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科普 | 芯片制造的6个关键步骤(2022-08-08)
更容易溶解从而为刻蚀和沉积做好准备。负性光刻胶则正好相反，受光照射的区域会聚合，这会使其变得更难溶解。正性光刻胶在半导体制造中使用得最多，因其可以达到更高的分辨率，从而让它成为光刻阶段更好的选择。现在世界上有不少公司生产用于半导体制造的光刻胶......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。
刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片......
经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产(2022-12-15)
与掩膜版完全对应的几何图形。
光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40-50%，是半导体制造中最核心的工艺。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，
根据......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
工艺即将迎来革命性进展。
光刻技术：皇冠上的那颗明珠
在集成电路芯片制造中，光刻是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片......
上海新阳、容大感光等企业光刻胶最新动态披露(2024-03-18)
%。
据介绍，高端光刻胶项目主要开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND（闪存，属于非易失性存储器）台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品。截至2023年12月31日，该项目中的“KrF......
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
资料显示，193nm光刻胶作为当前高端芯片制造中最为核心的原材料，被誉为半导体工业的“血液”，可以用于90nm~14nm技术节点的集成电路制造工艺。
在2021年6月末，南大......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
则被均匀涂布在衬底，经过曝光、显影与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶在其中起到的作用，主要是保护底层材料不被后续工艺刻蚀和将掩膜板图形转移到基片上。
据了解，光刻工艺约占整个芯片制造......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。
ASML的High NA EUV设备是芯片制造商制造......
半导体大厂取消增加光刻胶供应商计划，国内厂商发展现状如何？(2022-09-23)
设备投入、人才引进等方面加大投入，目前相关研发工作有序开展中；南大光电旗下用于90nm-28nm制程的ArF光刻胶已分别通过存储芯片制造和逻辑芯片制造企业验证；上海新阳ArF光刻胶同样处于验证阶段；徐州......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
的价值量也将会发生巨大的变化（单位价值量：ArF>KrF>I>G）。
其中，ArF光刻胶的制造难度是最高的，这也是14nm/7nm芯片制造过程中不可或缺的原材料。
芯片的工艺也分等级，平板电脑、汽车芯片......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。
先进制程竞争开战：光刻机“挺忙的”
在芯片制造中，先进制程技术是当前行业研发的重点，掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔，从三大厂的动态来看，先进......
国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
是不可或缺的材料，其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下......
国产光刻胶新突破！(2024-04-08)
量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下，如何......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证：为EUV光刻胶开发做技术储备(2024-04-02)
宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用。
且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。
作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶......
大基金二期再出手，认购南大光电18.33%股份(2021-07-28)
机等已经完成安装并投入使用。
据披露，宁波南大光电已建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品生产线；研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造......
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证(2024-04-03)
宽度值正态分布标准差(SD)极小(约为0.05)、性能优于大多数商用光刻胶。
且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。
作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶......
全球芯片需求激增，富士胶片加码逾6亿美元投资半导体材料(2021-08-24)
据显示，2021年全球EUV光刻胶市场规模将增长约90%，至5100万美元，并将继续以每年超过50%的速度增长，直至2025年。
富士胶片在位于日本、美国、欧洲、韩国和中国的11家工厂生产六种用于芯片制造......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机(2021-01-21)
研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的ArF光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。
晶瑞股份表示，目前......
半导体制造工艺——挑战与机遇(2024-01-12)
硅晶片作为半导体工艺的起始材料。清洗、抛光晶圆，并准备用作制造电子元件的衬底。
第二步：图案化
在这一过程中，使用称为光刻的工艺在硅晶片上创建图案。将一层抗腐蚀的光刻胶施加到晶片表面，然后......
最新，国产光刻胶通过验证！(2024-10-16)
原材料到配套材料的全部自主化。在光刻胶领域，南大光电已取得了显著进展。据了解，公司研发的多款ArF光刻胶正在国内主要集成电路芯片制造企业进行验证，并已通过验证的三款ArF光刻胶......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上，英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作，将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中，并推出用于计算光刻......
5.8亿，上海新阳光刻胶项目启动，国产替代进程加速(2023-02-15)
产品通过了客户认证，并成功取得订单，其中通过认证的KrF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司。目前除ArF光刻胶外，上海新阳EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中；KrF光刻胶......
