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技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称“《目录》”)。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,半个多世纪以来,光刻机光源的波长不断缩小,芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV(极紫外光源光刻......
是目前EUV光刻机光学镜头全球唯一供应商,也是ASML“珠联璧合”的合作伙伴。此次蔡司在中国购地自建项目,将对中国光学镜头的发展产生推动作用。蔡司中国首席运营官谢磊介绍,此次蔡司在中国的工程项目,除了能够推进高端显微镜在中国......
公司的态度再次发生变化,引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
胶验证工作还在进展中,KrF光刻胶已有订单客户超3家。 ArF光刻胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中,是重要的光刻胶品类之一,国内厂商正处于技术开发或客户验证中。如南大光电11月消......
EUV极紫外光刻机,型号“Twinscan EXE:5000”。 NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,以及最高能达到的工艺节点。 ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清;近期,一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏,消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化,并表示该项目已在雄安新区落地。 对此,9月18日中国......
下降)。 欧洲(3.5%)和美洲(0.3%)的销售额同比增长,但日本(-2.9%)、亚太/所有其他地区(-11.3%)和中国(-12.6%)的销售额下降。 据中国海关总署数据,2022年我国光刻机......
满足集成电路发展的需求,光刻胶通过缩短曝光波长、提高极限分辨率,来满足不断精进的光刻技术需求。 不同的光刻胶产品适用于不同的光刻机,从光刻机的发展历程来看,以光源的来区别大致有g线-i线-KrF-ArF......
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性,ASML 认为在可预见的未来,其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子(SMEE)或华为的竞争。 根据数据显示,ASML先进的标准型EUV光刻机......
芯片等工艺水平并不高,这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片,也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片,不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
荷兰的ASML在EUV相关设备市场上垄断了核心光刻机,但日本在DUV光刻设备中的实力也不容忽视。Gigaphoton是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业,在光刻设备的DUV光源......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机市场表现,其指出2023年第一季度,中国......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机......
ASML加大中国市场开拓:7nm高端DUV光刻机可出口; 4月18日消息,据台系设备厂商透露,近期由于客户大砍资本支出、缩减订单,最重要是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备......
的升级就势必与分辨率水平相关联。 光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm 及更先进制程芯片的基础,采用了更加成熟化的极紫外光源,同时还采用了立体化的全数控光刻......
康指出,高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂,但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展,只能采取从低到高的策略,比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机,以及周边设备材料等,EUV......
于1923年,作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略,是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域,还是全球唯一一家能够供应极紫外(EUV)光刻机光源的厂商。上世纪80年代......
集团 (TRUMPF) 成立于1923年,作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略,是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域,还是全球唯一一家能够供应极紫外(EUV)光刻机光源......
ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前......
线宽,双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上,能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻,有望使国产集成电路光刻机摆脱一味采用更短波长光源......
分辨率=k1*λ/NA”中,可以得知,NA越大,光刻机分辨率就越高,制程就越先进。但NA孔径并没有那样容易提升,所以光刻机就选择了改变光源,用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源,就能大幅提升光刻机......
易制造。 据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破; 来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。 近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国......
ASML加快拓展中国业务:支持7nm高端DUV光刻机可出口; 4月28日消息,对于中国市场而言,正在全力以赴,预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元),其正在加快拓展在中国......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道,、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络:或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务;将全......
大幅增加。 所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯,和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。 按照的说法,除芯片精细化以外,封装......
科益虹源光电技术公司日前发生了变化,注册资金从1.2亿元增加到2.02亿元,增长68%,新增投资人包括华为旗下的哈勃投资,占股4.76%,成为第七大股东。科益虹源主要业务是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统,是国......
时每一分都要精准。 每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右,像德国蔡司的光学设备,美国Cymer的光源都是阿斯麦的上游供应商。阿斯麦创立于1984......
国际和其他委外封测代工厂则是在10%左右。 虽然中国半导体产业已经取得了重大进步,但目前仍依赖于荷兰ASML和日本尼康和佳能的光刻机。有报道称,目前中国光刻......
