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英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？;
在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上，英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作，将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中，并推出用于计算光刻......
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学(2023-03-24)
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学;2023春季GTC上，NVIDIA与TSMC（台积电）、ASML 和Synopsys（新思科技）联合宣布，完成全新的 AI 加速计算光刻......
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台(2024-03-19)
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台;3月19日消息，GTC 2024大会上，NVIDA正式宣布，为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC （台积电）和......
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台：最快加速60倍(2024-03-19)
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台：最快加速60倍;
3月19日消息，GTC 2024大会上，NVIDA正式宣布，为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC......
热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产(2024-10-10)
热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产;“台积电用上英伟达计算光刻平台生产”这一话题登上百度热搜。
据多家媒体报道，美东时间10月8日，AI芯片大厂英伟达强调了同台积电在加速计算......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产;NVIDIA cuLitho 可将半导体制造中高度计算密集型的工作负载加快 40-60 倍，并为......
TSMC 和 Synopsys 将NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
TSMC 和 Synopsys 将NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产;
美国加利福尼亚州圣何塞 —— GTC —— 太平洋时间 2024 年 3 月 18 日 —— NVIDIA 于今......
东方晶源发布首款计算光刻云平台 已在华为云、腾讯云等完成测试(2022-07-18)
东方晶源发布首款计算光刻云平台 已在华为云、腾讯云等完成测试;近日，东方晶源微电子科技（北京）有限公司（以下简称“东方晶源”）发布首款基于云端的EDA计算光刻平台——AeroHPO全流......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产;NVIDIA cuLitho 可将半导体制造中高度计算密集型的工作负载加快 40-60 倍，并为......
计算光刻速度提高40倍，台积电预计6月将英伟达AI加速技术导入2nm试产(2023-03-22)
计算光刻速度提高40倍，台积电预计6月将英伟达AI加速技术导入2nm试产;英伟达与台积电、ASML 和新思科技（Synopsys）携手合作，经历四年开发，英伟达终于完成全新的 AI 加速......
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产(2024-03-20)
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产;3月19日，英伟达宣布，为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC和Synopsys将在生产中使用NVIDIA计算光刻......
NVIDIA宣布推出cuLitho软件加速库(2023-03-22)
推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。
所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案转移到光刻......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。
光刻......
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产(2024-03-20)
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产;当地时间3月18日，（NVIDIA）宣布（TSMC）、（Synopsys）已将其投入生产，以加速下一代先进半导体芯片的制造，突破物理极限。本文......
东方晶源亮相SEMICON CHINA，全新产品矩阵展现高质量发展“芯”活力(2023-07-04)
-SEM均为国内首台，填补国内相关领域空白。
计算光刻软件领衔，芯片制造EDA工具再添两个新成员
东方晶源计算光刻软件PanGen，打破国外技术垄断，是国......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
探索前沿技术 推动产业发展，东方晶源受邀参加第七届国际先进光刻技术研讨会(2023-10-30)
Patterning
Solutions，IWAPS)在浙江丽水盛大开幕。在为期两天的会议中，数十家机构的嘉宾分别围绕计算光刻、DTCO、EUV、工艺、量测、Deep
Learning、设备、材料、新型光刻......
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展(2021-06-11)
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展;近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask......
国内首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 15:31)
国内首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。
光刻......
AI的决定性时刻 英伟达“赢麻了”(2023-03-22)
GPU。
计算光刻技术提速40倍
黄仁勋带来的另一项革命性技术，也关乎英伟达自身的产品研发，是一项聚焦先进芯片设计制造的技术——NVIDIA cuLitho的计算光刻库。
NVIDIA cuLitho计算光刻库可以通过计算......
2080亿晶体管，英伟达推出最强AI芯片GB200(2024-03-20)
petaFLOPS 的稀疏 FP16 性能。这将 Cerebra 的领先优势缩小至 25 倍。但正如我们当时指出的那样，所有这一切都取决于您的模型能否利用稀疏性。
台积电和 Synopsys 正推进部署使用英伟达的计算光刻......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件;
“OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们......
这是AI的时代，也是英伟达的时代(2023-03-29)
到了生成在月球行走的太空服猫的过程。现在完全可以说，生成式 AI 就是一种新的计算机，一种可以用人类语言进行编程的计算机。”
03计算光刻将提速40倍
本次GTC大会，英伟达还带来另一项革命性的技术，或将大幅提高先进光学光刻......
