资讯
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
的效果。
第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。
这条路的优点是精细，分辨率高，比EUV光刻机还要高，美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机，实现0.768nm芯片的光刻，但缺......
台积电宣布收购英特尔旗下IMS，认购Arm股份(2023-09-13)
电的收购将使IMS的估值达到约43亿美元，英特尔将保留IMS的大部分股权。
据了解，IMS Nanofabrication 是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产......
光刻胶厂商徐州博康获数千万元投资，华为曾入股(2023-03-29)
胶的国产化自主可控的供应链。目前，徐州博康拥有ArF/KrF光刻胶单体、ArF/KrF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品，覆盖集成电路制造、后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等市场应用，研发储备全球80%的光刻......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
及以下的进程。
另外从IC研发角度，对于7纳米及以下的工艺制程，由于周期很长，现在启步也很有必要，但是研发与量产是两个不同的阶段，差异很大，也并非一定要用EUV光刻，用电子束光刻也同样可以。电子束光刻......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！(2023-11-22)
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称，台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。
三星在已量产第二代3nm......
2nm 半导体代工竞赛拉开帷幕：台积电、三星和 Rapidus 纷纷出手(2023-09-28)
Nanofabrication 的 10% 股权。
IMS 专业从事电子束光刻机的开发和生产，广泛应用于半导体制造，光学元件生产，MEMS 制造等。
业内专家认为，台积电收购 IMS 将确保关键设备技术的发展，满足......
晶瑞电材业绩预增120%以上，多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
博康产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品。目前已成功开发出40+个中高端光刻胶产品系列。
2021年6月，徐州......
晶圆代工2nm竞赛，打响设备争夺战？(2023-09-27)
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为，台积电收购IMS可确......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破;
光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
晶圆代工2nm竞赛，打响设备争夺战？(2023-09-27)
Nanofabrication （以下简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界......
突破工艺极限，美国开发出1nm制程技术与设备(2017-05-04)
技术都不会很快量产。因为纳米碳管电晶体跟PMMA、电子束光刻一样，跟目前的半导体制程技术有明显差异。因此，要让厂商一下子全部淘汰现有设备，这还需要一段时间布局。
劳伦斯伯克利国家实验室的1nm晶体管
北京......
重磅！华为进军光刻胶领域，深圳哈勃投资徐州博康(2021-08-11)
胶、电子束光刻胶等产品，产品广泛应用于IC集成电路制造、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等。
据官方介绍，徐州博康拥有研发团队200余人，其中博士和硕士占比50%以上，并配......
上海“科技创新行动计划”集成电路领域拟立项项目公示，涉及存储器、光刻胶等(2022-09-06)
。
拟立项项目共9个，包括“并行探针阵列电子束光刻关键技术研究”，项目承担单位为百及纳米科技（上海）有限公司；
“面向化合物半导体生产工艺的分子束外延装备及核心部件研制”，项目......
江苏长进微电子新厂房中试线设备已到位，本月开始调试及试产测试(2023-07-24)
为一体且拥有自主知识产权的科技型企业。上半年，长进微电子光刻胶产品工艺性能指标不断优化，已成功开发出紫外g /i line光刻胶、紫外Lift-off光刻胶、电子束光刻胶、保护胶等产品线，应用于集成电路、分立器件、先进......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
，13.5nm）光刻，电子束光刻等六个阶段，随着光刻技术发展，各曝光波长的光刻胶组分（成膜树脂、感光剂和添加剂等）也随之变化。
光刻技术及光刻材料的发展
根据反应机理和显影原理，可以将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司，其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域，具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为，台积电收购IMS可确......
国产厂商引入首台光刻机设备！(2024-07-17)
国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
国产光刻胶上演“冰火两重天”(2021-08-24)
博康实现了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及最终产品光刻胶的国产化自主可控的供应链，产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、g线/i线光刻胶、电子束光刻胶等。
在这......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
技术顺利展开，台积电已经展开对上游设备领域的追逐工作。台积电9月12日宣布将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS Nanofabrication （以下简称“IMS”）10%的股份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界认为台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。针对2nm制程所用设备，台积......
ASML持续布局中国，又一台光刻机进入中国工厂(2022-12-29)
、北京华卓精科等中国厂商不断崛起。
ASML是芯片上游产业链极其重要的设备供应商，也是全球最大的光刻机制造商，可提供包括光刻机台、计算光刻和电子束量测在内的全方位光刻解决方案。
1988年......
三星首次引进本土生产光刻胶！(2022-12-06)
，韩国的光刻胶需求高度依赖于日本及从其它国家进口。
公开资料显示，光刻胶是光刻工艺中的关键材料，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要......