-NA光刻机? 从早期的深紫外光刻机(DUV)起步,到后来的极紫外光刻机(EUV)以其独特的极紫外光源和更短的波长,再到如今的高数值孔径光刻机(High-NA)正式登上舞台,为制造更小、更精......
最新,国产光刻胶通过验证!; 据“中国光谷”消息,光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了,新闻的热度与这天气一样,慢慢转凉。笔者......
的另一个原因是,DUV光刻机对美国技术依赖较低。DUV光刻机使用的是深紫外光源,而全球能够提供深紫外光源技术的供应商有三家,分别是美国Cymer、日本Gigaphoton和中国的科益虹源。 也就是说,DUV光刻机......
工程院院士吴汉明:本土可控的55nm芯片制造,比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息,日前,在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上,中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
的产量预计为ASML设备的37%,光源功率为3.6千瓦,但这一性能已足够满足小规模生产需求。俄罗斯计划自主7nm芯片光刻机设备在2028年实现全面投产,效率预计比ASML光刻机高1.5-2倍......
计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩(ArF)”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品,可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机......
电子商情》了解,ASML的EUV光刻机使用了约10万多个零部件,其中90%来自全球各国,比如光源来自于美国Cymer(2013年,ASML收购了Cymer),光学模组来自德国蔡司,计量......
前荷兰官员的态度来看,荷兰不会跟随美国的脚步,在对中国光刻机的出口方面,荷兰有自己的评估。 国内此前多数业内人士认为,阿斯麦基于自身的利益诉求,也不可能屈从于美国的压力而放弃中国市场的巨额利润。现在......
将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源光刻机(分为干式和浸没式),可以......
的成本和物理极限的挑战限制了EUV光刻机的进一步发展,围绕光刻分辨率提升,光刻机走过了紫外光、深紫外光乃至如今的极紫外光技术路线,未来光刻机又将如何进一步提升,极紫外光势必不是光刻光源的终点所在。随着......
光刻机关键原料氖气价格暴涨20倍 中企出手后:降下来了;芯片制造离不开,数据显示,全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片,第二大就是。本文引用地址:以光刻为例,需要的就包括氖气、氩气、氪气、氙气......
ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。 相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系,当这......
一台3亿欧元!ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货; 综合韩联社、koreatimes报道显示,全球光刻机龙头大厂首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今......
,由上海微电子负责光刻机设计和总体集成,北京科益虹源提供光源系统,北京国望光学提供物镜系统,国科精密提供曝光光学系统,华卓精科提供双工作台,浙江启尔机电提供浸没系统。 数据显示,哈勃......
TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式,属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是......
全球唯一量产EUV光刻机的厂商,包括台积电、三星、英特尔的先进制程都要依赖EUV光刻机来生产。现阶段,每台光刻机的单价将近1.5亿美元。不过,ASML的EUV光刻机目前出货的是使用光源波长在13.5nm......
成为JSR的全资子公司。需要指出的是,这家公司拥有下一代无机光刻胶技术,这是决定半导体"尺寸"的关键材料。早前,看重Inpria不仅仅是JSR,还包括东京应化、三星、英特尔和应用材料公司的基金部门等,尽管......

相关企业

;珠海天辉有限公司;;,国内最早、最专业的UVLED供应商,供应UVLED芯片、UVLED点光源、UVLED线光源、UVLED面光源、UVLED印刷光源、UVLED验钞机光源、UVLED光固
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;北京华源拓达激光技术有限公司销售部;;北京华源拓达激光技术有限公司是半导体激光器、激光光源、ctp制版机光源、蓝光制网机光源、白光光源等产品专业生产加工的公司,拥有完整、科学的质量管理体系。北京
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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;深圳市嘉虹光源科技开发有限公司;;深圳市嘉虹光源科技开发有限公司是专业从事LED光电子产品的研发、制造和销售的企业。“2005年度中国光学光电子行业协会形象企业”、“深圳市企业联合会、深圳
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