光刻机除了做芯片还能做什么

，在历史中胜出  为什么EUV光刻这么被大家所关注？对一颗芯片来说，光刻是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。不止如此，卡中...

体行业观察记者没有查询到相关的数据，而用这个光源能做什么工艺的光刻，本站也未有了解，希望有知情人士可以留言，谢谢！ 今天是《半导体行业观察》为您分享的第1248期内容，欢迎...

那是技术问题，说高级一点，那是人类芯片进步的阶梯，这种说法够拽了吧。但口罩可是人命问题，没口罩你敢出门吗？敢去工厂里见一见那上亿美金的光刻机吗？ 这时你问问荷兰的ASML，造口...

的同学以及某些刚刚进入这个行业的猎头。 废话不多说了，直入正题。 一、数字IC到底都是在做什么？ 先是老生常谈，IC就是集成电路，就是芯片行业。芯片行业分为设计、制造、封测三个环节。 设计环节有多个方向，集成...

俄罗斯已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机。 光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何...

维系荷中关系。鉴于荷方有关光刻机出口的新限制措施，外交部认为荷方能否在降低对华依赖的同时继续维系好中荷关系？有关动向对中荷双边关系将带来什么影响？ 毛宁：全球产供链的形成是市场行为，中荷...

ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻...

规模量产得等到刚刚宣布的Intel 14A节点上，时间预计2025-2026年左右 。 该光刻机可以实现8nm的分辨率，而现有低NA光刻机单次曝光只能做到13nm，同时晶体管密度几乎可以增加3倍。 大家...

术和逻辑上讲，光刻机并不是必须联网的，这种情况下，ASML不太可能远程操作锁机，ASML不仅不知道曝光制造的内容，原厂也不会知道在做什么。 当然了，远程操纵不了，近距离也是能被操纵的。光刻机...

小伙儿在家自造芯片和光刻机！; 万万没想 到，造芯这件事，竟然还能如此“亲民”： 在22岁的年纪，一个...

浅析中美芯片博弈——美国加码对华为禁令，ASML DUV光刻机对华出口或有变;本文引用地址：2019年，无论从那个角度来说，都是最好的一年。在那一年的智能手机消费市场中，手机品牌竞争激烈，纷纷...

ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的...

还有一个重要作用，就是定制芯片，因为花大价钱造好的掩模是无法修改的，所以直写光刻会在这些领域拥有许多重要用途。 那么，俄罗斯看好X射线光刻又是什么呢？ 实际上，ASML制造的光刻机里也是X射线，但它是软X射线，我们...

主机厂在车规级MCU领域，也在大力布局。 值得注意的是，除了做Fabless无晶圆设计，一些主机厂还在自建芯片工厂。比亚迪在国内有多家芯片厂，MCU、IGBT等芯片都可以做到自研自产，吉利芯粤能碳化硅芯片...

可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。 而浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，也被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，如果一旦浸没式光刻机...

影响到半导体各个分支领域的技术发展方向。7纳米制造工艺引入EUV（极紫外光设备）设备，必须要为EUV制造工艺匹配相应的光刻胶。“光刻最重要的就是三光，即光刻机、光源和光刻胶，这三光都做好，光刻就没有什么特别的地方，”Brewer...

此前几个季度，半导体行业的整体库存水平持续得到改善。同时我们也看到，无论是逻辑芯片还是存储芯片客户，对光刻设备的利用率都在进一步提高。尽管以宏观环境为主的不确定性仍然存在，我们...

采用300nm也都是很常见的。军用芯片又不运行3A大作，搞14nm的做什么？ 还有，各国...

头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中，有35%销往中国，除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外，中国本土厂商也买到了ASML的光刻机...

是在破坏全球产业链。”问题是，EUV光刻技术突破意味着什么？ASML为何反应激烈？       在讨论光刻机之前，我们应了解芯片的关键性。没有芯片，将无法实现所谓“梦想”。芯片...

ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机;8月21日消息，据国外媒体报道称，ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示，世界需要中国生产的'传统芯片'，它们...

年前后做到0.5nm的量产，至少也能支持到0.7nm。 接下来的Hyper NA光刻机预计将达到0.75甚至更高，2030年前后推出，对应产品命名为HXE系列。 ASML预计，Hyper AN光刻机或许能做...

设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备等等。 顾文军认为，在产业链上，日本与中国的芯片贸易比较全面。除了设备，中国也从日本进口半导体零部件和材料，比如、大硅片等，“不要小看这些，或许没有光刻机那么大，但因...

