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光刻机巨头ASML二季度净销售额超33亿欧元，毛利率48.2%(2020-07-15)
光刻机巨头ASML二季度净销售额超33亿欧元，毛利率48.2%;荷兰埃因霍温时间2020年7月15日，ASML发布2020年第二季度财报。财报显示，第二季度净销售额为33亿欧元，净利润为8亿欧......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺(2023-06-19)
则是不可少的设备。
伴随技术提升的还有售价，由于更加复杂、精密，NA=0.55的EUV光刻机价格大幅上涨，具体多少不确定，此前消息称不低于4亿美元，人民币接近30亿元了，是现在的2-3倍。
这还......
10亿一台仍供不应求，光刻机为什么这么值钱？(2024-05-05 16:19:28)
10亿一台仍供不应求！目前，全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机，台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂，这些技术掌握在由42个国......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
设备的作用是将在掩膜版上绘制的电路图案通过投影透镜缩小，再将图案曝光在晶圆上。晶圆在晶圆台上依次移动，电路图案将在一个晶圆上重复曝光。因为电路是由从微米到纳米※8级别的超精细图案经过多层堆叠制成，所以半导体光刻机也需具备超高精密......
ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元(2022-05-23)
年投入使用，2026年到2030年主力出货。
消息显示，新一代High-NA EUV光刻机机型约双层巴士大小，重量超过200吨。该设备精密度更高、所使用的零部件更多，可用于生产下一代芯片，芯片......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机(2022-12-08)
”。
据了解，在半导体芯片的制造工艺中，光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。
保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16)
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产(2022-12-16 14:34)
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国电子院官微进行了澄清。该项目不是国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS），而且项目位于北京怀柔雁栖湖畔。
HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
威力科创TokyoElectron）宣布，将于镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产，以维持原本2023年问世的期程。另外，除了东京电子之外，比利时微电子研究中心（IMEC）也是......
南京大学—江苏富乐德半导体洗净校企联合研究中心揭牌(2024-05-30)
心由江苏富乐德石英科技有限公司和南京大学合作共建，双方将围绕“半导体非金属零部件洗净”领域，基于研究团队在化学、材料等技术方向的研发积累，重点聚焦于半导体、太阳能、光刻机相关产业方向展开深入研究，致力于关键技术研发、科技......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
技术的发展局限于在光学衍射极限范围内不断缩短所用光源的波长，其代价非常昂贵。今天光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。
国内目前还没有安装ASML EUV机台......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
国际社会重点关注
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。
在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！(2024-07-04)
重要零部件专有技术。在光刻机关键子系统如全波段近、中、深紫外光源系统和折反射镜组、精密工件台等方面，ABM Inc.均实现了自研自制，并拥有独立的知识产权。
产品线：ABM Inc.的光刻机......
慕尼黑华南激光展参观预登记倒计时(2024-09-25)
/钣金、模具/工具制造等，为光电行业提供包括精密光学及检测、先进激光材料、光源及先进激光器件、激光智能制造、激光加工控制及配套系统、激光加工服务的一站式采购及交流平台。
本届......
引进光刻机等设备，美迪凯拟建年产20亿颗(件、套)半导体器件项目(2021-08-30)
引进光刻机等设备，美迪凯拟建年产20亿颗(件、套)半导体器件项目;近日，杭州美迪凯光电科技股份有限公司（以下简称“美迪凯”）发布对外投资公告称，拟投资年产20亿颗(件、套)半导......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
是半导体制造的后道工艺〉
在半导体芯片的制造工艺中，半导体光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。另一方面，保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。另一方面，保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。
〈关于半导体光刻机解说的网站〉
我们......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。
像佳......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
持股4.76%，哈勃科技投资科益虹源(2021-06-04)
，由上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台，浙江启尔机电提供浸没系统。
数据显示，哈勃......
信越化学停止供货，光刻胶再现缺货潮(2021-06-02)
剂等不同原料混合而成，难度似乎不高。但正如步日欣所说，同其他专用化学品一样，光刻胶也存在品种多、用量小、品质要求高的特点，核心壁垒在于原材料的纯度、配方的精密度以及客户的定制化等方面。
除了材料本身之外，光刻......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）(2020-08-18)
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识
1.基本原理
前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。
当地......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 显示的无掩膜光刻技术，于10月15日正式在国际顶尖权威学术期刊 Nature Photonics 上发表。思坦......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics;由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA 仅有两台，如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址：当地时间6月3日......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。
对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。
从公式“光刻机......
云计算、AI对算力需求的快速增长成驱动数据中心增长的第一要素(2022-12-23)
导体芯片的制造工艺中，光刻机负责 " 曝光 "
电路图案。在曝光的一系列工艺中，在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响，并在......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
约州立大学奥尔巴尼纳米技术综合体兴建下一代High-NA（高数值孔径）EUV半导体研发中心，并且还将利用州政府的资金购买ASML的High-NA EUV光刻机，以支持世界上最复杂、最强大的半导体研发。
据悉，“EUV加速......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
-NA光刻机？
从早期的深紫外光刻机（DUV）起步，到后来的极紫外光刻机（EUV）以其独特的极紫外光源和更短的波长，再到如今的高数值孔径光刻机（High-NA）正式登上舞台，为制造更小、更精密......
芯碁微装设备成功开拓日本载板市场(2022-11-29)
为芯碁微装提供了广阔的市场拓展空间。
图片来源：芯基微装
芯碁微装的MAS6直写光刻机设备是专门面向IC载板（FC-BGA基板、FC-CSP基板）领域量产L/S：10/10μm节点的客户需求进行开发。采用......
