资讯
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用(2021-01-08)
升级在技术上有很大的跨度，主要体现在颗粒污染物的控制方面，例如烘烤精 度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精 细化控制，以及设备整体颗粒污染物控制等。
据悉，当前，全球......
盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付(2022-11-18)
盛美上海进军涂胶/显影Track市场 首台ArF型号将于Q4交付;11月18日，盛美上海宣布推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军涂胶显影Track市场，这也是该公司提升其在清洗、涂胶和显影......
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化(2021-03-11)
又一重大项目签约临港，加速涂胶显影设备国产化;加速12英寸涂胶显影设备量产进度
据《国际电子商情》了解，众鸿是在半导体集成电路设备制造领域涉猎设备再制造、软硬件优化产能提升、核心配件维修等服务，其核心产品是专用光阻涂胶显影......
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机(2022-12-29)
盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH出机;近日，盛美上海宣布首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影......
芯源微拟定增募资10亿元 用于半导体设备扩产升级(2021-06-15)
用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。
高端晶圆处理设备产业化项目（二期）位于辽宁省沈阳市浑南区。本项目预 计建设期为30个月......
众鸿半导体项目签约上海临港产业区(2021-03-11)
众鸿半导体项目签约上海临港产业区;上海临港产业区消息显示，3月10日，众鸿半导体项目签约仪式在临港产业区举办，该项目正式签约入驻临港产业区。
众鸿半导体项目主要进行光刻工艺的主设备——涂胶显影......
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科(2022-06-14)
沈阳芯源微KrF涂胶显影机台入驻士兰集科;6月11日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司（以下简称“芯源微”）宣布，公司12寸KrF涂胶显影设备已于10日入驻厦门士兰集科。搬入仪式完成后，公司......
这家A股厂商实现重要突破，国内半导体设备领域佳音频传(2023-05-22)
科技新增订单42.19亿元，同比增长30.62%，其12英寸炉管设备正在研发制造，即将进入客户验证阶段；8英寸涂胶显影设备已交付客户验证，12英寸涂胶显影设备尚处在专利检索及技术评估阶段。
盛美......
盛美上海：预计2023年全年营业收入36.5亿元-42.5亿元(2023-01-04)
了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在未来几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利......
多家A股厂商订单量大增，国产半导体设备进入成长期(2023-04-12)
半导体制程设备新增订单18.00亿元，同比增长60.71%。
据介绍，2022年，至纯科技研发拓展炉管和涂胶显影设备。其8英寸炉管设备已有数台订单，12英寸炉管设备正在研发制造，即将......
总投资10亿元 思普尔科技项目落户扬州高新区(2021-03-24)
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。
图片来源：扬州高新区
项目分三期实施，一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线，主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
芯源微企业发展有限公司成立于2021年，是芯源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源......
芯源微广州子公司光刻胶泵及高纯供液系统产业化项目开工(2024-04-26)
源微的全资子公司。上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，
2022年，上海芯源微承担建设的“芯源微临港研发及产业化”项目主体工程......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影工......
北方华创、拓荆科技、芯源微中标上海积塔项目， 国内半导体设备市场持续升温(2022-05-12)
氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备；芯源微中标1台聚合物涂胶显影机；阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。
官方信息显示，上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港，2018年8月开......
7亿，工业杀菌剂龙头再次加码半导体(2024-10-17)
化学是一家来自大连的化工企业，主要从事异噻唑啉酮类工业杀菌剂的生产、研发和销售。2017年上市。芯慧联则是一家成立于2019年的半导体设备公司，主要产品包括涂胶显影机、光刻机、湿法清洗设备、半导体产线用自动化设备等。
百傲......
总投资20亿元,嘉兴斯达项目即将投产(2024-03-07)
研发及产业化项目建设地点位于嘉兴南湖区，总投资20亿元，总用地面积279亩，新增建筑面积20.6万平方米，新建生产厂房、动力楼、危化仓库等建构筑物，购置包括光刻机、涂胶显影机等工艺设备。建设单位为嘉兴斯达微电子有限公司，建设......
半导体设备高光时刻来临，景气度有望拉满第三年(2022-10-08)
旬推出了新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备，业界对此较为关注。
而在涂胶显影设备上，芯源微是国内主要供应商，该公司前道涂胶显影设备在28nm及以......
盛美半导体设备研发与制造中心试生产(2024-08-19)
、制造、销售于一体，提供高端半导体设备，主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。
封面图片来源：拍信网......
