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日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
价格或将超过3亿美元，这也使得尖端制程所需的成本越来越高。
相比之下，的目前纳米压印技术将可以使得芯片制造商不依赖于EUV光刻机就能生产最小5nm制程节点的逻辑半导体。
佳能......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上再现。
早在去年十月，佳能便发布了全球首台商业化纳米压印光刻......
全球芯片代工领域当中是最优秀的企业，也掌握了全球最多的客户？(2023-01-26)
了可能会在这些产品上留后门。因此，俄罗斯也对芯片进行了相应的研究，然而，在光刻机的问题上他们和当时的我们一样束手无策。没有光刻机就没法批量生产芯片，这样一来设计的芯片再高端也无法用之于民。
众所周知，现在的国际市场上芯片......
2022国产芯片原厂图鉴(2022-12-13)
公众对半导体产业链有很多认知误区：
误区一，有了光刻机就能制造芯片？因众所周知的原因，我们拥有强大的芯片设计能力，但却无法将其实现并量化。如果在以前，全球分工明确的环境下，这些都不是问题。但在当前大冲突的背景下，我们......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
对中国的制裁是在中国半导体行业取得突破的背景下实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握7纳米芯片的生产工艺，这让中国成为全球半导体行业的领军者之一。
但中国目前的主要问题不是芯片本身，而是生产芯片的工具，它更具垄断性，其关键是光刻机......
ASML市值超过了昔日的全球半导体霸主英特尔！(2022-11-29)
出货量最多的厂商。凭借在光刻机领域的强大统治力，ASML的市值也达到了1855亿美元，这一数据也超过了昔日的全球半导体霸主英特尔的1200亿美元。
掌握了光刻机就相当于掌握了全球芯片产业的命脉，因此......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产芯片......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机(2023-08-03)
是该行业的重大突破，将生产满足常用设备要求的国产芯片。截至周二发稿，上海微电子尚未回应《环球时报》的采访请求。
上海微电子成立于 2002 年，是中国领先的光刻机制造商之一，约占国内市场 80% 的份额。外媒称该公司是荷兰世界领先光刻机......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
胶的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。
佳能表示，相较于传统光刻机......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？(2024-06-07)
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为在可预见的未来，其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子（SMEE）或华为的竞争。
根据数据显示，ASML先进的标准型EUV光刻机就......
350nm，俄罗斯光刻机制造完成(2024-05-27)
）的芯片。
图片来源：塔斯社报道截图
公开资料显示，350纳米尺寸芯片在当代较为落后，但是仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。该光刻机的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
掩膜，不是一种薄膜，可以理解成模具），就相当于是生产芯片的底片，它相当于是用设计出来的芯片图纸，做成一个比芯片大十倍或者百倍的底片，再通过光刻机各种光学照射，照射到芯片上，此后就是我们熟悉的涂覆光刻......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
将问世，2030年实现全面量产，生产4nm芯片。这突破将让ASML不安。
虽然技术攻克还有路要走，但中国具备突破EUV光刻机核心技术的实力，2025年国产EUV光刻机有望面世。2030年，国产芯片......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
着前所未有的工程、材料结构和制造方面的挑战。许多变化和误差的来源会阻碍光刻过程，必须加以控制，为确保芯片的生产满足所需的性能、体积和成本，传统的EUV光刻机技术可能已经走到了尽头。
高昂......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？(2022-11-29)
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？;
在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs
也宣布推出无需的，并且......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
分辨率=k1*λ/NA”中，可以得知，NA越大，光刻机分辨率就越高，制程就越先进。但NA孔径并没有那样容易提升，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源，就能大幅提升光刻机......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元(2022-05-23)
年投入使用，2026年到2030年主力出货。
消息显示，新一代High-NA EUV光刻机机型约双层巴士大小，重量超过200吨。该设备精密度更高、所使用的零部件更多，可用于生产下一代芯片，芯片......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
的效果。
第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。
这条路的优点是精细，分辨率高，比EUV光刻机还要高，美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机，实现0.768nm芯片的光刻，但缺......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。
而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付(2023-09-07)
可以用单次曝光 EUV 步骤代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。
目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是......
国产车与中国芯何时实现“双向奔赴”？(2023-10-06)
芯片的生产，一台的售价就高达上亿欧元。
即便不考虑价格，从外国购买现在也变得几乎不可能。因为技术封锁，国外禁止将先进的光刻机销售给中国。
光靠自主研发，紫光展锐虽然成功完成了6nm芯片......
收获存储客户多个订单，2552亿美元光刻机巨头公布最新财报(2022-04-21)
报会议上，ASML表示，随着第二季度芯片制造设备的市场需求超过供应量，将上调长期营收预期，维持今年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变，并表示，2025年将能生产70多部极紫外光刻机......
光刻环节重要材料供不应求，2024年或将涨价？(2023-11-29)
等信息，光刻机将这些图形曝光在涂有光刻胶的晶圆上，然后经过显影、清洗等步骤，就能把图形转移到晶圆上。
由于芯片内部结构复杂，一层掩膜难以包含全部电路信息，所以往往需要多层掩膜协助生产，随着芯片......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂(2022-11-28)
解，ASML做出这样的决定，主要出于以下几点原因：
首先，国内市场是最大的芯片消费市场，目前很多国内厂商开始自研自产芯片，进口芯片出现了明显的下滑趋势。越来越多的芯片在国内生产制造，自然就需要用到更多的光刻机......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
们的7nm生产线使用了ASML的EUV光刻机。这似乎陷入了一个死循环，无论是购买ASML EUV光刻机，还是找代工厂生产芯片，华为的7nm芯片都无法绕开美国技术。
在盛传台积电被迫放弃华为7nm订单......
