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另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
公司的态度再次发生变化,引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
巨头ASML也不例外,因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子,自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大,独家垄断了EUV光刻机,占据......
最新,国产光刻胶通过验证!; 据“中国光谷”消息,光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现......
下降)。 欧洲(3.5%)和美洲(0.3%)的销售额同比增长,但日本(-2.9%)、亚太/所有其他地区(-11.3%)和中国(-12.6%)的销售额下降。 据中国海关总署数据,2022年我国光刻机......
中国光刻设备将打破国外垄断?; 版权声明:本文来源 《 中安在线》 《 中国电子报》,如果您认为不合适,请告知我们,谢谢! 中国芯片制造业高端装备一直以来依赖国外进口,尤其是高端光刻......
年初定下440亿资本开支目标的台积电,无奈之下已连续两次削减了资本开支,每次都是40亿美元,合计高达80亿美元,同时台积电还鼓励员工休假,并关闭了部分EUV光刻机。 反观28nm及以......
DUV光刻机遭进一步限制,中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向,知名行业分析师Dylan Patel认为,三方所达成的合作意向依然非常初步,本质......
购买ASML光刻机,晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日,晶瑞电子材料股份有限公司(以下简称“晶瑞电材”)发布公告称,公司......
传 ASML 将提供特供 DUV 给中国,官方回应!; 据业内消息,在荷兰对实施了出口管制措施之后,业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机,近日 ASML 官方......
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性,ASML 认为在可预见的未来,其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子(SMEE)或华为的竞争。 根据数据显示,ASML先进的标准型EUV光刻机......
芯片等工艺水平并不高,这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片,也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片,不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所,调研EUV光源等技术,高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机市场表现,其指出2023年第一季度,中国......
的市场需求仍将超出公司的产能,目前未交付的订单金额已超过389亿欧元。接下来,公司的重点仍将是全力提升系统产能。 Peter Wennink还谈及了中国光刻机......
微电子装备将于今年年底开始量产28nm immersion式(沉浸式)光刻机,该设备于2021-2022年交付。28nm能大致满足除了手机、平板、电脑等产品之外的其他大部分应用,如果上海微电子装备光刻机......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比,我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距,但近年来,随着首台28nm国产光刻机成功交付,中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是,除了自研光刻机之外,我国......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机,其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
国产厂商引入首台光刻机设备!;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息,近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
供应商设计了一个芯片,然后将其转换为文件格式。然后,在光掩模设备中,基于该格式制造掩模。然后将掩模运送到晶圆厂并放置在光刻机中。光刻机通过掩模投射光,掩模......
2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 据悉,晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机,可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻......
设备将会供应到两家企业当中。 俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。之前俄罗斯表示,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土......
国际和其他委外封测代工厂则是在10%左右。 虽然中国半导体产业已经取得了重大进步,但目前仍依赖于荷兰ASML和日本尼康和佳能的光刻机。有报道称,目前中国光刻......
胶市场体量虽小,却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看,光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小,产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高,为了......
工程院院士吴汉明:本土可控的55nm芯片制造,比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息,日前,在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上,中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机;据报道,中国将于年底推出首款 ,这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。本文引用地址:据《证券日报》报道,北京......
的企业,其90nm DUV光刻机在2016年已经通过验收,但45nm、28nm光刻机仍在研发过程中尚未量产,亟待突破。 结 语 从上文的各项数据来看,全球半导体设备市场几乎被美日荷所垄断,核心设备如光刻......
强调美日荷达成了某些协议。DUV光刻机不同于最先进的EUV光刻机,其主要生产的是14-28nm的芯片,这部分芯片虽不是最高端的类型,但是确实在市场中需求最大的部分。对于ASML来说,最先进的EUV光刻机......
前荷兰官员的态度来看,荷兰不会跟随美国的脚步,在对中国光刻机的出口方面,荷兰有自己的评估。 国内此前多数业内人士认为,阿斯麦基于自身的利益诉求,也不可能屈从于美国的压力而放弃中国市场的巨额利润。现在......