工业大盘点的风吹到了半导体设备(2024-02-06)
理、薄膜沉积上近几年国产化突破明显，而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备上，仍较为薄弱。值得注意的是，上述提及的企业正是在经历了2020至2022年的两年设备短缺潮后，接单能力有了明显提高，业绩......
半导体下游行业设备需求增加，盛美上海Q1净利润同比增长2937.19%(2023-04-28)
户拓展、新市场开发取得显著成效、新产品得到客户认可，订单量持续增长，公司营收保持高增长。
盛美上海主要从事单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影......
5家碳化硅相关厂商公布最新业绩(2024-10-28)
%。
芯源微目前已形成了前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块，产品已覆盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个领域。
其中，芯源......
富创精密成功登上科创板 募资总额为36.58亿元(2022-10-11)
全球为数不多的可以量产应用于7nm工艺制程半导体设备的精密零部件制造商。
产品方面，富创精密主要产品应用于半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节，部分......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。
除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
盛美上海进军PECVD市场，首台PECVD设备将于几周内交付(2022-12-13)
着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加，因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。”王坚预测，这次推出的PECVD设备，及上个月发布的前道涂胶显影......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测(2023-04-12)
建立了完备的光刻胶研发与应用测试平台，其中主要测试设备包括光刻机、涂胶显影一体机、扫描电子显微镜、膜厚仪、台阶仪、液体颗粒仪、痕量金属杂质测试仪器、色谱仪、紫外-可见分光仪、水分仪、粘度计、固含测试仪器等。
容大......
首条8英寸GaN中试线启动，香港三代半产业“跑步”前进(2024-07-31)
于第三代半导体。这项计划包括建立一条试验生产线，配备I线光刻设备、光刻胶显影工具、高温离子注入机、高温退火炉和薄膜工具等必要工具。
据香港特区政府创新科技及工业局局长孙东介绍，特区......
75亿，年产48万片SiC！芯粤能碳化硅项目通过审查(2023-01-17)
调度厂房、研发厂房、综合动力站、综合仓库、硅烷站、化学品库、废水处理站、危险品库、大宗气站等，主要设备包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、烘箱、高温氧化炉管、高温激活炉管、清洗机、冷水机组、纯水制备系统、燃气......
国产半导体设备，又“爆单”(2024-09-05)
为主导。近年来，上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高，虽在光刻机、量测检测设备、离子注入机和涂胶显影......
客户涵盖ASML/中微公司等厂商，富创精密科创板IPO首发过会(2022-05-06)
精密专注于金属材料零部件精密制造技术，掌握了可满足严苛标准的精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接、组装、检测等多种制造工艺，主要产品应用于半导体设备领域，覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影......
南大光电光刻胶项目延期(2022-03-31)
液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
打造新兴产业“联合舰队”，沈阳集成电路装备产业驶入快车道(2022-05-24)
产业的三大重点地区之一，在近20年来，沈阳推动产业自主发展，集聚和培育出了一批优势骨干企业，在薄膜沉积、涂胶显影、湿法刻蚀、清洗机等整机装备和罗茨干泵、真空......
盛美半导体：收到美国客户和研发中心的晶圆级封装设备订单(2024-09-05)
力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。
值得一提的是，此前8月16日，盛美上海于临港举行“盛美半导体设备研发与制造中心试生产仪式” 。该中心共有5个单体，包含两座研发楼、两座......
“一枝独秀”，国内半导体设备领域佳音频传(2023-04-23)
储备的产品目前正处于研发、认证以及拓展的过程中。
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芯米半导体：首台幻影12英寸光刻工艺涂胶显影设备XM300交付客户
4月8日，芯米（厦门）半导体设备有限公司（以下简称“芯米半导体”）首台......
三星旗下Semes成功开发出一种ArF-i光刻涂胶/显影设备(2024-06-26)
三星旗下Semes成功开发出一种ArF-i光刻涂胶/显影设备;6月24日，三星电子旗下的韩国半导体和显示器制造设备公司表示，第一台名为“Omega Prime”的设备已于去年供货，Semes正在......
半导体不景气？不慌，先拿下那台设备(2022-07-11)
名分别为湿法清洗设备（81台）、刻蚀设备（70台）、薄膜沉积设备（47台）、炉管（45台）、涂胶显影设备（35台）。中标较多的前五名大陆厂商为北方华创、中微公司、拓荆科技、芯源微、盛美上海。
综合......