后推出，对应产品命名为HXE系列。 预计，Hyper AN光刻机或许能做到0.2nm甚至更先进工艺的量产，但目前还不能完全肯定。 值得一提的是，单个硅原子的直径约为0.1nm...

更高，2030年前后推出，对应产品命名为HXE系列。 预计，Hyper AN光刻机或许能做到0.2nm甚至更先进工艺的量产，但目前还不能完全肯定。 值得一提的是，单个...

-5000道工序。在半导体芯片制造领域，我国的国产化程度还相对较低。当前，我国在单晶炉、氧化炉、PVD、清洗设备、刻蚀设备、CMP设备、镀膜、热处理等设备的国内自给率大致达到了≥10%。而像光刻机、涂胶...

10亿一台仍供不应求，光刻机为什么这么值钱？; 重磅干货！《智能制造概论》405页全...

年前后做到0.5nm的量产，至少也能支持到0.7nm。 接下来的Hyper NA光刻机预计将达到0.75甚至更高，2030年前后推出，对应产品命名为HXE系列。 预计，Hyper AN光刻机或许能做...

光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！; 半导体是人类科技发展的重要基础，也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权，但随着摩尔定律逼近极限，光刻机的工艺瓶颈也限制了芯片...

胶。 光刻 光刻在芯片制造过程中至关重要，因为它决定了芯片上的晶体管可以做到多小。在这个阶段，晶圆会被放入光刻机中，被暴露在深紫外光（DUV）下。很多...

。不过，ASML可以继续向大陆客户销售DUV光刻机。虽然DUV 不是最先进芯片制造设备，但对制造各种电子设备多数芯片来说至关重要。 除了ASML外，美国的应用材料、科磊和泛林集团外，日本的东京电子都是芯片...

入光学系统校准阶段。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。 媒体报道，除了英特尔以外，台积电、三星、美光等厂商也向ASML...

会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻...

技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机...

通过将配套的软件、生态做扎实，聚焦系统适配度上的完整度，从而夯实应用去挖掘更多的机会。等到不同应用都运转起来，跃昉科技再根据市场反馈考虑下一代芯片该往哪里发力。 袁博浒说道，“我们最终还是要对产品负责，不是为了做芯片而做芯片...

, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征...

其他部分层继续使用多重曝光。”这也是个挺有趣的解读思路，毕竟Intel 7工艺就没有使用EUV光刻，但晶体管密度也达到了台积电7nm的相似水平。在EUV光刻机短缺的大前提下，大概更多晶圆厂也不得不考虑减少芯片...

国提供部分设备的维修服务。 在业绩电话会上，ASML首席执行官温宁克回应称，“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。” 光刻机是制造芯片的关键设备，中国大陆是ASML的第二大市场。 因此...

ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm; ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻...

ASML官网显示支持7nm高端DUV光刻机仍可出口;荷兰政府宣布了限制某些先进半导体设备出口的新规定，这些规定将于9月1日生效。具体而言，荷兰政府将要求先进芯片...

还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片，但实际上已经有点力不从心了：三星采用了全新的GAA工艺，性能和功耗提升明显，但良品率成了最大的问题；台积电采用传统工艺，良品...

:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ...

需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长 50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长 15%。除了 DUV 光刻系统的业务持续成长，在 EUV 光刻系统部分，未出...

代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。 目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是...

礼还提到，由于晶圆代工厂之间的竞争态势，部分客户的新技术节点发展态势放缓，影响了对光刻设备的需求时间节点，尤其是在EUV光刻机方面。而在存储芯片领域，新增产能有限，发展重点依然是技术转型，以满...

:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ...

威力科创TokyoElectron）宣布，将于镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产，以维持原本2023年问世的期程。另外，除了东京电子之外，比利时微电子研究中心（IMEC）也是...

MEMS滤波器芯片生产基地和封装测试生产基地，极大提高两江新区及重庆在集成电路设计和制造领域整体实力。 除了锐石创芯，今年搬入ASML光刻机的中国厂还有鼎泰匠芯、格科微等。今年年初，格科微12英寸...

生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机; 由于内存价格暴跌，、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资，降低了产能，然而作为内存一哥不为所动，不仅不打算减产，甚至...

技术实现更小的特征尺寸，半导体制程引入了多重pattern技术。光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。 但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片...