亦庄此前报道,作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位,科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称,上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前,光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试,根据验证结果调整配方。 根据曝光波长的不同,光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别,其中g线、i线一......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道,、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络:或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务;将全......
有报道称,上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W设备。 上海微电子的第一大股东是上海电气控股集团有限公司,持股......
旗下参股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司(以下简称“芯刻微”)委托盛吉盛(宁波)半导体材料有限公司(以下简称“盛吉盛”)代理投标,成功中标,购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻......
14nm及以下的芯片制造设备。美媒传出消息,称正在向荷兰方面施压,要求ASML停止向中国芯片企业出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻机。不过,这次ASML反应不一样了,直接表示了拒绝态度。 全球......
国可自行决定是否发放敏感产品及技术的出口许可证,并在自愿的基础上向其他成员国通报有关信息。但该组织实际上完全受美国控制。此前,美国干涉了捷克向中国出口“无源雷达设备”的交易,最终导致交易失败。业内人士认为,ASML的EUV光刻机迟迟未交付,很可......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是,到现在也没人见过这台国产光刻机,主要......
元。 除了半导体设备,中国大陆对半导体材料的需求量也在明显增加。 以光刻胶为例,这种精密材料约占晶圆材料制造成本的 13%,按照配套使用的光刻机类型,半导体光刻胶可划分为 g/I 线胶、KrF 胶、ArF......
设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机......
半导体设备产业也正经历着“四大挑战”。 2015 年全球半导体市场市占率 (Source:拓墣产业研究所整理,SEMI, 2016.9) 中国半导体设备的关键零部件受制于人:以光刻机为例,光刻机......
注入机和涂胶显影设备等领域较为薄弱,但针对28nm及以上制程的工艺覆盖日趋完善,并且去胶、CMP、刻蚀和清洗设备已不断缩短差距。 在IC制造设备上,目前市场抢手的设备-光刻机,主要......
头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中,有35%销往中国,除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外,中国本土厂商也买到了ASML的光刻机......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息,据国外媒体报道称,俄罗斯近日绕过了制裁,为本国存在了35年的续命。 报道中提到,尽管......
莫大康的介绍,目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度,对于2nm的先进工艺,高数值孔径的EUV技术还亟待开发,光源、掩模工具的优化以及EUV的良......
再前进。 为此,美国从EDA、半导体设备、半导体材料、光刻机、人才等方面进行全面打压,目标明确,目的明显。 当然,这样的打压,确实对中国......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
,该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术,当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻,中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成,虽然这种做法技术难度大,良率较低,成本也高出许多。 目前中国......
芯片的成本完全不能与基于更先进的DUV光刻机或者EUV光刻机搭建的产线相比。 根据此前的财报数据,中国大陆是市场是ASML第三大的市场,营业收入达27亿欧元,约占其2021年全球营业额的14.7%。 7. 戴尔......
芯片的成本完全不能与基于更先进的DUV光刻机或者EUV光刻机搭建的产线相比。 根据此前的财报数据,中国大陆是市场是ASML第三大的市场,营业收入达27亿欧元,约占其2021年全球营业额的14.7%。 7. 戴尔......
EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模(photomask)短缺问题——据说也是近期才发现的,尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......

相关企业

;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
担激光机的维修和承接激光加工业务。本公司生产激光刻字机已有多年的历史,中国第一台激光刻字机是由本公司的总经理和总工程师在20世纪80年代初率先开发成功的。目前已形成灯泵浦的YAG激光刻字机、二极管泵浦的YAG激光刻字机、脉冲
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如:布料花边冲孔,布料激光裁剪,有机玻璃、压克力制品加工,导光板切割,皮革打孔。激光刻字,金属件刻字,塑胶件激光打标,激光焊接加工。
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎
;武汉高盛光电科技有限公司;;武汉高盛光电科技有限公司(GOSUN LASER),位于中国光谷,武汉东湖新技术开发区,武汉市高新技术企业。 高盛光电,专注于激光技术与应用,专心