国产高端光刻胶为啥量产难？一文看懂全球半导体光刻胶发展现状及竞争格局(2022-03-10)
以上话题做探讨与分析。
具有市场障碍和技术壁垒
我们在《国际电子商情》10月刊《半导体材料供应商盘点及市场竞争格局分析》一文中解释过光刻胶的定义及分类——光刻胶又称光致抗蚀剂，是在通过紫外光、电子束、离子束、X射线......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
入量产阶段。
目前，这些先进的光刻机不会立即投入运作，因为在将其整合到大量生产之前，需要进行严格的测试、微调和制程优化。至于，在这些光刻机全面投入运作时，台积电预计将发展到其A10......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
引起粒子加速器和同步辐射领域的兴趣”。《自然》相关评论文章写道：“该实验展示了如何结合现有两类主要加速器光源——同步辐射光源及自由电子激光——的特性。SSMB光源未来有望应用于EUV光刻和角分辨光电子能谱学等领域。”该论......
最新，国产光刻胶通过验证！(2024-10-16)
胶的着力开发做技术储备。
徐州博康
近期，据徐州博康信息化学品有限公司博康光刻胶事业部总经理杜光宇披露，徐州博康已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、I线光刻胶、封装光刻胶、电子束光刻......
国产光刻机巨头，更新上市进展？(2023-11-13)
国大陆市场占有率达到85%。此外，公司LED系列光刻机全球市占率55%。不止如此，根据官方信息，上海微电子的600系列光刻机可用于IC前道制造，满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻......
英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位？(2023-12-28)
一提的是，台积电于今年9月宣布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机，以确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。
三星
三星......
半导体设备，烽烟四起(2024-11-29)
生产节点的电子束光刻设备的开发，能够掌握外延法（即在单个衬底上生长多层半导体材料的过程）工艺；到2030年，俄罗斯能够自主生产65nm或90nm制程的国产光刻系统，这将显著提高俄罗斯生产微电子......
精彩呈现，半导体材料厂商在这个春天百花齐放(2021-03-23)
胶产品系列，包括多种电子束胶，193nm ArF干法光刻胶，248nm KrF正负型光刻胶，365nm I线正负型光刻胶及GHI超厚负胶，覆盖IC集成电路制造，IC后段封装，化合物半导体，分立......
国际大厂光刻胶涨价！国产替代刻不容缓(2023-12-13)
电材则能够提供紫外宽谱及部分g线、i线、KrF光刻胶等产品，产品系列较为丰富；徐州博康拥有ArF/KrF光刻胶单体、ArF/KrF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品系列，光刻胶数量处于国内领先；以及......
半导体设备乘风而起(2021-07-27)
体设备持续景气。
快速增长
全球光刻机龙头ASML在周三公布了其今年二季度的财报。营收同增22%，达到了40.2亿欧元，净利润同增38%，达到10.3亿欧元，毛利率达到了50.9%。ASML预估......
科学家：石墨烯可替代硅(2022-12-29)
治亚理工学院的实验室中用新开发的烤箱制造了石墨烯。
电子创造纳米结构
研究人员使用了电子束光刻。这是微电子学中常用的一种方法，可以在石墨烯中写入纳米结构并将其边缘焊接到碳化硅芯片上。这个......
半导体大厂取消增加光刻胶供应商计划，国内厂商发展现状如何？(2022-09-23)
与市场双重壁垒下，国内光刻胶厂商发展处境如何？
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光刻胶：半导体光刻工艺核心材料
光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在半导体制造环节，光刻胶是光刻......
蒋尚义正式加盟中芯国际(2020-12-16)
与研发CMOS、NMOS、Bipolar、DMOS、 SOS、SOI、GaAs 镭射、LED、电子束光刻、矽基太阳能电池等项目。在台湾积体电路制造股份有限公司（以下简称“台积电”），蒋博......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
膜制造也十分困难。EUV掩膜在很多方面与传统193nm光刻的掩膜不一样。因为它有很大的改变，对于每个产品的特性或者功能，在供应链中会产生很大影响，其中包括光刻胶、掩膜及中间掩膜，也涉及制造设备，如采用电子束......
ASML狂赚500多亿：“多余”的光刻机全都卖到了中国(2023-07-20)
ASML狂赚500多亿：“多余”的光刻机全都卖到了中国;
7月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布了2023年第二季度财报。
2023年第二季度，ASML实现了净销售额69亿欧......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子......
