资讯
350nm，俄罗斯光刻机制造完成(2024-05-27)
）的芯片。
图片来源：塔斯社报道截图
公开资料显示，350纳米尺寸芯片在当代较为落后，但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
一场“国产光刻机”的奇葩说;
关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
(2023.3.20)半导体周要闻－莫大康(2023-03-22)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
设备的作用是将在掩膜版上绘制的电路图案通过投影透镜缩小，再将图案曝光在晶圆上。晶圆在晶圆台上依次移动，电路图案将在一个晶圆上重复曝光。因为电路是由从微米到纳米※8级别的超精细图案经过多层堆叠制成，所以半导体光刻机......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心;光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研......
闪存厂商营收排名；大基金三期成立；三星传出罢工(2024-06-03)
仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。
目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。据外媒公开消息，俄罗......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...;
近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研......
哈哈哈，你们要的动图又来了......(2023-12-17 23:26:32)
友圈展示的是美照，我们看到的是找摔：
21、身体比脚快，脑子比身体快：
22、小伙子你成功了......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。“20年前参加国家的重大专项，100纳米分辨率光刻机的研制，回到学校以后就一直在从事计算光刻......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
纳米好。
对台积电的建议，Nikon、Canon都觉得不实际，不如直接研究157纳米光源的曝光设备。小企业的ASML觉得自己规模没有竞争对手大，不如跟台积电一起尝试，成功当然很好，失败......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
1998年获工学博士学位。
2002年，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司（SMEE），承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1]
在本文中，你将了解到：纳米压印光刻能绕开光刻机吗，纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势，纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。
付斌 | 作者
李拓......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
全球芯片正在破局...(2024-07-15)
绍，该光刻胶可通过添加感应受体实现不同的传感功能。为了实现高灵敏光电探测功能，团队在光刻胶材料中负载了具有光伏效应的核壳结构纳米粒子。光照下，纳米光伏粒子产生光生载流子，电子被内核捕获，产生......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！(2022-10-08)
尖端微细电路的新一代设备。
目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻机......
集成电路产业规模达2500亿，上海：14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。
资料显示，TIE设立于2021年、是由......
我国首次建立基于硅晶格常数溯源的集成电路纳米线宽标准物质(2024-09-14)
溯源，突破了现有波长计量基准（633nm）溯源方式对线宽测量的5nm不确定度水平极限，研制成功了与集成电路关键制程节点相对应的7nm、22nm、45nm的线宽标准物质，不确定度水平处在0.32nm～1.3nm......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
导指出，采用High-NA EUV光刻机对于台积电开发2纳米以下制程至关重要。因为High-NA EUV光刻机将数值孔径从0.33增加到0.55，可以进一步在晶圆上达到更高分辨率。而根......
指尖大小的高性能超快激光器制成，可用于无GPS情况下导航等场景(2023-11-14)
指尖大小的高性能超快激光器制成，可用于无GPS情况下导航等场景;
基于纳米光子铌酸锂的芯片级超快锁模激光器。图片来源：阿里雷扎·马兰迪
据《科学》杂志新发表的一篇封面文章介绍，美国纽约市立大学研究人员展示了一种在纳米光......
指尖大小的高性能超快激光器制成，可用于无GPS情况下导航等场景(2023-11-14)
指尖大小的高性能超快激光器制成，可用于无GPS情况下导航等场景;
基于纳米光子铌酸锂的芯片级超快锁模激光器。图片来源：阿里雷扎·马兰迪
据《科学》杂志新发表的一篇封面文章介绍，美国纽约市立大学研究人员展示了一种在纳米光......
我国首台紧凑型加速器质谱仪研制成功！(2023-11-09)
国产化和小型化方面取得了卓有成效的研究成果，也是国内唯一具备AMS装置研发能力的单位，相继研制成功了具有国际特色的单极型和大气绝缘型AMS装置，尤其是最近研制成功了紧凑型AMS装置，表明我国在AMS小型......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线(2021-04-06)
考虑扩大在刻蚀设备领域的竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。
图片来源：中微公司2020年度业绩说明会视频截图
至于业界关注的光刻机研发计划，尹志尧则表示，公司......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负着以低成本制成......
2312亿，事关多个芯片工厂建设(2022-03-17)
公司将携手推进下一代逻辑和封装技术。
2021年5月，IBM宣布已成功研制出全球首款采用2纳米规格纳米片技术的芯片。公开资料显示，与当前主流的7纳米芯片相比，IBM 2纳米芯片的性能预计提升45%，能耗降低75%。与当前领先的5纳米芯片相比，2......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。
报道中提到，尽管......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
量，预计这款设备将于今年晚时推出原型，明年正式供货。值得注意的是，ASML于今年12月中旬与三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研......