东方晶源首台关键尺寸量测设备进驻中芯国际(2021-07-02)
关键尺寸量测设备能够进入中芯国际12英寸产线验证。
图片来源：东方晶源
资料显示，东方晶源成立于2014年，总部位于北京亦庄经济技术开发区，专注于芯片制造关键环节的良率控制和提升领域，成功自主研发的核心产品系列包括计算光刻......
台积电已启动2nm芯片试产，英伟达助力下能否拿下这场“争战”首胜？(2023-06-08)
减少服务器用电。
在今年的3月的英伟达GTC大会上，英伟达就发布了一项面向芯片制造行业的突破性技术——NVIDIA cuLitho计算光刻库，可以将计算光刻加速40倍以上，使得2nm......
西安交大与合肥芯碁共建光刻装备智能制造联合实验室(2021-12-14)
仪式在创新港举行。
按照双方合作协议，芯碁微装与西安交大将围绕软硬件协同智能化生产、高精度亚像素靶标系统、各种设计软件的数据转换系统、高精度控制系统、计算光刻等领域开展联合研发、人才培养、成果转移等方面合作。
西安......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件(2022-11-29)
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。
光刻......
新思科技携手英伟达：基于加速计算、生成式AI和Omniverse释放下一代EDA(2024-03-20)
的精确度完成设计验证，从而将仿真时间从数天缩减到数小时。
新思科技Proteus™：为计算光刻过程提供光学临近效应修正（OPC）软件，该过程是半导体制造中最为庞大的工作量之一。运行......
新思科技携手英伟达：基于加速计算、生成式AI和Omniverse释放下一代EDA潜能(2024-03-20)
将仿真时间从数天缩减到数小时。
•新思科技Proteus™：为计算光刻过程提供光学临近效应修正（OPC）软件，该过程是半导体制造中最为庞大的工作量之一。运行于英伟达cuLitho软件库上的新思科技OPC软件，相比......
新思科技携手英伟达：基于加速计算、生成式AI和Omniverse释放下一代EDA潜能(2024-03-21)
的强大处理能力来加速SPICE仿真任务。这种异构加速计算架构允许对复杂电路进行仿真，以SPICE级别的精确度完成设计验证，从而将仿真时间从数天缩减到数小时。
新思科技Proteus™：为计算光刻......
ChatGPT等火爆，英伟达增加A100等旗舰GPU投片(2023-03-22)
使用其“cuLitho”软件库进行计算光刻，表示该库将使其合作伙伴能够以更高的效率设计和制造下一代芯片。台积电方面也回应称，“这一发展为台积电在芯片制造中更广泛地部署逆光刻技术和深度学习等光刻......
包括光刻技术！美商务部再禁运6项关键技术(2020-10-24)
增材制造/计算机数控工具；
特定的计算光刻软件；
用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术；
有限的数字取证分析工具；
用于监测电信服务通信的某些软件
亚轨道航天器
美国......
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知(2023-07-05)
为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨......
美国升级AI芯片及半导体设备出口限制！壁仞、摩尔线程等13家中企被列入黑名单！(2023-10-18)
、“计算光刻”软件出口也将受限？
另外，据路透社的爆料，美国对中国的新出口管制还将会限制先进芯片制造中使用的“计算光刻”软件的出口。
众所周知，光刻是芯片制造过程中最复杂、最昂贵、最关键的环节。数据......
对话东方晶源：打造中国芯片制造的GoldenFlow(2024-04-03)
解决方案——HPOTM（Holistic Process Optimization）良率最大化技术路线和产品设计理念，在计算光刻软件及电子束量测检测领域成绩斐然。
在近日召开的2024年......
新思科技携手英伟达：基于加速计算、生成式AI和Omniverse释放下一代EDA潜能(2024-03-20 10:52)
架构允许对复杂电路进行仿真，以SPICE级别的精确度完成设计验证，从而将仿真时间从数天缩减到数小时。• 新思科技Proteus™：为计算光刻过程提供光学临近效应修正（OPC）软件，该过......
IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知(2023-09-18)
为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨......
ASML持续布局中国，又一台光刻机进入中国工厂(2022-12-29)
海微电子、北京华卓精科等中国厂商不断崛起。
ASML是芯片上游产业链极其重要的设备供应商，也是全球最大的光刻机制造商，可提供包括光刻机台、计算光刻和电子束量测在内的全方位光刻解决方案。
1988年......
12英寸硅晶圆厂动工；高通/英特尔前高管加入Arm(2022-12-05)
或将吃紧
中国团队研发计算光刻EDA软件
1
全球再添12英寸硅晶圆厂
美国时间12月1日，全球第三大硅晶圆制造商环球晶圆 （GlobalWafers）在美国德州谢尔曼市举行12英寸......
