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名员工。该公司目前在首都拥有1700名员工,预计几年内将增加到2300人。 据悉,ASML柏林工厂主要生产的零部件包括晶圆台、光罩盘以及反射镜等光刻机核心零部件。ASML在2020年收......
前英特尔公司表示他们会率先使用下代EUV光刻机,已经巨资提前下单。 按照2025年出货的时间点来看,台积电、英特尔、三星的2nm级别工艺是赶不上的,最快也要到1.4nm工艺才能用上NA=0.55光刻机,未来生产1nm工艺......
的十年时间里,阿斯麦总共售出大约140套EUV光刻机,现在每一套系统的成本高达2亿美元。 晶圆代工厂商频繁下单 2017年,ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出。此后三星的7nm......
也成为欧洲最先进的芯片制造工厂。 据ASML发言人称,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。 极紫......
斯社报道,俄罗斯第一台能够生产最大350nm(行业一般说0.35μm)尺寸芯片的光刻机已经创建并正在测试中。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克(Vasily Shpak)在CIPR期间......
着自主研发的先进EUV光刻机,ASML公司在整个光刻机市场上也赚得是盆满钵满;因为EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备,所以不少芯片都抢着购买EUV光刻机,不过在老美的限制下,我国......
能,远低于台积电计划的30%和实际的35%——业界现在以35%为市场基准。这么低的性能提升显然不能被称为7nm,它更像三星的第二代10nm和第三代10nm(就是8nm)。 综上,今年第四季度量产的......
进的高数值孔径EUV设备的数值孔径将从0.33提高到0.55,这意味着设备可以绘制更精细的电路图案。 自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm、5nm、3nm工艺,台积......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心;最新消息显示,尽管全球经济将放缓,但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备(),用于生产......
技术的时间点。 但是引入High-NA EUV光刻机也需要解决相应的挑战,如可以支持光子散粒噪声和生产力要求的光源、满足0.55NA小焦点深度的解决方案、计算光刻能力、掩膜......
国脖子的设备有很多,但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说,5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为,当金属间距缩小到30nm以下(对应工艺节点超越5nm),光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
率更强,从而使得智能手机、物联网设备和服务器等应用中的多功能性进一步提高。 得益于半导体制造技术和专业技能的积累,三星在部署EUV光刻机方面具备先发优势,是三大DRAM原厂中率先引用EUV光刻机生产......
电子量产线的东进世美肯,也在准备为下一代的极紫外光刻机,也就是高数值孔径的极紫外光刻机(high-NA EUV)研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示,东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻......
也卖不动了,台积电被曝砍单40%订单。 EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的核心设备,全球只有荷兰ASML公司能够生产,售价高达10亿,下一代EUV光刻机会更会涨价到25亿以上,但是......
~14nm)以下,就有可能需要用到EUV光刻机。届时,存储器厂商订的EUV设备将有大的爆发。 据悉,三星电子目前已经尝试将EUV应用于1z DRAM的生产当中。2020年8月,三星电子宣布在平泽工厂新建的第二座生产线开始生产......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中,光刻工艺的核心设备,具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一,尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片,则只有ASML一家......
体行业准备迈入High-NA EUV时代 众所周知,EUV光刻机是先进半导体生产的关键。从本质上理解,High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA代表数值孔径,表示......
因在美国得克萨斯州的工厂未能吸引大客户,推迟了接收ASML生产的光刻机。同时,三星也推迟了向其他一些供应商下订单,致使这些供应商不得不另觅客户。 三星在今年4月表示,其德州工厂将于2026年开始生产,而非原定的2024年......
愿意采用该工艺的客户仅有Intel和苹果;至于三星的3nm工艺则没有公开客户,普遍认为采用了三星3nm工艺客户规模也不会太大。 如此情况下,芯片行业已开始探索无需光刻机的芯片制造工艺,进而......
、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。 不过,公告亦提示称,本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施。 三星德州厂延宕复工影响几何? 据TrendForce......
光刻工具,1个生产fab厂可装配EUV光刻机——不过后者目前似乎还没有装上EUV工具。而且Intel当前还在扩建8个可应用EUV的生产fab厂。应该说,在3家尖端工艺逻辑晶圆厂方面,台积电的EUV工具数量是远超三星的......
ASML计划离开荷兰,网友:请来中国;光刻机是近年最热的话题之一,众所周知,荷兰的光刻机巨头阿斯麦(ASML)掌握着全球半导体命脉,而在最近,这一巨头正在考虑将总部搬离荷兰。一时间,引发......
三星首次引进本土生产光刻胶!;据外媒消息,近日,三星电子将本土公司东进世美肯半导体开发的用于高科技工艺的极紫外 (EUV) 光刻胶引入其量产生产线,据悉,这是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试,此前......
前不久英特尔宣布完成了ASML High-NA EUV光刻机设备组装。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机,价值高达3.5亿欧元,英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。据了解,ASML......
头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中,有35%销往中国,除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外,中国本土厂商也买到了ASML的光刻机......
装备、5G、人工智能、工业互联网等领域。 据增芯科技总经理张亮介绍,增芯此次引进的光刻机产能输出速率可达到260片/小时,其资金投入占整个工厂建设投资的约25%。 光刻机是......