对自动驾驶的认识(七)(2024-07-30)
，应用SDL人工智能小模型的完全使用本车算力资源的领先世界的自动驾驶人工智能系统控制的车研制成功了，要达到产业化还需很多资金和工作要做，但这不是顾博士和他的团队的目标。顾博士和他的团队通过这一自动驾驶人工智能系统研制成功......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了(2023-01-09)
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
对自动驾驶的认识七(2024-06-01)
和国内专利达近百项。
现在，应用SDL人工智能小模型的完全使用本车算力资源的领先世界的自动驾驶人工智能系统控制的车研制成功了，要达到产业化还需很多资金和工作要做，但这不是顾博士和他的团队的目标。顾博士和他的团队通过这一自动驾驶人工智能系统研制成功......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
国际光刻机大厂ASML上交亮眼财报！(2024-01-25)
工艺技术之后的制程节点。
去年12月，ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术。 据消......
ASML今年下定了几个决心(2022-11-29)
加大了产能的扩充，ASML在投资者日会上，再次明确宣布了光刻机产能提升计划，预计在2025-2026年实现年出货60台EUV和600台DUV，尤其是DUV的力度更大些。
美国
5月31日，美国商务部官网显示，美国......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？;5月26日，举办“2024年技术论坛台北站”的活动，CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的总部，以及......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
量产的话，将具有革新意义，压倒性地降低逻辑电路生产成本”。
“这个设备目前还在做量产评价，目前十几纳米已经成功实现。”“我们相信将来是能够做到的。”
3.面对半导体光刻机供不应求的市场现状，佳能......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
10%，连耗电量也是传统EUV的10%。美光对外宣布将首先采用日本佳能的纳米压印NIL光刻机，进一步降低DRAM生产成本。一旦存储巨头美光获得成功，佳能的NIL光刻机将会迅速推广，届时ASML的EUV......
相关企业
;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司;;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 公司代理进口优质的日本纳米光触媒系列产品，将日本经过多年研究研制成功的纳米
过国家质量技术监督总局12365防伪查询系统。公司组建了自己的研发队伍，汇集了数名纳米行业专家、教授，斥巨资从美国引进了高科技研发、生产设备。高精尖人才结合高科技成果，天河公司开发、研制成功了天河纳米
公司的主要技术依托单位，浙江大学光电显示技术研究所长期致力于高清晰度大屏幕投影显示技术的研究，取得了一系列国家与省部级研究成果。1994年研制成功了我国首台液晶光阀大屏幕显示系统，1995年研制成功了TFT-LCD
;龙摄影;;你拥有成功的品牌了吗？龙摄影国际品牌是婚纱摄影行业的领先代表。缔造经典基业，有龙的团队支持，高端的品牌定位，成功的连锁策略，你就成功了！ 龙摄影产品创意、营销创意、推广创意，用心
;沧州天马交通机械制造有限公司;;公司拥有高素质的科研队伍，结合现代及欧美客户的要求先后研制成功了“机械式汽车厢板助力器”“机械化汽车厢板连接立桩”“集装箱门锁具”等行
行业专家、教授，斥巨资从美国引进了高科技研发、生产设备。高精尖人才结合高科技成果，天河公司开发、研制成功了天河纳米系列高科技产品：电气石汗蒸房、天河纳米863生物助长器、天河863助剂、天河活水器、天河
资从美国引进了高科技研发、生产设备。高精尖人才结合高科技成果，天河公司开发、研制成功了天河纳米系列高科技产品：电气石汗蒸房、天河纳米863生物助长器、天河863助剂、天河活水器、天河饮水机专用活水器、天河
，斥巨资从美国引进了高科技研发、生产设备。高精尖人才结合高科技成果，天河公司开发、研制成功了天河纳米系列高科技产品：电气石汗蒸房、天河纳米863生物助长器、天河863助剂、天河活水器、天河
精干的销售队伍和一个高素质的售后服务团体，目前，公司以科研为龙头，紧跟世界最先进技术的发展步伐， 采用现代化的生产流程，自主研制成功了具有世界一流技术水平的飞针测试机。 在不断发展的过程中，本着“客户至上”的理念，坚持“以德树人，以章
以科研为龙头，紧跟世界最先进技术的发展步伐， 采用现代化的生产流程，自主研制成功了具有世界一流技术水平的飞针测试机。在不断发展的过程中，本着“客户至上”的理念，坚持“以德树人，以章制企，以信待人，以诚