英特尔联合创始人、摩尔定律发明者戈登·摩尔去世(2023-03-26)
业界也总有人在迎接挑战，创新手段延续摩尔定律发展。比如开发新的晶体管架构，引入FinFETs技术，将晶体管的栅极由平面结构改成立体结构；再比如计算光刻等技术，使得制造更小芯片成为现实。
诸多创新推动之下，未来......
对话ASML｜与光同行，共赴"芯"辰大海(2024-02-27)
对话ASML｜与光同行，共赴"芯"辰大海;作为半导体行业的全球供应商，在科技领域不断创新，为客户提供包括、计算光刻和量测在内的"铁三角"全景光刻解决方案。同时，公司也将人才视为追"芯"之旅......
北京经开区：要确立在全国集成电路全产业链的领导地位(2021-07-09)
关键设备核心竞争力，实现刻蚀、薄膜、离子注入等关键装备全布局，形成区域集中、协同发展的集群效应。联合攻关金属部件、硅基及陶瓷等非金属部件、电子部件的供应安全问题，重点关注光刻机核心部件，支持光学镜头、激光光源、工件台及计算光刻......
英特尔联合创始人、摩尔定律发明者戈登·摩尔去世(2023-03-25)
体管的栅极由平面结构改成立体结构；再比如计算光刻等技术，使得制造更小芯片成为现实。
诸多创新推动之下，未来摩尔定律仍将持续生效，焕发活力。......
可穿戴芯片技术如何影响我们的生活呢？(2024-06-06)
、计算光刻、光学和电子束量测的
ASML “铁三角”全方位光刻解决方案
ASML“铁三角”组合的全方位光刻解决方案以技术创新为半导体行业持续演进提供了长期动力，以合......
华芯巨数携新一代数字后端EDA产品，亮相ICCAD2023！(2023-11-20 16:21)
后端设计过程中的时序最差路径，进而提升整个设计结果的质量。通过与制造端计算光刻（OPC）工具结合，在HXOPT中实现光刻优化布线的功能。基于OPC工具对于工艺行为的精准预测，在后端设计阶段提前发现光刻......
芯擎科技/沐曦等逾10家半导体企业上榜，福布斯中国2022新晋独角兽名单公布(2023-02-08)
的战略重组事宜，总交易金额达77.57亿元。
东方晶源
东方晶源是一家专注于集成电路良率管理的企业，主要产品为纳米级电子束缺陷检测装备（EBI）和关键尺寸量测装备（CD-SEM）、计算光刻......
首届EDA国际研讨会ISEDA盛大召开，东方晶源受邀亮相展现最新成果(2023-05-16)
的领先者受邀亮相大会，并通过展台、论坛演讲等形式与参会者进行深入交流和沟通，展现最新技术成果。
在东方晶源展台，参会者纷纷驻足，与工作人员进行细致沟通，索取产品资料。大家对东方晶源的计算光刻......
ASML阿斯麦：你都知道多少(2023-10-08)
荷兰制造商生产一些世界上最先进的微芯片生产系统它是目前世界上唯一一家生产极紫外（EUV）光刻机的公司，该机能够通过使用更短波长的光来生产更小、更快、更强大的微芯片。ASML还生产深紫外（DUV）光刻系统、计量和检测系统以及计算光刻软件； 翻新现有机器； 并提......
相关企业
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司
;金辉达激光科技有限公司;;深圳德英激光科技有限公司 我司专业从事激光刻字，激光LOGO，范围如下： 1. U盘，MP4/3/5外壳激光雕刻， 2. 闪存卡激光刻字。包括SD卡外壳，CF卡外壳，TF
司具有雄厚的经济与技术实力，最早研制激光刻字机，拥有激光、电子、机械、计算机软件、机电一体化以及计量等领域的高级技术人才。具备激光产品开发和制造能力，目前
;IC加工 IC打磨 IC盖面 激光刻字 激光打标 镭射雕刻 激光打码;;
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;盐城经纬化工有限公司;;进出口电子材料包括热致变液晶,显示器液晶,光刻胶,清洗剂等
;高翔电子科技有限公司;;长期大量求购废硅片，蓝膜片，光刻片，抛光片，边角料，锅底料，头尾料，IC单晶硅碎片等硅料
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子星型CD
优良的售后服务赢得客户的普遍好评。公司现有知名中外专家、教授、工程师40余名，重点集中在激光刻录机、微结构电铸系统，半导体制造、MEMS、光伏太阳能制造等高科技领域。 公司的主要产品系列为： 1、激光刻录机：双子