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光刻胶厂商徐州博康获数千万元投资，华为曾入股(2023-03-29)
胶的国产化自主可控的供应链。目前，徐州博康拥有ArF/KrF光刻胶单体、ArF/KrF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品，覆盖集成电路制造、后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等市场应用，研发储备全球80%的光刻胶单体产品技术......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
路线。
甘棕松教授发明的超分辨纳米光刻技术利用光刻胶双光子吸收特性，采用双束光进行光刻，一束为飞秒脉冲激光，经过扩束整形进入到物镜，聚焦成一个很小的光斑，光刻胶通过双光子过程吸收该飞秒光的能量，发生光物理化学反应引发光刻......
探索前沿技术 推动产业发展，东方晶源受邀参加第七届国际先进光刻技术研讨会(2023-10-30)
制造一体化良率提升解决方案HPOTM由俞宗强博士在2014年创建东方晶源伊始首次提出。经过近十年的不懈努力，该理念已在电子束图像系统(SEM)、计算光刻(OPC)和布局布线技术(P&R)等核心技术......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为，台积电收购IMS可确保关键设备的技术......
上海“科技创新行动计划”集成电路领域拟立项项目公示，涉及存储器、光刻胶等(2022-09-06)
。
拟立项项目共9个，包括“并行探针阵列电子束光刻关键技术研究”，项目承担单位为百及纳米科技（上海）有限公司；
“面向化合物半导体生产工艺的分子束外延装备及核心部件研制”，项目......
重磅！华为进军光刻胶领域，深圳哈勃投资徐州博康(2021-08-11)
胶、电子束光刻胶等产品，产品广泛应用于IC集成电路制造、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等。
据官方介绍，徐州博康拥有研发团队200余人，其中博士和硕士占比50%以上，并配......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
机的效果。
第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。
这条路的优点是精细，分辨率高，比EUV光刻机还要高，美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机，实现0.768nm芯片的光刻，但缺......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
顺利展开，台积电已经展开对上游设备领域的追逐工作。台积电9月12日宣布将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS Nanofabrication （以下简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻......
江苏长进微电子新厂房中试线设备已到位，本月开始调试及试产测试(2023-07-24)
为一体且拥有自主知识产权的科技型企业。上半年，长进微电子光刻胶产品工艺性能指标不断优化，已成功开发出紫外g /i line光刻胶、紫外Lift-off光刻胶、电子束光刻胶、保护胶等产品线，应用于集成电路、分立器件、先进......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
，13.5nm）光刻，电子束光刻等六个阶段，随着光刻技术发展，各曝光波长的光刻胶组分（成膜树脂、感光剂和添加剂等）也随之变化。
光刻技术及光刻材料的发展
根据反应机理和显影原理，可以将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
，大部分光刻技术都不能满足大规模生产需求，直写光刻这种技术，一般又大多做掩模版或定制化芯片。
光刻主要方法总结，制表｜电子工程世界
俄罗斯这次一直强调的无掩模光刻，是什么？
掩模（并非......
晶瑞电材业绩预增120%以上，多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
该公司历史最高水平，整体处于供不应求状态。
聚焦国产替代，多家厂商发力光刻胶技术突破与生产
光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的混合液态感光材料，也是......
台积电宣布收购英特尔旗下IMS，认购Arm股份(2023-09-13)
电的收购将使IMS的估值达到约43亿美元，英特尔将保留IMS的大部分股权。
据了解，IMS Nanofabrication 是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
及以下的进程。
另外从IC研发角度，对于7纳米及以下的工艺制程，由于周期很长，现在启步也很有必要，但是研发与量产是两个不同的阶段，差异很大，也并非一定要用EUV光刻，用电子束光刻也同样可以。电子束光刻......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
时代
目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本，同时在效率上远超电子束直写的无掩膜曝光技术......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
掩模板制造的高成本，同时在效率上远超电子束直写的无掩膜曝光技术。
更具划时代意义的是，该研究标志着深紫外 Micro-LED 技术将开启无掩膜光刻的创新解决方案，这对......
2nm 半导体代工竞赛拉开帷幕：台积电、三星和 Rapidus 纷纷出手(2023-09-28)
Nanofabrication 的 10% 股权。
IMS 专业从事电子束光刻机的开发和生产，广泛应用于半导体制造，光学元件生产，MEMS 制造等。
业内专家认为，台积电收购 IMS 将确保关键设备技术的发展，满足......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！(2023-11-22)
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称，台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。
三星在已量产第二代3nm......
