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国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露，上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市，中信建投是其辅导机构。 根据官方信息，上海......
12月通过了客户的使用认证，这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。 同时，上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术，本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
人和日本人并不急于对中国采取与美国人相同的严厉措施，因为失去中国市场将对它们造成巨大打击。还有人认为，限制向中国提供半导体设备只会迫使中国加倍努力建立自己的生产链。中国即使现在没有完整的生产链，也与之非常接近了。在光刻机领域取得新突破......
次与中芯国际部分成熟制程工艺设备供应商也在同次获批。 据了解，中芯国际曾以1.5亿美元的价格向荷兰阿斯麦订购了一台最新型的EUV光刻机。一般来说，根据日内瓦协议，本应在2019年初交付的EUV光刻机最终由于美国方面阻扰，未成......
EUV光刻新突破，是不是真的？;这几天，关于光刻的迷惑性传言又来了。 事情围绕 EUV而起，传闻者将其包装的“有鼻子有眼”，大概意思就是有总比没有强。发酵愈深，传闻愈悬。 这也引发EEworld坛友......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。 不过，公告亦提示称，本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施。 三星德州厂延宕复工影响几何？ 据TrendForce......
华瑞微电子半导体IDM芯片首期项目已购置300台套进口光刻机、离子注入机、等离子刻蚀机等设备，该公司近日已进入试产阶段，主要生产6英寸晶圆。 据悉，华瑞微半导体IDM芯片一期项目的建成投产，创造了多个第一新突破......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于生产最新......
本次的密访动作似乎显示对这一明确的立场有了新的想法，有可能会修正其既定计划，提前导入High-NA EUV光刻机进行试验和学习。台积电何时使用ASML的最新技术将取决于何时最具成本效益，以及技术成熟度的平衡点。 为什么需要High......
将在2025年量产。预计到2021年，EUV全年销售额将达到55亿欧元。 DUV突破：预订量创历史新高 ASML向《科创板日报》记者透露，2020年DUV（深紫外光）光刻机......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机获重大突破......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
量存储芯片等在短期将无法扩产，中长期可能将不得不转用DUV干法光刻机，从而芯片的制造成本上升，导致市场竞争力下降。 不过从最新消息来看，主要限制对华出口的还是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，可能......
设备投资降低至仅有EUV设备的40%。 佳能首席执行官三井藤夫在最新的采访中表示，这项新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路。 “价格将比ASML的EUV光刻机......
截图 资料显示，NXE:3800E是ASML EXE系列0.33 (Low) NA EUV光刻机的最新型号，能满......
技术正不断向10nm级别靠近，甚至未来有望突破10nm以下，这一过程中，EUV光刻技术也将在未来发挥更加重要的作用。随着美光1γ DRAM开启EUV时代，三星等存储大厂继续深耕EUV，未来EUV光刻机有望在DRAM生产......
只有这样才能得到所需要的曝光图案。 当下，台积电和EDA供应商新思正在将全新的NVIDIA cuLitho计算光刻技术软件库整合到最新一代NVIDIA Hopper架构GPU的软件、制造工艺和系统中。光刻机......
大地推动我国新一代集成化激光技术的发展，未来有望在光刻机等微纳加工设备上带来激光技术的新突破！ 目前，该研究团队已与国内激光器公司展开合作，并成功研发了新一代全光纤激光器；同时也与用户单位合作，推进......
会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻......
年时间里，ASML的EUV光刻机分别出货18台、26台、31台，并且在2020年实现了EUV光刻机总货量突破100台的成绩。 从去年ASML的财报看，EUV光刻机贡献了43%的营收，成为ASML的第......
，Twinscan NXE：3800E光刻机还具备出色的晶圆对准精度。其机器覆盖层小于1.1nm，为制造更小尺寸的芯片提供了可能。这一技术的突破，将有助于推动芯片制造业向更小、更快、更智......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破......
加大在光芯片领域的研发和投入，这也使得ASML光刻机不再是必需品。如今的芯片市场上以电子芯片为主，这些芯片以一个或多个电压来产生信号，从而组成千变万化的数字、模拟电路。但是随着制程不断突破，5nm、4nm......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？; 在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
内外芯片制造企业提供一站式解决方案。 作为集成电路制造前道工序中的关键设备，离子注入机的研发难度仅次于光刻机。由于离子注入机对洁净度要求很高。在芯片制造过程中，通常有70多道离子注入工序，因此，这种......