北京科华与杜邦达成战略合作，助推中国先进光刻材料行业发展(2021-11-09)
科华”）宣布开展一项合作计划，为中国集成电路芯片制造商提供高性能光刻材料。凭借双方公司的优势，此项合作旨在满足行业对先进光刻胶和其他光刻材料的需求。
根据国际半导体产业协会(SEMI)发布......
晶瑞电材KrF光刻胶项目获新进展(2022-05-07)
电材在接受机构调研时表示，公司子公司苏州瑞红的光刻胶品类齐全，经过三十年积累，拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，ArF光刻胶......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。
佳能表示，相较于传统光刻机需要复杂的光......
64亿美元！日本光刻胶龙头被高溢价私有化(2023-06-27)
发起要约收购以将JSR私有化，报价为每股4350日元，较其上周五收盘价溢价35%。瑞穗银行和日本开发银行（DBJ）将提供融资。
JSR成立于1957年，是世界领先的光刻胶供应商，自1979年开......
陈韦帆加入晶瑞股份，担任光刻胶事业部总经理(2021-08-02)
（248nm深紫外）光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，满足......
央视调查：光刻胶靠抢 进口芯片涨价20%(2021-03-23)
央视调查：光刻胶靠抢 进口芯片涨价20%;一颗芯片的诞生大致可以分为三个环节，先设计、再生产、最后进行封装和测试。当前，在芯片制造的环节中，原材料紧缺、产能供不应求同样存在。
而光刻胶是芯片......
南大光电ArF光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破(2021-06-02)
南大光电ArF光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破;6月1日，江苏南大光电材料股份有限公司（以下简称“南大光电”）发布公告称，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波......
南大光电承担的国家科技重大专项项目通过验收(2021-07-30)
进一步扩大生产的能力，建议抓住机遇，尽快扩产。
南大光电表示，ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
”到晶圆上，是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本的30%以上。以ASML顶级的EUV光刻机为例，它需要功率极高又稳定的光源，这就......
能扼住韩国半导体咽喉？日本半导体材料实力几何(2022-12-30)
在事件中限制出口了三个韩国难以找到替代产品的材料：用于将电路图案转移到半导体晶片上的光刻胶；在芯片制造过程中用作蚀刻气体的氟化氢；用于智能手机显示屏的含氟聚酰亚胺。
韩国的一家芯片制造商的发言人表示：“这些材料，我们......
南大光电：ArF光刻胶产品再次通过客户认证(2021-06-01)
南大光电：ArF光刻胶产品再次通过客户认证;5月31日，南大光电发布公告，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称“宁波南大光电”）自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造......
南大光电：子公司引入大基金二期为战投(2021-07-28)
他们没有透露具体的客户名单。
今年5月份，南大光电发表公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，又在逻辑芯片制造企业55nm技术......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
抛光、清洗、检测、外延等；第二个阶段是芯片制造、封测，即从整块晶圆到单颗芯片的过程。
这两个阶段涉及多种设备，如单晶炉、氧化炉、PVD/CVD、光刻机、涂胶显影机、检测设备、清洗设备、干法刻蚀机、湿制......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
193nm光刻技术应用在远低于这个波长的场景。
有了RETs，光刻机在28nm的时候只需要一次的光刻曝光就可以实现了。但到了22nm/20nm，单次曝光有时候就不能给临界层提供足够的分辨率。芯片制造......
半导体材料涨价不停，大陆厂商机会来了？(2022-07-07)
与封装两大环节中，其中晶圆制造领域材料包括硅片、光刻胶、湿电子化学品、电子气体、CMP抛光材料、以及靶材等，封装材料包括封装基板、引线框架、树脂、键合丝、锡球、以及......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
的还包括光掩膜缺陷检测和涂覆显影等周边设备，以及光刻胶等关键材料。
光掩膜缺陷检测设备可检测光掩膜中存在的缺陷，如果承载原始电路的光掩膜存在缺陷，则芯片的缺陷率将相应增加。因此该设备也十分重要。日本Lasertec是这一领域的主要制造......
日本与韩国开始加强全球供应链合作(2023-05-10)
核心材料和零件不能从日本境外采购。
据韩国国际贸易协会称，90% 的晶圆涂层材料和 79% 的光刻胶仍从日本进口。多达 94% 的极紫外 (EUV) 光刻胶（半导体工艺中的关键材料）由日本生产。
日本于2019年......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
到其软件、制造工艺和系统中，在加速芯片制造速度的同时，也加快了对未来最新一代 NVIDIA Blackwell 架构 GPU 的支持。
NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示：“计算光刻技术是芯片制造......