继向贝恩资本出售近20%的股份后，英特尔将向台积电出售IMS约 10%的股份(2023-09-15)
的长期合作伙伴关系，以加速创新并实现更深入的跨行业合作。”
英特尔称，贝恩资本和台积电的投资共同为 IMS 提供了更大的独立性，并增强了业界对 IMS 面临的重大机遇的信心。这将帮助 IMS 加速其发展并推动光刻技术......
为了给摩尔定律续命，芯片行业有多努力？(2023-03-27)
会成为终点。
电气电子工程师学会发布的最新《国际设备和系统路线图》也显示，EUV的潜力将在2028年前后被挖掘殆尽，看不见EUV的替代者。
光学技术，未来一片“乌云”，以电子束光刻和X射线光刻......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
将会在65nm或者45nm的时候遇到障碍，由此亟需下一代的光刻技术，去缩小晶体管的规模，延续摩尔定律。
多年以后，EUV已经成为下一代光刻技术中的佼佼者，其他的竞争技术，如自组装技术、电子束直写和纳米打印技术......
国际大厂光刻胶涨价！国产替代刻不容缓(2023-12-13)
电材则能够提供紫外宽谱及部分g线、i线、KrF光刻胶等产品，产品系列较为丰富；徐州博康拥有ArF/KrF光刻胶单体、ArF/KrF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品系列，光刻胶数量处于国内领先；以及......
晶圆代工2nm竞赛，打响设备争夺战？(2023-09-27)
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为，台积电收购IMS可确保关键设备的技术......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
nanowire ）技术。
上图显示了不同工艺节点用到的技术，据此不同的工艺节点用到的掩膜层数如下图所示：
新的光刻技术
从20nm节点开始，为了使用传统光刻技术......
科学家：石墨烯可替代硅(2022-12-29)
治亚理工学院的实验室中用新开发的烤箱制造了石墨烯。
电子创造纳米结构
研究人员使用了电子束光刻。这是微电子学中常用的一种方法，可以在石墨烯中写入纳米结构并将其边缘焊接到碳化硅芯片上。这个......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
以上话题做探讨与分析。
具有市场障碍和技术壁垒
我们在《国际电子商情》10月刊《半导体材料供应商盘点及市场竞争格局分析》一文中解释过光刻胶的定义及分类——光刻胶又称光致抗蚀剂，是在通过紫外光、电子束、离子束、X射线......
蒋尚义正式加盟中芯国际(2020-12-16)
与研发CMOS、NMOS、Bipolar、DMOS、 SOS、SOI、GaAs 镭射、LED、电子束光刻、矽基太阳能电池等项目。在台湾积体电路制造股份有限公司（以下简称“台积电”），蒋博......
晶圆代工2nm竞赛，打响设备争夺战？(2023-09-27)
Nanofabrication （以下简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产(2022-12-15)
胶本地化并达到大规模生产水平的公司。永昌化学和 SK
材料性能也在开发光刻胶，但它们还没有达到可靠性验证的水平。
光刻胶，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X
射线等光照或辐射后，溶解......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
半导体制造工艺——挑战与机遇(2024-01-12)
沉积 10）金属接触光刻 11）金属蚀刻 12）定型元件
半导体制造趋势和挑战
图案转移
图案转移技术的进步已经成为半导体工业快速发展的关键驱动力，进而能够制造更小和更复杂的电子元件。图案转移技术的一个主要进步是先进光刻技术......
基于石墨烯的纳米电子平台问世(2022-12-23)
的石墨烯芯片要比硅芯片内可封装更多器件。
为了创建新的纳米电子学平台，研究人员在碳化硅晶体基板上创建了一种改良形式的外延石墨烯，用电子级碳化硅晶体生产了独特的碳化硅芯片。
研究人员使用电子束光刻......
国产光刻胶上演“冰火两重天”(2021-08-24)
博康实现了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及最终产品光刻胶的国产化自主可控的供应链，产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、g线/i线光刻胶、电子束光刻胶等。
在这......
突破工艺极限，美国开发出1nm制程技术与设备(2017-05-04)
都不会很快量产。因为纳米碳管电晶体跟PMMA、电子束光刻一样，跟目前的半导体制程技术有明显差异。因此，要让厂商一下子全部淘汰现有设备，这还需要一段时间布局。
劳伦斯伯克利国家实验室的1nm晶体管
北京......
深圳哈勃投资光刻胶厂商；荣芯16.66亿元买下德淮；国内再添一批第三代半导体项目(2021-08-15)
胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品，产品广泛应用于IC集成电路制造、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等。
国内再添一批第三代半导体项目
近日，山西......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界认为台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。针对2nm制程所用设备，台积......
东方晶源亮相SEMICON CHINA，全新产品矩阵展现高质量发展“芯”活力(2023-07-04)
精确的制程仿真、DRC、SBAR、ILT、OPC、DPT，以及SMO，可提供全套计算光刻解决方案，领跑国内相关领域发展。
新产品YieldBook依托于公司领先的计算光刻OPC技术和电子束......
