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技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
国产遇良机！又一A股公司打入ASML光刻机供应链; 2月2日，湖南凯美特气体股份有限公司 (以下简称“凯美特气”)发布公告称，公司控股子公司岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司(以下简称“岳阳......
Q1 全球半导体设备厂商营收排行：AMAT 第一，光刻机巨头 ASML 第四;CINNO Research 最新报告显示，2022 年第一季度全球上市公司半导体设备业务营收排名 TOP10 营收......
370亿项目搬入光刻机;3月11日，广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目（以下简称“增芯项目”）迎来工厂最核心设备--光刻机搬入，标志......
年3月）3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。 众所周知，光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场，荷兰ASML一家独大，占据......
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。 NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。 ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息，近日，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域，入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日，北京科益虹源光电技术公司......
芯碁微装8.25亿元定增申请获上交所受理;近日，芯碁微装发布公告称，公司于2022年10月28 日收到上交所出具的《关于受理合肥芯碁微电子装备股份有限公司科创板上市公司发行证券申请的通知》（上证......
的波长，其代价非常昂贵。今天光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。 国内目前还没有安装ASML EUV机台......
审查，Cymer公司已将凯美特电子特种气体公司光刻气产品列入合格供应商名单。 资料显示，ASML子公司Cymer是世界领先的准分子激光源提供商，是深紫外技术的行业领导者，是ASML集团......
胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行ArF湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。 对于......
能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资......
荷兰的ASML在EUV相关设备市场上垄断了核心光刻机，但日本在DUV光刻设备中的实力也不容忽视。Gigaphoton是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业，在光刻设备的DUV光源......
国电子院官微进行了澄清。该项目不是国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS），而且项目位于北京怀柔雁栖湖畔。 HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产......
英伟达布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作的项目，旨在加快新一代芯片的设计和制造。 据介绍，计算光刻技术主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻......
将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以......
发展新概念”的计划，旨在开发工作波长为11.2纳米的新型光刻设备。这一创新技术与荷兰ASML公司的标准13.5纳米波长设备相比，预计将设备的分辨率提高20%，同时降低研发成本并简化制造流程。 俄罗斯还计划使用氙作为激光等离子光源......
中国半导体厂商再引入ASML光刻机！;近日，上海鼎泰匠芯科技有限公司（以下简称“鼎泰匠芯”）洁净室交付，首台ASML光刻机设备搬入。 鼎泰......
易制造。 据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可......
右将该设备用于3D NAND量产。   国内已有多家上市公司积极布局该技术，这些公司集中在消费电子行业，近期在互动易平台回复纳米压印相关业务的上市公司包括美迪凯、利和兴、水晶光电、汇创达、歌尔股份、苏大维格等。 ......
机构：Q3全球半导体设备厂商营收TOP10出炉！; 【导读】CINNO Research日前发布了2022年第三季度全球上市公司半导体设备制造商业务营收排名，其中......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？;5月26日，举办“2024年技术论坛台北站”的活动，CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的总部，以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;IT之家 9 月 6 日消息，宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式“NSR-2205iL1......
大幅增加。 所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯，和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。 按照的说法，除芯片精细化以外，封装......
；第二步是cut。 第一步就是光刻机在设备上刻下很小的线。Mitra还表示，现在的公司都在使用line/space，之后还会继续使用基于spacer的SADP和SAQP多重pattern技术。 这当......
TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式，属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式)，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
新阳实现营业收入约4.37亿元，同比增加45.78%；归属于上市公司股东的净利润约1.08亿元，同比增加316.82%；扣非后净利润4461.93万元，同比增长近八成，达76.42%。 参与中芯国际战略配售，贡献......
、LDI/DI的上市公司。   封面图片来源：拍信网......
集团 (TRUMPF) 成立于1923年，作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略，是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域，还是全球唯一一家能够供应极紫外（EUV）光刻机光源......
分辨率=k1*λ/NA”中，可以得知，NA越大，光刻机分辨率就越高，制程就越先进。但NA孔径并没有那样容易提升，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源，就能大幅提升光刻机......
于1923年，作为德国政府顾问单位参与发起了德国工业4.0 战略，是德国工业 4.0 首批创立成员。通快长期致力于激光和机床领域，还是全球唯一一家能够供应极紫外（EUV）光刻机光源的厂商。上世纪80年代......
晶澳科技荣登2024中国能源上市公司可持续发展(ESG)百强榜;近日，中国能源研究会和北京万家绿色信用评级有限公司对中国能源领域上市公司进行了可持续发展披露体系的评价，并发布《2024中国能源上市公司......
全球唯一量产EUV光刻机的厂商，包括台积电、三星、英特尔的先进制程都要依赖EUV光刻机来生产。现阶段，每台光刻机的单价将近1.5亿美元。不过，ASML的EUV光刻机目前出货的是使用光源波长在13.5nm......
研发最新进展也引起行业聚焦。 ASML股价创26年来最大跌幅 全球光刻机行业领导者ASML近期发布了其三季度财报和四季度财报指引，并下调了2025财年的业绩预期。由于国际形势和半导体产业需求的抑制，ASML在美国上市......
孔径（NA）是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。一般来说，金属间距缩小到30nm以下之后，也就是对应的工艺节点超越5nm，低数值孔径光刻机的分辨率就不够了，只能......
受益于半导体材料国产替代 晶瑞股份2020年净利增长145.72%;日前，晶瑞股份发布2020年度报告。报告显示，2020年，公司实现营业收入10.22亿元，较上年增长35.28%，归属于上市公司......
瑞红挂牌新三板后可实现资产证券化、股权多元化、运作规范化，有利于推动相关业务发展，提升苏州瑞红核心竞争力，实现上市公司整体效益最大化。 部分产品已占据国内主要市场份额 据官网介绍，苏州......
切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
英唐智控称收购先锋微案获批！后者资产包括日本光刻机;国际电子商情获悉，英唐智控近日在深交所互动易平台回复投资者提问时表示，其。消息利好让英唐智控24日股价小幅上涨。 被问及光刻机......
时每一分都要精准。 每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右，像德国蔡司的光学设备，美国Cymer的光源都是阿斯麦的上游供应商。阿斯麦创立于1984......
重回市场的策略之一，尼康表示将于2024年夏季推出采用成熟技术的光刻机新产品。使用了1990年代初实用化、被称为“i线”的老一代光源技术。着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点。市场观点人文，尼康......
是芯片制造过程中最复杂、最昂贵、最关键的环节。而计算光刻是连接芯片设计和制造的关键技术,在90nm及以下芯片制造中,不可或缺。 计算光刻并非新鲜事物,已经存在了30年之久。芯片沿着摩尔定律不断微缩,光刻机所用的光源......

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;厦门钨业;;上市公司
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;以限国际;;上市公司
怡合瑞丰科技发展有限公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
UT斯达康
;UT斯达康;;美国上市公司