明年上半年上市。 TSS 2022亮点......
。 此外，该新型光刻机通过在原基础上改进透镜和镜台等光学零部件，来提高曝光精度；通过提高分辨率来增加布线密度，还支持1微米的线宽。 封面图片来源：拍信网......
的出货价格也会提升到1.45亿美元左右。 为了提升生产效率，ASML准备推出的第2代EUV光刻机型号将会是NXE：5000系列，其物镜的NA值将提升到0.55，进一步提高曝光的精度。然而，NA值0.55的第2代EUV......
赖将更甚。 另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D，生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm，单台价格或高于老款的1.2亿欧元（约合9.5亿元......
了28nm光刻机样机，EUV光刻机正在紧张攻关，已取得重大进展。 长春光机所克服了反射镜技术问题，双工作台精度达到5nm，EUV光源系统有重大突破，2025年，国产芯片可达70%资产率，国产EUV光刻机......
厂自然不满意，也就没有再尝试买尼康的ArF 浸润光刻机，直到现在，高精度 etching 和scan 环节仍然都是ASML光刻机。而在低阶的KrF 光刻机上采购上偶尔会选择佳能，因为超级便宜，并且这个DRAM......
Devices等制造领域。 上海微电子旗下的产品主要有两大系列。 其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精......
瑞萨电子推出业界领先高精度光隔离调制器ΔΣ用于工业自动化应用;全球领先的半导体解决方案供应商瑞萨电子集团（TSE：6723）今日宣布推出RV1S9353A光隔离ΔΣ调制器。与其它10MHz时钟......
瑞萨电子推出业界领先高精度光隔离调制器ΔΣ用于工业自动化应用;全球领先的半导体解决方案供应商瑞萨电子集团（TSE：6723）今日宣布推出RV1S9353A光隔离ΔΣ调制器。与其它10MHz时钟......
电的收购将使IMS的估值达到约43亿美元，英特尔将保留IMS的大部分股权。 据了解，IMS Nanofabrication 是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产......
屏等新型微细结构的加工中需求迫切，也是国内外光刻设备研发的重要方向之一。因此，光电所微电子专用设备研发团队联合国内外科研机构，开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和间隙测量等技术研发，成功提高了汞灯光源中紫外光谱能量，通过......
。其中，封装光刻机对于光刻精度和控制精度的要求都比制造用光刻机要低。世界上只有少数厂家掌握尖端技术。 公开资料显示，英唐智控成立于2001年，是国......
内存生产设备，将产能提升到每月7万片晶圆。 在这些设备中，最重要的就是EUV光刻机了，三星从14nm级别的内存芯片开始引入EUV光刻机，EUV光刻机可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而......
微电子装备集团 上海微电子装备集团消息显示，此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足......
三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机;8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为，台积电收购IMS可确......
出口管理条例）设定的最低含量标准主要有四类：（1）不设最低含量标准的物项，以高性能计算机为代表；（2）特定加密物项；（3）10%最低含量；（4）25%最低含量。 以芯片制造核心设备光刻机为例，据《国际......
工艺的平均 EUV 曝光层数量仅为 20 层； 而在预计于 2027 年量产的 SF1.4 制程中，EUV 曝光层的数量有望超越 30 层。 ▲ ASML 新一代 0.33NA EUV 光刻机......
自我优势强化，更提供学习机会提升员工的产业专业知识。 ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。全球......
Nanofabrication （以下简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界......
光电技术处于国内领先地位。但整体来看，我国光罩行业以中低端产品生产为主，用于高端芯片制造领域的高精度光罩生产实力依然弱。 一直以来，我国光罩市场对外依赖度大，特别......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......

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加工设备、光电检测等高新技术领域。在光、机、电、计算机等综合产品方面具有雄厚的研发和生产实力。目前公司生产、经营的主要产品有ASOM系列手术显微镜等医用光电仪器、光电编码器、高精度光刻机、光学检测设备等。公司
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