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华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30)
华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。
光刻成像原理......
数码相机成像原理(2024-06-27)
数码相机成像原理;以下内容中，小编将对数码相机的相关内容进行着重介绍和阐述，希望本文能帮您增进对数码相机的了解，和小编一起来看看吧。
一、数码相机成像原理
数码相机，英文全称：Digital......
国内首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 15:31)
国内首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。
光刻成像原理......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？(2023-04-06)
所用的光源不够“细致”,在光刻过程中光线发生衍射效应,设计的掩模版经光刻机成像会产生一些模糊和失真的现象,导致得到的图形与设计版图存在很大偏差。而计算光刻......
ASML新EUV光刻机惊人天价，年产能20台左右(2022-11-28)
亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价(1.5-2.5亿美元)。
尽管如此昂贵，但Intel此前表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了。高NA
EUV光刻机......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。
目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三(2021-12-09)
成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三;成功导入ASML光刻机，英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三
12月8日，英诺赛科（珠海）科技有限公司为ASML光刻机成......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
、良率和稳定性接近世界先进水平。国家主导的项目也取得了重大进展，自主研制的首台EUV光刻机成功通过验收。这一系列的突破为我国光刻机行业的发展提供了有力支撑。
ASML公司对华出口限制的影响
ASML公司......
格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机(2022-03-28)
日开始搬入安装主设备。3月24日，格科半导体ASML先进ArF光刻机成功搬入，其也是整套生产线中的最关键设备。
据了解，格科半导体成立于2020年3月，注册资本30亿人民币，设立......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表彰他们在超分辨率光学成像......
28nm芯片新动向，扩产之后，对整个市场的影响会有多大？(2022-11-28)
是用于支付长交期设备提前下单的预付款。
在全球半导体产业景气下滑的当口逆流而上，中芯国际此举显得格外抢眼。
而在中芯国际发展强劲的同时，拥有DUV光刻机成熟技术的ASML正在成为中国半导体产业发展的新助攻。
ASML是一......
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程(2024-11-05)
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程;日经亚洲的报导，全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。
像佳......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-13)
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品
不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造
还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
半导体公开了一项关键的技术专利，名为“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”，值得一提的是，该技术可以被应用于EUV光刻领域，并且，可以以此来提升光刻机的分辨率以及对比度。
目前来看，国产EUV光刻机......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
”到晶圆上，是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本的30%以上。以ASML顶级的EUV光刻机为例，它需要功率极高又稳定的光源，这就对成像......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作的项目，旨在加快新一代芯片的设计和制造。
据介绍，计算光刻技术主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻成像......
芯碁微装8.25亿元定增申请获上交所受理(2022-11-04)
微装首台WLP2000晶圆级封装直写光刻机成功发运昆山龙头封测工厂。同月，另一台WLP2000直写光刻机发往成都Micro-LED前沿研制单位交付。
芯碁微装表示，本次发行后，公司将利用部分募集资金投资建设直写光刻......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
东芯半导体/力积电上市；英诺赛科导入ASML光刻机(2021-12-13)
电开始向逻辑晶圆代工领域转型，终于在历经9年资本重组后重新上市...详情请点击
英诺赛科导入ASML光刻机
12月8日，英诺赛科为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。事实上，早在......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
国际社会重点关注
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。
在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品(2023-03-14 10:11)
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机......
芯碁微装设备成功开拓日本载板市场(2022-11-29)
为芯碁微装提供了广阔的市场拓展空间。
图片来源：芯基微装
芯碁微装的MAS6直写光刻机设备是专门面向IC载板（FC-BGA基板、FC-CSP基板）领域量产L/S：10/10μm节点的客户需求进行开发。采用......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
使制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML
的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接......
中科院：上海光机所计算光刻技术研究取得进展(2021-06-11)
结果表明该技术具有较高的修正效率。
光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一，光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应，降低了光刻成像质量。在光刻机......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。
〈关于半导体光刻机解说的网站〉
我们发布了“佳能光刻机网站”，通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外，我们......
