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日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米; 12月10日消息,宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”,生产效率、套刻......
,压在晶圆上面就是多少纳米”;同时,“纳米压印的图案每一层都一次压印成形,不像传统光刻会用到SADP/SAQP(多重曝光)等复杂工艺”。 其特点在于制造成本更低,而且耗电量也远低于EUV光刻机......
备无法出口到中国。 尖端制程严重依赖EUV光刻机 总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商,同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备,每台......
将获得更强大的辐射源,改进的定位和进给系统,并将开始全面的工作,2028年,这些设备全面运行。 时隔两年,俄罗斯所说的真的实现了——首台光刻机正式制造成功并进入测试。 有实际意义的突破 据塔......
他第三次担任佳能总裁,上一次退出日常运营是在 2016 年。御手洗富士夫还说,最终的定价还没有敲定。 总部位于荷兰费尔德霍芬的阿斯麦是极紫外光刻机的唯一供应商。极紫外光刻机是世界上最先进的芯片制造机器,每台......
制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效,我们一直走在制程微缩的道路上,但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽,越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此,光刻机......
机器,包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 ASML不装了 为了让中国不能获取先进光刻机和芯片,美国绞尽了脑汁。而这一次,他们又把目光锁定在台积电厂房内的光刻机和产线。 据外......
俄罗斯媒体:中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章,原题:重大成就:中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道,上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机仍将落后于最先进的......
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息,目前,ASML High NA 仅有两台,如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址:当地时间6月3日......
分辨率=k1*λ/NA”中,可以得知,NA越大,光刻机分辨率就越高,制程就越先进。但NA孔径并没有那样容易提升,所以光刻机就选择了改变光源,用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源,就能大幅提升光刻机......
技术中心建设首个基于美国《芯片与科学法案》的旗舰研发站点。 该站点名为“EUV加速器”,将重点推进最先进的EUV光刻技术的研发工作,并将获得8.25亿美元美国联邦资金支持。同时,该加速器将汇集整个生态系统的NSTC成员......
,ASML也将其电源功率提升到200瓦特。 后记 上面EUV光刻机的介绍,是让大家知道,目前最先进的是极紫外光光刻机,光源是极紫外光,而关于中科院的中紫外光的波长是多少,半导......
该设备成本或超过3亿欧元。 在第一台High-NA EUV刚发往英特尔后,ASML就透露正在探索更先进的Hyper-NA EUV。随着晶体管尺寸变得越来越小,ASML的光刻系统也变得越来越复杂,面临......
)技术实现了目前最先进的半导体工艺,使该设备的前景成为行业争论的话题。 佳能半导体设备业务部长Iwamoto Kazunori在解释纳米压印技术时表示,纳米......
,价值高达3.5亿欧元,英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。据了解,ASML还对外交付了第二台High NA EUV光刻机,但未透露买家信息。 值得一提的是,ASML的订......
工艺的研发上。 台积电是全球芯片行业掌握技术最先进的厂商,拥有绝对领先的市场份额,需求最大的客户订单几乎都在台积电手里,因为目前只有台积电7nm及以下先进工艺是最成熟的。 不过......
材料应用的极限,二是不需要光刻机。 首先,传统的芯片是基于硅打造的,目前量产的最先进的硅基芯片是5nm,而即使未来能够做到1nm,那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位,如果要追求更小、更精......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
荷兰政府的这项法令,ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(下称DUV)。ASML方面强调,荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻......
半导体设备业务部长岩本和德还表示,如果改进光罩,纳米压印甚至可以生产先进制程的芯片。 佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。 更为关键的是,佳能的纳米压印设备成本和制造成本都远低于ASML的EUV光刻机。岩本......
和ArF等尖端产品,这种策略非常有效。这是因为,在半导体制造中,无论多么尖端,都不能仅靠EUV制造,而是统一使用ArF浸润式、ArF干式、KrF和i-line。 近期日本佳能宣布,成功交付佳能最先进的纳米压印光刻......
ASML最先进的光刻机,花落谁家?;4月上旬,全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E,该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径,旨在......
工艺不需要采用下一代High-NA EUV光刻机。 台积电让现有EUV发挥“余热”,通过提高生产效率的多重掩模和先进的基于纳米片的晶体管设计,找到了实现1.6nm的途径。尽管相对工艺步骤多、周期......
推动日本芯片公司Rapidus与荷兰ASML的合作,力争为日本引入EUV光刻机,量产最先进的半导体芯片。如果两家公司展开合作,有望强化供应链。 出席签约仪式的日本经济产业相西村康稔以Rapidus为先......
经济产业省与荷兰经济事务和气候政策部,于6月21日在东京签署了半导体领域合作备忘录。这一合作的主要目的是推动日本芯片公司Rapidus与荷兰ASML的合作,力争为日本引入EUV光刻机,量产最先进的半导体芯片。如果......