光罩产业国产化趋势势不可挡，本土光罩厂正在兴起(2023-03-24)
对空间成像进行分析来判断是否需要修复。通过验证工艺的挑选，就能够只对关键缺陷进行修复，大大减少缩短光罩加工以及出货的周期。随光罩所对应的光刻工艺的节点不同，从早期的激光修复，到后期的聚焦离子束(FIB)修复，如今最尖端的节点引入了电子束......
北京经开区：要确立在全国集成电路全产业链的领导地位(2021-07-09)
关键设备核心竞争力，实现刻蚀、薄膜、离子注入等关键装备全布局，形成区域集中、协同发展的集群效应。联合攻关金属部件、硅基及陶瓷等非金属部件、电子部件的供应安全问题，重点关注光刻机核心部件，支持光学镜头、激光光源、工件台及计算光刻......
为了给摩尔定律续命，芯片行业有多努力？(2023-03-27)
会成为终点。
电气电子工程师学会发布的最新《国际设备和系统路线图》也显示，EUV的潜力将在2028年前后被挖掘殆尽，看不见EUV的替代者。
光学技术，未来一片“乌云”，以电子束光刻和X射线光刻......
基于石墨烯的纳米电子平台问世(2022-12-23)
的石墨烯芯片要比硅芯片内可封装更多器件。
为了创建新的纳米电子学平台，研究人员在碳化硅晶体基板上创建了一种改良形式的外延石墨烯，用电子级碳化硅晶体生产了独特的碳化硅芯片。
研究人员使用电子束光刻......
对话东方晶源：打造中国芯片制造的GoldenFlow(2024-04-03)
解决方案——HPOTM（Holistic Process Optimization）良率最大化技术路线和产品设计理念，在计算光刻软件及电子束量测检测领域成绩斐然。
在近日召开的2024年......
行业并购、战略合作...英特尔/高通等国际半导体大厂最新动态追踪(2023-06-26)
亿美元为作价基准，英特尔出售20%股权的价值为8.6亿美元。该交易预计将于2023年第三季度完成，届时，IMS将作为独立子公司运营。
资料显示，IMS成立于1985年，总部位于奥地利维也纳，是一家专注于研发和生产电子束光刻机......
深圳哈勃投资光刻胶厂商；荣芯16.66亿元买下德淮；国内再添一批第三代半导体项目(2021-08-15)
胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品，产品广泛应用于IC集成电路制造、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等。
国内再添一批第三代半导体项目
近日，山西......
中电科8英寸抛光设备进入中芯国际、华虹宏力等大线(2021-07-09)
内外芯片制造企业提供一站式解决方案。
作为集成电路制造前道工序中的关键设备，离子注入机的研发难度仅次于光刻机。由于离子注入机对洁净度要求很高。在芯片制造过程中，通常有70多道离子注入工序，因此，这种......
东方晶源亮相SEMICON CHINA，全新产品矩阵展现高质量发展“芯”活力(2023-07-04)
精确的制程仿真、DRC、SBAR、ILT、OPC、DPT，以及SMO，可提供全套计算光刻解决方案，领跑国内相关领域发展。
新产品YieldBook依托于公司领先的计算光刻OPC技术和电子束......
晶圆厂的cycle time，你听说过吗？(2017-04-19)
开发后，将其运送到晶圆厂并放置在光刻机中。光刻机投射光线透过掩膜，将图像曝光在芯片上。
所以掩膜和光刻被绑定在了一起。今天，芯片制造商使用193nm波长光刻技术在芯片上打印微小的特征。实际上，193nm光刻......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
时代
目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本，同时在效率上远超电子束......
相关企业
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
;深圳市德誉电束设备有限公司;;品牌:德誉DEYU （德立业,誉全球） 是电子束焊机,真空电子束焊接机设备制造企业, 为用户提供电子束焊机,真空电子束焊接机,真空电子束焊机,电子束焊接设备,电子束
净化间400平方米，配备有电子束蒸发台、进口光刻机、网络分析仪等研制和生产声表面波器件的先进设备和检测系统。 公司现有员工150人，聘请了多年从事声表面波器件研制开发的高级技术专家。公司
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品，章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临章丘市冠牌电子
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
所等有着紧密的合作关系，并系统地代理了德国Omicron（表面分析系统）、ION-TOF（飞行时间二次离子质谱仪）、Raith（电子束光刻系统）及Novocontrol（宽频介电阻抗谱仪）等多
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;苏州欣宇激光设备有限公司销售三部;;苏州欣力宇电子科技有限公司是专业从事数控设备研发、销售及加工应用服务的高新技术公司，专业供应国际技术领先的激光切割机、激光打标机、激光焊接机、激光裁床，模具治具雕刻机