红外热成像仪全天候工作,真实物超所值(2023-06-25)
以探测到运动或高温表面。而且不受环境光和照明光的限制。通常，长焦红外热像仪可以观察几公里或更远的物体。
3.全天候工作能力和较强的抗光干扰能力
红外热像仪的成像原理是不依靠照明光和环境光，而是......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...;
近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
发布了“光刻机网站”，通过图片和视频等易于理解的方式说明“光刻机”的原理和性能。此外，我们还面向青少年专门开设了一个页面，帮助他们理解曝光的原理。
〈半导体光刻机的市场动向〉
近年来，随着......
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-29)
光谷传来好消息，宇微光学成功研发计算光刻EDA软件;
“OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产设备的工作原理......
国产光刻机巨头，更新上市进展？(2023-11-13)
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？
并未......
mr头显设备有哪些功能 MR成像原理是什么(2024-06-07)
mr头显设备有哪些功能 MR成像原理是什么; MR头显的诞生可以追溯到对虚拟现实（VR）和增强现实（AR）技术的发展和融合。
随着VR和AR技术的发展，有厂商开始将两者融合到一起，推出了MR......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA EUV光刻机仅有两台，如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。
当地......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
，CNews称，莫斯科电子技术学院 (MIET）承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。
研发光刻机计划达到EUV级别，但技术原理......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息，目前，ASML High NA 仅有两台，如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求，为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址：当地时间6月3日......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
这种重构掩模图形的技术。
资料显示，计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态。
光刻机龙头ASML在其公众号上介绍，“计算光刻将算法模型与光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
RF接口电路静电ESD保护方案设计(2024-04-07)
RF接口电路静电ESD保护方案设计;RF接口，无线电射频接口，是目前家庭有线电视采用的接口模式。RF天线接口的成像原理是将视频信号和音频信号相混合编码后输出，在显示设备内部进行一系列分离/解码的过程输出成像......
ASML第三季度净销售额75亿欧元，预计年全年约280亿欧元(2024-10-16)
元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。
ASML预计2024年第四季度的净销售额在88亿至92亿欧元之间，毛利率介于49......
红外热成像仪的原理及组成(2023-03-07)
红外热成像仪的原理及组成;1、红外热成像原理
研究发现，自然界中一切物体的温度都会高于绝对零度（零下273.15℃），由于物体内部分子存在热运动现象，不断地向周围空间释放红外光（波）。红外光，又称......
KLA 推出全面的IC载板产品组合，开启先进封装新时代(2024-11-01 10:27)
在stepper光刻机领域打开了全新类别。KLA正推出新的 Serena™直接成像平台，是一款灵活多用的数字解决方案，用于大尺寸、多层数有机载板进行高品质和更细致的线路成像，从而......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件(2022-11-29)
是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学......
佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 制造等(2023-03-13)
佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 制造等;IT之家 3 月 13 日消息，于今日发售了面向前道工序的半导体新产品 —— i 线步进式“FPA-5550iX......
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
细，显然量子芯片才是未来的方向。
其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了(2023-01-09)
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
解析HUD显示的技术原理(2024-08-26)
、DLP、LBS、LCOS等多种技术）。以下简单介绍一下这几种技术的PGU成像原理。
TFT-LCD
基于TFT-LCD的图像生成单元，其原理简单说，就是LCD屏幕在背光照射下，通过......
相关企业
;深圳东荣显示有限公司;;应用：电力、医院 、检疫、冶金、汽车、建筑、LED、产品设计、工业控制系统等。 功能：利用红外热成像原理，无需接触物体，精确检测物体表面的温度。 目的：故障分析、及时
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
;东莞市双驰机电设备有限公司;;有机玻璃激光切割机、有机玻璃雕刻切割机、激光商标切割机、激光切割雕刻机、金属激光打标机、非金属激光打标雕刻机、激光雕刻切割机、双头激光高速切割机、激光服装成像机
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
头，钢字头冲字机，激光金属打标机，激光刻字笔，激光刻字机，简便式标签打印机，金属标牌雕刻机，金属标牌刻字机，金属表面印字，刻字，气动标记打印机，气动标记机，气动打号机，气动金属打号机，上海 打标机，手持
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
、广告雕刻机。 并提供激光加工服务。 如：布料花边冲孔，布料激光裁剪，有机玻璃、压克力制品加工，导光板切割，皮革打孔。激光刻字，金属件刻字，塑胶件激光打标，激光焊接加工。