双方的合作协议,ASML将在日本的Rapidus工厂安装一台EUV光刻机,并提供相关的技术支持和培训。尽管ASML一直以来将其最先进的光刻机设备主要供应给台积电和三星等公司,但此......
ASML高端DUV光刻机可以出口:还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题,现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
也成为欧洲最先进的芯片制造工厂。 据ASML发言人称,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。 极紫......
应该加强重要的欧洲竞争优势。从成像开始。荷兰的ASML制造了世界上最先进的光刻机。比利时的 IMEC 和以著名的蔡司集团为首的一系列德国光学公司提供前沿研究和世界级的供应商网络。欧洲的另一个关键优势是先进封装,即多......
进一步下探了DUV光刻机,以及先进的沉积设备。 现阶段能够购买到的设备是什么?答案是TWINSCAN NXT:1980Di。介绍信息显示,这款光刻机采用193nm光源,广泛用于40nm或者38nm左右......
进一步下探了DUV光刻机,以及先进的沉积设备。 现阶段能够购买到的设备是什么?答案是TWINSCAN NXT:1980Di。介绍信息显示,这款光刻机采用193nm光源,广泛用于40nm或者38nm左右......
全球2nm晶圆厂建设加速!;AI强势推动之下,先进制程芯片重要性日益凸显。当前3nm工艺为业内最先进的制程技术,与此同时台积电、三星、英特尔、Rapidus等厂商积极推动2nm晶圆厂建设,台积......
ASML高端DUV光刻机可以出口:支持7nm; ASML在最新的声明中指出,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调,新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
强调美日荷达成了某些协议。DUV光刻机不同于最先进的EUV光刻机,其主要生产的是14-28nm的芯片,这部分芯片虽不是最高端的类型,但是确实在市场中需求最大的部分。对于ASML来说,最先进的EUV光刻机......
佳能 CEO:纳米压印“光刻机”无法出口中国!; 上个月(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的......
之间存在技术差距,就有必要填补这一差距。 另一方面,imec作为全球最先进的尖端技术研发单位,也与Rapidus建立了合作关系。据说,imec也与ASML建立了合作关系,并在引进ASML......
分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。 结语 总体而言,自英特尔公布其战略规划以来,许多措施接连落地,其在IDM和......
说其他拥有关键供应商的国家也采取类似限制措施。在美国压力下,荷兰此前已经禁止ASML向中国出口所有最先进的EUV光刻机,接着DUV又成为目标。 对此,中国驻荷兰大使馆发言人表示,这是对出口管制措施的滥用,是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离,中方......
全球2nm晶圆厂建设加速!;AI强势推动之下,芯片重要性日益凸显。当前3nm工艺为业内最先进的制程技术,与此同时、三星、英特尔、Rapidus等厂商积极推动2nm晶圆厂建设,、三星此前曾规划2nm......
AI芯片制造方面,英特尔努力重新取得优势。消息人士还表示,另一对手三星2025年第一季将安装第一套High NA EUV光刻机。 取得ASML最先进的光刻机并不意味着代表企业就能顺利的进入“埃米......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室,成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产,成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外,为助......
25亿一台!英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装:展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美......
(Nano-Imprint Lithography,NIL)技术可实现最小线宽14nm的图案化,相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。此外,随着掩模技术的进一步改进,NIL有望......
称,这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。 ASML声明如下: 荷兰政府于今日发布了有关即将出台的设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
10亿一台仍供不应求!目前,全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机,台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂,这些技术掌握在由42个国......
ASML推出High-NA EUV乐高模型;全球半导体设备龙头ASML宣布将旗下最先进光刻机「乐高化」,推出High-NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000乐高模型,售价227.95......
芯片制造过程的关键部分。它销售的一种机器被称为极紫外()光刻机,用于制造最先进的芯片,如苹果iPhone。 多年来,ASML一直被禁止向中国出口这台机器。到目前为止,它还没有向中国运送一台机器。 它销......
师将把设计概念转化为指导芯片制造机器的掩模版。 值得一提的是,英特尔本月初刚刚启动了世界上第一台最先进的芯片制造设备,名为高数值孔径极紫外 (high NA EUV) 光刻机。英特尔表示,这种设备可以简化设计流程,从而缩短芯片的制造时间。 ......
位于日本广岛的工厂将于2025年生产最先进的存储芯片“1γ(Gamma)DRAM”。他表示,美光将成为第一家将EUV光刻机引入日本的半导体企业。预计1γ DRAM将使用EUV光刻机......
第三代半导体企业英诺赛科亦与ASML签署了购买协议。 2021年1月21日,英诺赛科和ASML达成批量购买高产能i-line和KrF光刻机的协议,用于制造先进的硅基氮化镓功率器件。 资料显示,英诺......

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