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学(2023-03-24)
站台。
台积电首席执行官魏哲家表示：“cuLitho 团队通过将昂贵的操作转移到 GPU，在加速计算光刻方面取得了令人钦佩的进展。这项成果为TSMC在芯片制造中更大范围地部署反演光刻技术、深度学习等光刻......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
明亮的阳光下一样高效。
开发商没有具体说明是否有任何俄罗斯芯片制造商对其新安装感兴趣。对此，目前还没有消息称它们何时开始应用于实际生产。与此同时，发明人继续改进他们创造的光刻复合体。特别是，他们打算为其中的......
中国半导体进出口暴增的背后(2024-06-25)
元。
除了半导体设备，中国大陆对半导体材料的需求量也在明显增加。
以光刻胶为例，这种精密材料约占晶圆材料制造成本的 13%，按照配套使用的光刻机类型，半导体光刻胶可划分为 g/I 线胶、KrF 胶、ArF......
南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线，ASML光刻机已投入使用(2021-05-13)
产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作，验证进展顺利。从目前测试结果看，ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平，并实现了ArF光刻胶国产化和本土化，打破了被国外长期垄断的被动局面，测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片......
晶瑞电材业绩预增120%以上，多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
项目；同年5月，南大光电ArF光刻胶产品在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。
2、彤程新材
通过战略收购北京科华微电子和北旭电子，彤程新材实现了在集成电路光刻胶及平面显示光刻胶......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件(2022-11-29)
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。
光刻是芯片制造中......
TSMC 和 Synopsys 将 NVIDIA 开创性计算光刻平台投入生产(2024-03-19)
工艺。半导体领先企业推进 cuLitho 平台的发展计算光刻是半导体制造工艺中高度计算密集型的工作负载，每年需要消耗数百亿小时的 CPU 计算时间。光掩模是芯片生产中的关键步骤，一个典型的光......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市(2023-09-06)
了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。
尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有......
国产光刻胶上演“冰火两重天”(2021-08-24)
产品尚未实现规模化量产。
而据南大光电7月27日公告信息，宁波南大光电研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进，为ArF光刻胶......
相关企业
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;盐城经纬化工有限公司;;进出口电子材料包括热致变液晶,显示器液晶,光刻胶,清洗剂等
;引进（香港）发展有限公司;;本公司主要是代理日本三井有关边框胶、显示液、光刻胶、导电铜浆等，本公司在香港成立已经有20年的历史，主要市场是香港和广东地区
;成都光谱光电技术有限公司;;我公司是专业光学薄膜和光信息化学品生产商,成立于1994年,多年来一直致力于为客户提供高品质的光学薄膜元件和光信息化学品。拥有光学薄膜和光信息化学专业的高素质人才.主要从事紫外正型光刻胶
;深圳容大感光科技股份有限公司;;深圳市容大感光科技股份有限公司成立于1996年，是一家专业生产PCB油墨、LED白油、五金玻璃油墨、正性负性光刻胶、金盐等光电化学材料的专业制造商。公司
工艺技术研发、芯片制造、芯片封装测试，整合式地为终端客户提供高品质、高效率的产品。换句话说，CIDM模式就是一条完整的产业链，它像一个“牵引者”，又像一个“公司总部”，链接的都是各个产业环节国内外优秀的企业，公司
;南科集成电子有限公司;;南科集成电子有限公司主要从事 6 英寸 IC 芯片制造，芯片封装、测试和发光二极管（ LED ）的制造.主要产品:IC裸片,消费类IC,MOS管,LDO电源管理IC,LED.
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
锡球焊接炉、真空共晶炉、半导体可靠性测试焊炉、半导体及LED封装固晶焊接炉、元器件焊接炉等设备以及半导体、LED材料:光刻胶、显影液、银胶等。从事国际贸易、国内贸易，销售
;亿通电子有限公司赛格经营部;;本公司是一家专业的芯片制造商，主要生产和经营ＲＦＩＤ系列集成电路，电源管理IC,ID模组产品系列，LED芯片系列，以及音乐IC和单片机的开发与应用。公司秉承"顾客