资讯
液相色谱仪检测器的类型(2024-01-28)
折光检测器是一种通用型检测器。基于连续测定液相色谱色谱柱流出物光折射率的变化而用于测定溶质浓度，溶液的光折射率是溶剂流动相和溶质各自的折射率乘以其物质的量浓度之和，溶有样品的流动相和流动相本身之间光折射......
光纤布拉格光栅传感器的工作原理解析(2023-01-30)
证光波在纤芯中具有最低的传输损耗。这个功能的实现原理是纤芯的光折射率比包层的折射率高，这样光波从纤芯传播到包层的时候会发生全内反射。最外面的保护层提供保护作用，避免外界环境或外力对光纤造成损坏。而且......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？;
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如果历史可以重演的话，日本人Takanashi一定会重新选择申请专利......
光谱共焦传感器的测量原理和特点(2023-06-26)
特殊色差就在这里产生。光线照射到被测物体后发生反射,透过凸透镜，返回到传感器探头内的半透镜上。半透镜将反射光折射到一个穿孔盖板上，小孔只允许聚焦最好的反射光通过。 透过穿孔盖板的光是一组模糊光谱，也就......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关;外媒报导，半导体制程一家独大的极紫外光曝光设备（EUV）厂商艾司摩尔（ASML），几乎成为各半导体制造商发展不可或缺的伙伴，尤其10纳米......
苹果 Vision Pro 头显新专利曝光，用液态透镜解决眼镜夹片痛点(2023-08-18)
透镜表面，从而调整折射率。
苹果如果将该专利应用于未来的 头显上，液态透镜会根据佩戴者的情况，动态调整焦距和折射率，提供更舒适的佩戴体验。
苹果在专利中还描述了未来的 设计：如果需要，头显......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子(2023-01-28)
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子;
【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？;
11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV)
对于......
苹果 Vision Pro 头显新专利：内置视力矫正系统，佩戴者无需加装夹片(2024-03-29)
）波前传感器、Tscherning 传感器或光线追踪传感器之类的波前传感器，来测量用户眼睛中的折射误差，如散光、远视和近视。
专利申请称，可通过调整镜片、显示位置来纠正屈光误差。在专利......
苹果 Vision Pro 头显新专利：内置视力矫正系统，佩戴者无需加装夹片(2024-03-29)
传感器、Tscherning 传感器或光线追踪传感器之类的波前传感器，来测量用户眼睛中的折射误差，如散光、远视和近视。
专利申请称，可通过调整镜片、显示位置来纠正屈光误差。苹果在专利中表示 Vision Pro......
改善 AR / VR 头显佩戴舒适度，苹果新专利可根据眼镜夹片参数自动调节显示方式(2022-12-09)
根据佩戴者的近视度数、散光、所要求的折射率等情况定制一个夹片，从而确保佩戴者能够清晰地看到 AR / VR 智能眼镜中呈现的内容。
虽然眼镜夹片是目前主流头显的一种成熟解决方案，但是苹果在专利......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
机独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。
未来，三星......
台湾大停电，这事得EUV光刻机背锅！(2017-08-16)
）。
EUV 称为“极紫外光”，但物理特性与一般常见的紫外光差异极大。
首先，这种光非常容易被吸收，连空气都不透光，所以整个生产环境必须抽成真空；同时，也无法以玻璃透镜折射，必须......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。
不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻......
光刻胶国产化的6道坎(2021-05-06)
出明显的优势。
但国产光刻胶企业想要突破它，不仅面临原材料、纯度等难题，还面临强大的专利壁垒。
从全球EUV光刻胶专利的申请量上来看，1998年EUV光刻胶专利的申请量只有6件，此后......
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利(2022-11-25)
事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利;近日，据国家知识产权局官网消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。
集成......
JSR或1万亿日元被收购，全球光刻胶竞争加剧？(2023-06-26)
化工几近掌握着全球EUV光刻胶的市场份额。此次JSR如若成功被收购，或将对全球光刻胶市场带来重要影响。
看重JSR这块香饽饽，JIC准备收购
6月24日，日经新闻报道，日本......