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂(2024-04-18)
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂;4月16日，由广东微技术工业研究院（简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻--3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机......
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世，享年 98 岁(2024-06-12)
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世，享年 98 岁;IT之家 6 月 12 日消息，光刻机巨头 公司 6 月 11 日在社交媒体发文，悼念 创始人之一（Wim Troost）离世......
台积电已启动2nm芯片试产，英伟达助力下能否拿下这场“争战”首胜？(2023-06-08)
膜板，在CPU上运行时，处理单个掩膜板需要两周时间，而在GPU上运行cuLitho只需8小时。
当时黄仁勋就表示，全球最大晶圆厂台积电、全球光刻机霸主ASML、全球......
IBM、美光等将与纽约共建100亿美元芯片园区，引进EUV光刻机(2023-12-12)
IBM、美光等将与纽约共建100亿美元芯片园区，引进EUV光刻机;12月11日，美国纽约州州长凯西·霍楚尔宣布，将联合IBM、美光等公司投资100亿美元，在纽......
2022国产芯片原厂图鉴(2022-12-13)
公众对半导体产业链有很多认知误区：
误区一，有了光刻机就能制造芯片？因众所周知的原因，我们拥有强大的芯片设计能力，但却无法将其实现并量化。如果在以前，全球分工明确的环境下，这些都不是问题。但在当前大冲突的背景下，我们......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。
由于光刻机......
产业格局持续生变，半导体供应链进一步分化(2022-11-18)
7nm，这是汽车芯片的主流节点。
具体来看，ASML的浸没式光刻系统ATWINSCAN NXT:2000i DUV(双工作台深紫外光刻机)，它的特殊复合材料来自日本，精密加工技术、镜头......
中芯国际间接助力，上海新阳上半年净利同比大增316.82%(2021-08-20)
胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻......
东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备(2021-06-11)
东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备;根据日经中文网的消息，东京电子6月8日发布消息称，将向ASML和IMEC联合运营的实验室提供新一代设备，该设备将和ASML生产的EUV光刻......
ASML垄断EUV机市场，市值有望追上台积电、Nvidia(2021-10-13)
ASML垄断EUV机市场，市值有望追上台积电、Nvidia;ASML为全球最大半导体制程设备商，是唯一一家能够生产极紫外光（EUV）光刻机的厂商，在半导体产业占有关键地位。
专家认为，随着......
半导体设备，烽烟四起(2024-11-29)
%、24%、18%。
从具体分类上看，光刻机是半导体芯片制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，是整个制造流程工艺先进程度的重要指标。目前市场最为广泛应用的是浸入式光刻机和EUV光刻机......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
的最新款EUV曝光机，以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系，获得ASML的最新一代光刻机的相关技术，并填补上述差距。
但是，另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！(2024-04-07)
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌
据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC
的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。
该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
有一定难度；二是寻找高折射率的光学主镜头材料。目前193nm ArF浸入式光刻机主镜头折射率为1.56，IBM与JSR联合推出Nemo系统主镜头采用高密度石英材料，其折射率为1.6。折射率为2.1的镥......
聚光汇智 解析2023中国光电子博览会的创新维度(2023-06-19 14:10)
年举办以来，已经在光电子产业品牌展会的版图上，走过了向光而行的14载。本次展会以“光领制造·智创未来”为主题，从7月26-28日，围绕光通信、激光智能制造、精密光学等前沿热点领域展开，共同......
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融13708029604,总经理:刘丹毅13908187709 公司专业从事系列精密光刻机、氢气炉、真空炉、超高真空排气台、真空干燥柜.真空镀膜机、真空泵及真空机组的设计、制造和销售。驻杭
;江苏融合精密光机电有限公司;;江苏融合精密光机有限公司座落在风景秀丽，经济发达的江南鱼米之乡-江苏江阴，毗临太湖，有长江港口、空运机场、高速公路，号称
;嘉合精密冲压厂;;嘉合精密冲压厂是usb连接器、USB公头、USB插头、手机USB连接器等产品专业生产加工的私营独资企业,公司总部设在深圳市宝安区沙井镇,嘉合精密冲压厂拥有完整、科学
安川伺服电机及驱动、日本安川注塑机电脑控制、冷水机、自动化元器件，自动化电动直线滑台、十字双轨滑台、电磁阀、气动元件、尼康光刻机精密开关电源及风扇、花岗石平台、隔振光学平台、美国进口高压阀、东方
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;苏州思合精密塑胶科技有限公司;;
;深圳朱光波机械科技有限公司;;深圳朱光波机械科技有限公司是深圳市光波薄膜有限公司的全资子公司，致力于超精密光学微制程的研究与应用。公司自主研发并拥有自主知识产权的超精密单点金刚石微刻机床，精度
;嘉兴超远精密光学仪器有限公司;;嘉兴超远精密光学仪器有限公司是一家集生产加工、经销批发的中外合资经营企业，望远镜、天文望远镜，玩具望远镜，直筒望远镜，保罗望远镜，放大镜，指南针是嘉兴超远精密光
切割硅片和陶瓷片)、YAG激光焊接机、厚薄膜电路激光精密调阻机、CO2激光雕刻机、CO2激光切割机和国内领先的YAG激光拉丝模精密打孔机(用于钻石拉丝模、聚晶拉丝模和硬质合金拉丝模打孔)。由于公司的产品质量、售后