半导体寒冬下，这一关键材料却陷供应紧缺，交期为往常4至7倍(2022-11-11)
重新转向短缺。
公开资料显示，在半导体制造流程中，需使用光蚀刻技术，在芯片上形成图形。而为了将图形复制在晶圆上，必须借助光掩膜的帮助——这一流程类似与冲洗相片时，利用底片将图像复制至相片上，因此光掩膜也被称为光刻......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
5年内进入3纳米，台积电真能做到吗？(2017-02-13)
人的团队研发中。根据规划， 台积电的10nm、7nm都会用上EUV极紫外光刻技术，更遥远的5nm也会如此，而且还会加入新的多重电子束技术(multipe e-beam)。
这两......
对话东方晶源：打造中国芯片制造的GoldenFlow(2024-04-03)
解决方案——HPOTM（Holistic Process Optimization）良率最大化技术路线和产品设计理念，在计算光刻软件及电子束量测检测领域成绩斐然。
在近日召开的2024年......
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备(2023-10-16)
明至今，一直受到学术界和产业界的高度重视。因此，纳米压印技术被称为微纳加工领域中第三代最有前景的光刻技术之一。
不仅可以制造分辨率 5nm 以下的高分辨率图形，还拥有相对简单的工艺（相比光学曝光复杂的系统或电子束......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子(2023-01-28)
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子;
【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利数量远超三星电子......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术;
近日，美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术......
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术(2024-07-29)
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术;7 月 29 日消息，台媒《电子时报》（DIGITIMES）今日报道称，台积电最快在 2028 年推......
中芯国际人事大震荡：蒋尚义出走，梁孟松辞职...(2021-11-12)
、Bipolar、DMOS、SOS、SOI、GaAs激光、LED、电子束光刻、硅基太阳能电池等项目。在台积电，他牵头了0.25μm、0.18μm、0.15μm、0.13μm、90nm、65nm、40nm......
东方晶源首台关键尺寸量测设备进驻中芯国际(2021-07-02)
稿表示，此次出机仪式，标志着东方晶源继2019年攻克电子束缺陷检测技术后，再一次取得重大产品技术突破，填补了国产关键尺寸量测设备（CD-SEM）的市场空白。
图片来源：东方晶源
据介......
挑战 ASML，应用材料公司重新定义了光刻和图案化市场(2023-03-13)
也可能会争辩说，光刻技术已经存在了 150 年，而 EUV 也不是什么新鲜事物。
另一个主要的驳斥理由是它不成熟，而且还很遥远。那也是错误的。虽然 Sculpta 上周才在 SPIE 的光刻......
相关企业
所等有着紧密的合作关系，并系统地代理了德国Omicron（表面分析系统）、ION-TOF（飞行时间二次离子质谱仪）、Raith（电子束光刻系统）及Novocontrol（宽频介电阻抗谱仪）等多家高新技术
;深圳市德誉电束设备有限公司;;品牌:德誉DEYU （德立业,誉全球） 是电子束焊机,真空电子束焊接机设备制造企业, 为用户提供电子束焊机,真空电子束焊接机,真空电子束焊机,电子束焊接设备,电子束
;南京涉谷电子束技术有限公司;;
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;武汉星永工业技术有限公司;;武汉星永工业技术有限公司是电子束焊接、电子束加工、铜带加工、齿轮焊接、钛合金焊接、真空焊接、异种金属焊接等产品专业生产加工的公司，拥有完整、科学的质量管理体系。武汉星永工业技术
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
净化间400平方米，配备有电子束蒸发台、进口光刻机、网络分析仪等研制和生产声表面波器件的先进设备和检测系统。 公司现有员工150人，聘请了多年从事声表面波器件研制开发的高级技术专家。公司已有一整套完善的生产声表面波器件的工艺技术
;上海鼎川电子科技有限公司;;上海鼎川机电设备有限公司是集研制、开发、生产于一体的专业雕刻设备厂家。公司自成立以来，便紧跟世界雕刻技术发展潮流，始终致力于CAD/CAM雕刻技术、CNC数控技术、激兴雕刻技术
;中山市古镇八束光灯饰门市部;;中山市八束光照明（炫彩）灯饰厂是一家集生产、销售及研发为一体的LED照明制造企业。打造新一代节能光源品牌！ 本公司专业生产室内照明：LED横插灯、玉米灯、格栅
;刘老师办公设备公司;;觉得深刻技术开绿灯机三联单技术开绿灯吉林省扩大机三联单集散地勒克司角动量棵螺丝钉深刻集散地