SpaceX 更新爆炸事故调查进展，出问题的可能是氦气系统(2016-10-22)
说少于十分之一秒的时间。大部分残骸已经被收回、拍照、标记和编号，现存放于飞机库中并用于本次调查。”
火箭发射专家们已经观看了无数遍发射影片，并分析了大量爆炸资料，试图找出事故原因 。
目前，SpaceX 表示......
SpaceX 更新爆炸事故调查进展，出问题的可能是氦气系统(2016-10-25)
说少于十分之一秒的时间。大部分残骸已经被收回、拍照、标记和编号，现存放于飞机库中并用于本次调查。”
火箭发射专家们已经观看了无数遍发射影片，并分析了大量爆炸资料，试图找出事故原因 。
目前，SpaceX 表示......
手持折射仪怎么用_手持折射仪使用方法_手持折射仪应用(2022-12-27)
手持折射仪怎么用_手持折射仪使用方法_手持折射仪应用; 折射仪又称折光仪，是利用光线测试液体浓度的仪器，用来测定折射率、双折率、光性，折射率是物质的重要物理常数之一。产品有手持式折光仪、糖量......
江苏省科技厅颁发 芯华章获评省级独角兽企业(2023-12-12)
近四年时间，芯华章实现从瞪羚企业、到潜在独角兽企业再到独角兽企业的跨越，一年一个台阶，折射出企业立足自主创新、稳扎稳打的成长历程。
“开展独角兽企业和瞪羚企业评估工作，主要......
SEEBURGER BIS嵌入人工智能AI，提升效率，解锁无限可能！(2024-04-29 11:54)
创新将为企业带来更高效、更智能的工作体验，助力用户实现业务增长与发展。*备注：使用此功能需要OpenAI许可证，SEEBURGER数据映射专家使用GPT-4 Turbo，该模型包含的数据模式最丰富。*......
SEEBURGER BIS嵌入人工智能AI，提升效率，解锁无限可能！(2024-04-28)
每次执行代码都带来一致相同的预测结果。
这一创新将为企业带来更高效、更智能的工作体验，助力用户实现业务增长与发展。
*备注：使用此功能需要OpenAI许可证，SEEBURGER数据映射专家使用GPT-4 Turbo......
华为公布一项EUV光刻新专利(2022-11-25)
华为公布一项EUV光刻新专利;业界周知 ，集成电路制造中，光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节，决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量，是集成电路制造的关键技术之一。随着......
光纤微裂纹检测仪使G-lens长度测量更精确(2023-08-02)
微裂纹检测仪
G-lens是自聚焦透镜，一种折射率分布沿径向渐变的柱状光学透镜。自聚焦透镜的分布沿径向逐渐减小，能够使沿轴向传输的光产生连续折射，从而实现出射光线平滑且连续的汇聚到一点，下面是用OLI对G......
为什么湿身之后 浅色衣服变透明了？(2016-10-07)
的光被反射了回来。
单根透过去了，为啥一堆却能反回来？因为光并不是简单地“透”，而是经历了折射。纤维素的折射率是1.4701，不算很低，出全反射效果也并不困难——42.3度而已。
一大群歪七扭八的纤维素折射......
芯片巨头们已着手研发下一代CFET技术(2023-10-09)
地提出了硅基二维异质集成叠层晶体管。该技术将新型二维原子晶体引入传统的硅基芯片制造流程，绕过 EUV 光刻工艺，实现了晶圆级异质 CFET 技术。
该团队利用硅基集成电路的成熟后端工艺，将二硫化钼 (MoS2) 三维......
三星/LG显示正开发采用低折射率CPL的OLED面板(2023-07-25)
三星/LG显示正开发采用低折射率CPL的OLED面板;
【导读】三星显示（Samsung Display）和LG显示（LG Display）是全球较大的智能手机、平板电脑、笔记......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
技术经历了紫外全谱（300-340nm），G 线（436nm），I 线（365nm），深紫外（Deep Ultraviolet，DUV，248nm 和 193nm），以及目前最引人注目的极紫外（EUV......
光刻胶产能紧缺，盘点全球13家供应商产品类型（附表）(2021-03-23)
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻......