英唐智控称收购先锋微案获批！后者资产包括日本光刻机(2020-08-24)
认可行方案后即可进行交割，最终交割方式及日期待最终确定后另行披露。
据了解，光刻机是制造芯片的核心装备，负责把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，但不用用途技术存在差异悬殊。从芯片制造来看，根据应用工序，则可分为生产芯片和用于封装两类光刻机......
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程(2024-11-05)
每台售价超过3.5亿美元，能使半导体制造商制造电晶体线宽更小的芯片。
台积电考虑用High NA EUV光刻机生产A10制程芯片，比2025年底2nm领先约两代，代表2030年后......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！(2023-05-29)
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！;
众所周知，作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。
先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机......
ASML两款光刻机出口许可被撤销(2024-01-04)
，荷兰政府的出口限制新规要求ASML需要申请出口许可证才能装运DUV光刻机，主要涉及能生产先进制程芯片的高端DUV光刻机型号的采购，暂不影响2000i之前的型号。ASML去年......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
价值上亿美元。这种设备是几十年大量研究和投资的产物，对于大规模生产速度快、能耗低的先进芯片至关重要。
但只有少数现金充裕的公司有能力购买极紫外光刻机。这给佳能最新上市的纳米压印芯片制造设备带来了希望。
自今......
10亿一台的EUV光刻机卖不动了？ASML下调预期(2023-07-21)
10亿一台的EUV光刻机卖不动了？ASML下调预期;作为半导体制造中的核心装备之一，光刻机至关重要，7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产，售价达到10亿以上，不过今年EUV的势......
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
细，显然量子芯片才是未来的方向。
其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元(2023-09-08)
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
面价格昂贵不是所有厂商都能买得起，另一方面EUV光刻机产能有限，制造商ASML每年只能生产四五十台左右的EUV光刻机。
芯片巨头开始摆脱EUV光刻机的依赖，探索新工艺、新方向。
美光科技绕过了EUV......
光刻机大厂：存储芯片2024年迎来增长，逻辑芯片小幅下滑(2024-01-25)
越来越趋近于10nm，常用的DUV光刻机就难以满足最先进制程DRAM的要求，因此存储芯片大厂逐步在产线中引用EUV设备，以生产最先进制成的DRAM芯片，这进一步推动了EUV业务增长。
至于......
EUV 光刻机耗能巨大，3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力(2022-08-26)
EUV 光刻机耗能巨大，3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力;据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片......
专家：中芯国际能追上台积电 靠这三个条件(2025-01-20)
工科相关毕业生。
更关键的一点就是，中芯国际无需尝试开拓西方市场就可以实现规模经济。
最后，对于面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片......
拉日荷围堵中国，美国的算盘能打响吗？(2022-12-20)
受荷兰媒体采访时说，荷兰先进的EUV（极紫外线）光刻机被禁止售往中国，如果中国想要拥有能生产先进芯片的设备，必须购买非常尖端的薄膜沉积设备和刻蚀机，它们主要来自美国。因此，从中受益的是美国芯片设备制造商，它们超过25......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
成像原理图
“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
据刘......
2纳米晶圆成本比3纳米高50%，每片达3万美元(2023-12-26)
成本抬升，每片芯片价格将上涨高达50%。
建造一座月产量5万片晶圆的2纳米晶圆厂成本约280亿美元，同样产能3纳米晶圆厂成本约200亿美元，成本提高来自EUV光刻机增加，2纳米比起3纳米需更精细制程，要保持生产......
国产光刻机巨头，更新上市进展？(2023-11-13)
再看其中内容，每一期内容也基本一致，符合定期披露的这种说法。当然，虽然上市进度没有想象中那样夸张，在A股上市的消息的确是确定的，但这也是我们在2017年就知道的。光刻机对产业链的重要性不言而喻，对一颗芯片来说，光刻......
ASML下调EUV需求预期：DUV暴涨(2023-07-21)
ASML下调EUV需求预期：DUV暴涨;
作为半导体制造中的核心装备之一，至关重要，7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有公司能生产，售价达到10亿以上，不过今年EUV的势头熄火了，DUV光刻机......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
的难点和关键点在于将电路图从掩膜上转移至硅片上，这一过程需要通过光刻来实现。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行20~30次的光刻，耗时占到IC生产环节的50%左右，占芯片生产成本的1/3。如果......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
资金链断、光刻机抵押、国内重点千亿级芯片项目恐“烂尾”(2020-08-26)
套设备均在有序订购，陆续进厂。国内唯一能生产7纳米芯片的核心设备ASML高端光刻机已入厂。但项目存在较大资金缺口，随时面临资金链断裂导致项目停滞的风险。二期用地一直未完成土地调规和出让。因项目缺少土地、环评......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产......
国产半导体设备，又“爆单”(2024-09-05)
体设备是集成电路产业链自主可控的核心环节，可以分为IC制造设备和封测设备两大类。IC制造设备大致可以分为11大类，50多种机型，其核心有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。
报道中提到，尽管......
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打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打