制备更轻薄的光学晶体成为各国科学家竞相研发的焦点。 “转角菱方氮化硼”的研发将极大地推动我国新一代集成化激光技术的发展，未来有望在光刻机等微纳加工设备上带来激光技术的新突破。 目前，研究团队已与国内激光器公司合作，并成......
这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机设备，上海新阳在公告中指出，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元;6月6日消息，荷兰制造商今年将向交付其最新款。据公司发言人莫尼克·莫尔斯（Monique Mols）透露，首席财务官罗杰·达森（Roger......
点像台积电的谈判游戏，也许是在与ASML争夺更好的条件。 之前，ASML对外展示了最新EUV光刻机内部画面，这也引来了不少网友的围观，有人甚至表示，这不......
东进世美肯计划研发新一代极紫外光刻胶;在三星电子尝试重构EUV光刻胶供应链的推动下，东进世美肯所研发的极紫外光刻胶，已在去年年底被用于他们的一条量产工艺线。而相关媒体最新的报道显示，所研发的极紫外光刻......
也需要为客户培训更多的维护及维修技术人员。 外媒最新的报道就显示，阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心，已经开通。 新开通的极紫外光刻机培训中心，在首尔以南约42公里的龙仁市，占地1445平方米，设有洁净室、办公空间等，旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。 7......
EUV光刻机的突破，意外的是拥有顶尖工艺的三星、台积电并没有订购任何一台，反倒是英特尔订购了6台，根据市场的消息目前已经完成了第二台的出货。 别看只有6台的数量，但这一台售价可是来到了3.8亿美元，其中......
GAA制程等。在2nm制程上，台积电、三星、英特尔、Rapidus都已接洽ASML，其目的正是为了能使2nm制程量产的关键设备，即ASML手中最新的High-NA EUV光刻机。 ASML是一家全球最大的光刻机......
双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。 多种 EUV 光刻机共用一个基础平台，在降低开发成本的同时，也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。 根据此前报道，ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！; 众所周知，作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。 先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机......
了纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
推测他们所使用的设备应该就是ASML最新一代的0.33NA EUV。光刻机设备与芯片制程工艺相匹配，目前EUV光刻机暂时能满足量产3nm的需要，但是3nm以下工艺却难以胜任。这也是ASML加速研发新的光刻机的原因之一。 据近......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
半导体行业分析师张宏周二对《环球时报》表示，上海微电子装备集团（以下简称，上海微电子）一直致力于研发 浸没式光刻机，预计首台国产 SSA/800-10W 光刻机将于 2023 年底交付。 这将是该行业的重大突破......
而造成成本负担便是原因之一。 此外，台积电也曾多次表示下一代EUV设备价格太贵。据悉，台积电高级副总裁张晓强今年5月在技术研讨会上评论ASML最新高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)时指出，“这个......
社则报道称，李在镕不仅有可能访问总部设在荷兰埃因霍温的世界级半导体设备制造商阿斯麦（ASML）公司，讨论极紫外光线（EUV）光刻机供货问题。外界也解读，三星此举或许是为了抢购ASML的EUV设备以及下一代EUV......
生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机; 由于内存价格暴跌，、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资，降低了产能，然而作为内存一哥不为所动，不仅不打算减产，甚至......
光刻机出货的影响也相对是有限的。 更何况，国内厂商在先进光刻机方面取得了诸多突破，目前已经拿下了国内八成光刻机市场，以及全球四成的封装光刻机市场。 由此可以看出，ASML不放......
%，跃升为全球第三。 据公众号“ASML阿斯麦光刻”介绍，这是一次重大突破，ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。ASML的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产，为其......
:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di，此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号光刻机，为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式光刻机。 2023年3月......
在不使用EUV光刻机的情况下，实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。 封面图片来源：拍信网......
了全球中高端的大部分市场份额。EUV光刻机虽然限制出货给中企，但DUV光刻机基本来自ASML。 相比之下上海微电子差距还很大，ASML似乎也不用担心。然而，上海微电子一直在加速进行研发，先进DUV光刻机也正在攻坚，一旦实现突破......

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