郭明錤确认：iPhone 16 Pro将搭载潜望长焦镜头(2023-09-19)
錤还表示，如果苹果维持此镜头高生产标准，将提高苹果第二大镜头供应商玉晶光明年的进入渠道，意味着大立光明年有更高的几率维护独家或主角四重反射稜鏡镜头供应商的地位。
iPhone潜望结构四次折射
也就......
全球首度发布软性灯丝技术，液光固态照明创造 LED 新美学(2016-10-19)
理游铭富介绍他们最新、也是目前全球首度发布的软性灯丝灯（Soft filament LED Lamp）产品，“比起目前业界的作法，我们已申请专利的软性灯丝灯，可折弯绕丝的特性，最大的优势就在于更能表现光的精致感，加上......
斥资3000亿新台币 南亚科12英寸新厂即将动土(2022-06-01)
科则专注利基型存储芯片。此前南亚科从40纳米到20纳米，每年需要向美光科技支付大量专利授权费。近年来积极投入自主技术研发，2020年初开发出10纳米级DRAM新型存储器技术，同时确立下世代10纳米DRAM将采......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗;自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开 ASML（阿斯麦）的 DUV（深紫外）和 EUV（极紫......
华为公布EUV光刻新专利！(2022-11-23)
华为公布EUV光刻新专利！;公开消息显示，近日，华为公布了一项新专利，展示了一种《反射镜、光刻装置及其控制方法》， 专利申请号为CN202110524685.X。
据悉，该专利......
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义(2021-04-26)
链国产化等关键问题进行了分析。
吴汉明认为，中国的集成电路产业当下主要面临两类壁垒：政策壁垒和产业性壁垒。前者包括巴统和瓦森纳协议，后者则是世界半导体龙头长期以来积累的专利，形成的专利护城河。
而在......
进入台积电供应链、获华为青睐 炬光科技闯关科创板(2021-02-07)
理技术、热应力控制技术、界面材料与表面工程、测试分析诊断技术、线光斑整形技术、光束转换技术、光场匀化技术（光刻机用）和晶圆级同步结构化激光光学制造技术九大类核心技术，包括境外专利107项，境内发明专利......
DRAM如何改变世界？写在DRAM授予专利的55年(2023-06-05)
DRAM如何改变世界？写在DRAM授予专利的55年;本文来源美光科技
1966 年是很久以前的事了。甲壳虫乐队发行了新专辑《左轮手枪》，经典西部电影《
好的／坏的／丑陋的》上映。
同年，罗伯......
传格罗方德拟弃权 10 纳米，跳级直攻 7 纳米(2016-10-18)
中所有研发资源直攻 7 纳米制程。
有别于格罗方德目前最新的 14 纳米技术是从三星取得技术授权，这次进军 7 纳米制程，格罗方德将采自力研发。格罗方德 2015 年藉由买下 IBM 半导体事业，连同取得重要技术人才与专利......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？(2022-11-29)
制造工艺可达到0.768nm，打破了当前光刻机预期的1.8nm工艺极限，这对于ASML来说无疑是重大打击。
全球各个经济体研发无需光刻机的工艺，在于当下的光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，第二......
尼康起诉ASML侵权，曾经光刻巨头的最后挣扎？(2017-04-25)
麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”
当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch......
无膜光学麦克风及其应用(2023-09-04)
声压波由微型法布里-珀罗标准具纯光学检测。该标准具是由两个平行的毫米大小的半透明镜形成的小型干涉腔（如图1所示）。这种传感器的新颖之处在于它不会像人们预期的那样通过感应其腔镜的运动或变形来工作。相反，它通过感应腔体本身的声音传播介质的折射......
三星推出12纳米级DRAM 明年开始量产(2022-12-23)
最近与半导体设计企业AMD完成了兼容性测试。
这一技术突破是通过使用一种新的高介电（high-k）材料来增加电池电容，以及改进关键电路特性的专利......
尽管受到制裁，去年中芯国际营收仍创历史新高(2023-03-30)
EUV
光刻机，但中芯国际并未公开报道。目前中芯国际是中国唯一一家拥有 14nm 工艺生产能力的晶圆代工厂，但由于之前的封锁制裁，其开发 10nm 工艺及以下的计划在
2020 年底......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机(2023-08-03)
形成积极的反馈循环。
2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。
「但技术的演进需要多年的持续研发，我们......