生产最新12nm芯片,三星逆势计划新增10台EUV光刻机; 由于内存价格暴跌,、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资,降低了产能,然而作为内存一哥不为所动,不仅不打算减产,甚至......
上半年的高数值孔径EUV(High-NA EUV)设备订单由英特尔全部包揽。并在前不久英特尔宣布完成了ASML High-NA EUV光刻机设备组装。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机,EDA,我们都研发成功了;众所周知,目前的硅基芯片已经快要发展到极限了,台积电、三星目前已经实现了3nm的量产,而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
,到目前为止,三星电子生产3D NAND芯片的光刻胶仍由Dongjin Semichem独家供应。三星一直试图减少对该家光刻胶公司的依赖,报道指出,虽然三星曾与至少四家潜在的日本光刻胶供应商接触,但这些厂商无法满足三星......
备无法出口到中国。 尖端制程严重依赖EUV光刻机 总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商,同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备,每台......
在本次官方禁令范围内。该机器可支持中芯国际、华虹等国内半导体来生产 28nm 以上的成熟工艺。 据悉,该光刻机是 ASML 现有效率比较低的光刻机,支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38......
)。 根据国外媒体报道,日前有内部人士表示,三星已经开始计划在2019年使用6nm工艺制造移动芯片,而并且将逐渐大幅减少7nm工艺生产线的投资。据悉,三星计划在今年安装两款全新的光刻机,并且......
三星使用日本产EUV薄膜,透光率达到90%; 【导读】近日据半导体业界透露,三星的极紫外(EUV)光刻技术取得了重大进展。最近在釜山举行的“KISM2023”学术会议上,三星DS事业......
三星否认“3nm 芯片量产延后”?称仍按进度于第二季度开始量产;6月22日,据中国台湾《经济日报》消息,三星近日否认了有关延后3纳米芯片量产的报道。三星的一位发言人通过电话表示,目前......
能负担起最新制程研发的基本只剩四家:GlobalFoundries,Intel,三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要,接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心,Intel,三星,台积电都曾对ASML投资......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内,对EUV的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年......
国提供部分设备的维修服务。 在业绩电话会上,ASML首席执行官温宁克回应称,“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。” 光刻机是制造芯片的关键设备,中国大陆是ASML的第二大市场。 因此......
克还介绍了ASML新一代High-NA EUV光刻机的进展,预计将于2024年开始发货,每台设备的价格在3亿至3.5亿欧元之间。 众所周知,目前ASML是全球最大的光刻机供应商,同时......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪,整体生产率提高10-15%;据尼康官方消息显示,尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪NSR-S636E,作为关键层的曝光系统,该系统具有更高生产......
均采用了ASML的EUV光刻机,台积电将于2017年第一季度采用ASML的光刻机,部分用于7nm芯片制造,部分用于2020年以后的5nm芯片制造;三星则计划在2017年第二季度采用ASML的......
入光学系统校准阶段。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机,价值高达3.5亿欧元,英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。 媒体报道,除了英特尔以外,台积电、三星、美光等厂商也向ASML......
光刻技术应用在远低于这个波长的场景。 有了RETs,光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。但到了22nm/20nm,单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片......
外交部确认了即将举行的会议,但没有详细说明议程上的议题。“荷兰总是与我们的合作伙伴进行良好的讨论。周一的官员会议就是一个例子,”该部告诉路透社。 ASML是全球最大的光刻机制造商,也是唯一的极紫外(EUV......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
器件、化合物半导体等行业需要的芯片,这些芯片主要应用于航空航天、移动通讯、新能源汽车、消费电子、AI人工智能等。 ABM Inc.公司介绍 ABM Inc.是一家在光刻机领域具有显著影响力的公司,专注于半导体前道制造和先进封装的光刻机研发与生产......
的效果。 第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。 这条路的优点是精细,分辨率高,比EUV光刻机还要高,美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机,实现0.768nm芯片的光刻,但缺......
年投入使用,2026年到2030年主力出货。 消息显示,新一代High-NA EUV光刻机机型约双层巴士大小,重量超过200吨。该设备精密度更高、所使用的零部件更多,可用于生产下一代芯片,芯片......
气、氦气、氢气、氩气等。而后者单一品种用量较小,一般在生产的某个特定环节使用,如二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。 公开资料显示,电子特种气体是支撑芯片制造的不可或缺的元素之一,它们在芯片产业关键制程光刻......
的计划对整个行业的推动都极为重要,接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心,Intel,三星,台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。 三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺;台积......

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;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
担激光机的维修和承接激光加工业务。本公司生产激光刻字机已有多年的历史,中国第一台激光刻字机是由本公司的总经理和总工程师在20世纪80年代初率先开发成功的。目前已形成灯泵浦的YAG激光刻字机、二极管泵浦的YAG激光刻字机、脉冲
;华越;;三星的电容代理
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
;韩旭;;销售TDK电容/电感/磁材等;ROHM的电阻/二三极管/IC;三星的电阻容/电感.
;HS Electronics co., ltd;;主要销售韩国LG,三星的液晶屏,及电脑周边的部件。
;距智科技有限公司;;本公司是三星的总代理商!本公司实力雄厚!
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