IBM、美光等将与纽约共建100亿美元芯片园区,引进EUV光刻机

发布时间:2023-12-12  

12月11日,美国纽约州州长凯西·霍楚尔宣布,将联合IBM、美光等公司投资100亿美元,在纽约州立大学奥尔巴尼分校建设芯片产业园区,并且还将利用州政府的资金购买ASML的High-NA(高数值孔径)EUV光刻机。

据悉,负责监督奥尔巴尼纳米科技园的非营利性机构“纽约制造”(NY Creates)将协调该研究设施的建设。霍楚尔办公室称,一旦设备安装完毕,该项目及其合作伙伴将在那里开始下一代芯片的制造工作。

这一100亿美元的芯片园区项目,参与者包括IBM、美光、应用材料、东京电子等。

根据美国2022年确定的《芯片法案》,这一项目将有助于纽约争取被确定为美国的芯片研究中心。《芯片法案》此前宣布,将为美国国家半导体技术中心(NSTC)拨款110亿美元,以促进芯片研发。

纽约州将投资10亿美元购买ASML的High-NA EUV光刻机,预计2025年可以投产;此外还将建造一座占地5万平方英尺的芯片制造大楼,建设工程将耗时两年左右。

据悉,纽约州是多家大型芯片工厂的所在地,其中包括格芯、安森美、Wolfspeed等。美光公司此前也计划向锡拉丘兹附近的一家大型工厂投资高达1000亿美元,希望通过《芯片法案》获得资金。

封面图片来源:拍信网

文章来源于:全球半导体观察    原文链接
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