三星电子首款12纳米级DDR5 DRAM开发成功(2022-12-22)
很高兴能与三星电子再度合作，特别是推出在Zen平台上优化和验证的DDR5内存产品。"
三星电子首款级DDR5 DRAM
这一技术突破是通过使用一种新的高介电（high-k）材料来增加电池电容，以及改进关键电路特性的专利......
制程升级压力，三大DRAM厂商EUV竞争白热化？(2022-05-27)
制程升级压力，三大DRAM厂商EUV竞争白热化？;据财联社消息，美光总裁暨执行长梅罗特拉（Sanjay Mehrotra）5月26日表示，中国台湾中科新厂启用后，美光将会导入先进性1a nmDRAM......
ASML：数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场(2023-06-21)
ASML：数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场;据日本媒体报导，光刻机设备龙头阿斯麦（ASML）执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF......
曝光技术大进展！三星称关键材料EUV光罩掩膜“透光率达90%”(2023-12-05)
曝光技术大进展！三星称关键材料EUV光罩掩膜“透光率达90%”;三星电子在EUV曝光技术取得重大进展，韩媒BusinessKorea报导，三星电子DS部门研究员Kang Young-seok表示......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机(2023-02-22)
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机;
随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
相关企业
平移台 非线性光学晶体、激光晶体 、绿光蓝光晶体组件 、声光和电光晶体、双折射晶体 、光折变晶体、光学晶体和X-射线晶体 全固态激光器：蓝光（473nm）、绿光(532nm) 及红外紫外等多种波长；高稳定性激光产品高精度光通讯微小光学元件和光学元件
日本、台湾、韩国等厂商之光学材料，包括光扩散、光反射、光折射、光遮蔽及光能贮存等功能。主要类型有扩散膜、反射膜、增光膜、黑白双面胶、不透光铝膜、侧部进口边膜等，广泛应用于LED、LCD导光板背光模组、广告
;福州澳亚特光电技术有限公司;;本公司成立于1999年,主要生产折射仪,光纤显微镜,宝石折射仪
;北京惠博瑞科折射仪厂;;北京惠博瑞科折射仪厂是生产手持式折射仪的专业厂家。我厂生产折射仪系列产品广泛应用于食品业、农业、工业、化工、矿山、汽修汽保、纺织、水族多个行业以及实验室和高校、科研
;恒搏科仪（北京）商贸有限公司;;北京恒搏科学仪器发展有限公司是恒搏科仪（北京）商贸有限公司生产折射仪系列产品的前身，公司在保持生产原有折射仪系列产品的情况下，为了扩展业务及自身发展，满足
;上海西禄金属科技有限公司;;上海西禄金属科技有限公司是集精密光学仪器生产销售为一体的生产贸易型公司。 公司生产销售精密手持折射仪及数字折射仪，产品远销欧洲及北美地区，公司以严谨、精确
;北京恒搏科学仪器发展有限公司;;北京恒搏科学仪器发展有限公司专业从事手持式折射仪的研发、生产与销售。我公司生产的糖度计、盐度计、冰点仪、蜂蜜测量仪、豆浆浓度计、葡萄酒测量仪、白酒测量仪、切削
品已被列为上海市高新技术成果转化项目，并已申请PCT国际专利，可在国际100多个国家内得到专利保护。目前公司已经承担和完成国家、省、市级科研项目7项，申请国内、外专利技术58项（其中已授权47项）。 公司秉承“为顾
;宜兴市禾田进出口有限公司;;宜兴市禾田限公司，公司成立于2004年，是高新技术企业，主要生产和出口高折射率玻璃微珠（国家高新技术研究发展计划的重点项目）。是制造各类反光材料的主要元件。可用
型电容位移传感器”2000年3月获美国发明专利，填补了我国在该项技术领域上的空白，打破了国外的专利壁垒。 主要生产各类高精度电子数显卡尺、千分表、高度尺、倾角仪、水平仪和光泽仪、折射仪、红外线测温仪、温度计、多功