今日起，日本半导体出口管制正式生效！(2023-07-24)
将对象限定在尖端半导体相关领域，因此“影响有限”。
据了解，日本此次实施的“禁令”主要涉及六大类23种高性能半导体制造设备出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影......
1.8亿！四家国产半导体设备商成立合资公司(2024-01-04)
产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。目前公司研发的SAPS、TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术，可应用于45nm及以......
斯达半导揭晓募资35亿元定增结果！(2021-11-16)
光刻机、涂胶显影机、铝刻蚀机、高温注入机等设备，开展SiC芯片的研发和产业化。项目达产后，预计将形成年产6万片6英寸SiC芯片生产能力。该项目实施主体为公司全资子公司嘉兴斯达微电子有限公司。
功率......
日本宣布限制23种半导体设备出口：7月23日正式生效！(2023-05-24)
性能半导体制造设备出口管制：
1、光刻/曝光（4项）：先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备
2、刻蚀（3项）：包含湿法/干法/各向异性的高端刻蚀
3、薄膜（11项......
芯源微高端晶圆处理设备产业化项目封顶，年底前投入使用(2021-05-08)
筑面积76728平方米，一期建筑面积47012平方米。项目主要用于生产高端晶圆处理设备，包括前道涂胶/显影机及前道单片式清洗机等。项目将打造东北地区顶级的半导体专用设备研发与生产基地，全部达产后将带动就业2000人......
积塔半导体临港厂区3月份生产超目标完成，维持98%以上产能正常运转(2022-04-22)
金属等离子刻蚀机、多晶硅刻蚀机、ArF 匀胶显影机、KrF 匀胶显影机、PCM 探针台、背面金属溅射设备等。
值得一提的是，积塔半导体在此前的产线建设过程中，与多......
这一半导体设备项目，百亿产能即将释放！(2024-10-25)
目共有5个单体，包含两座研发楼、两座厂房和一座辅助厂房，总建筑面积13.8万平方米。其中厂房面积4万平方米，共有两座厂房A和B。据悉，盛美临港项目是盛美清洗、电镀、先进封装湿法、立式炉管、涂胶显影......
全芯微电子半导体高端设备研发制造基地动工(2024-08-30)
一流的半导体高端设备研发制造平台。
资料显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司专注于匀胶显影机、去胶剥离机、刻蚀清洗机等关键设备的研发、设计、销售及售后服务，产品广泛应用于化合物半导体、光通讯、MEMS、滤波器、半导体光学、先进......
日本将对半导体量子相关4品类等实施出口管制(2024-04-29)
光刻/曝光领域的有 4 项，即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备；涉及刻蚀领域的有 3 项，分别是湿法/干法/各向异性的高端刻蚀；涉及清洗领域的有 3 项：即铜氧化膜、干燥......
美光公布技术路线图；盛美上海再签大单；NAND Flash wafer价格跌幅预测(2022-05-16)
设备、清洗设备、离子注入机、抛光设备、涂胶显影设备是国产化集中领域...详情请点击
NAND Flash wafer价格预测
据TrendForce集邦咨询研究显示，在价格反应较为敏感的NAND......
半导体设备厂商富创精密，冲刺科创板IPO(2021-12-13)
主要产品应用的半导体设备覆盖集成电路制造中刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等核心环节。
除半导体设备外，富创精密产品也应用于制造显示面板、光伏产品的泛半导体设备及其他领域。报告期内，按产......
“数字电影与超高清显示技术”高端对话会在广州举行(2023-05-15)
“数字电影与超高清显示技术”高端对话会在广州举行;
5月8日，2023世界超高清视频产业发展大会在广东省广州市拉开帷幕。当天，由广东南方电影工程技术研究院、中国电影基金会电影工......
江苏芯梦TSV先进封装研发中心揭牌(2024-08-10)
封装研发中心为江苏芯梦半导体设备有限公司打造，中心以水平式电化学沉积工艺为核心，以自主研发为导向，构建先进封装产业全工艺流程测试平台。该研发中心总面积1232.8㎡，拥有千级和百级两种测试洁净环境。配备自研生产的Xtrim-ECD 电镀设备及全套涂胶......
盛美半导体用于晶圆级封装的湿法去胶设备获IDM大厂重复订单(2021-11-08)
半导体的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两......
相关企业
及菲律宾等地区。 主要产品包括有：晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动
设备和其他自动化系统升级改造。 公司技术力量雄厚，拥有从事非标自动化设备开发研究等方面的高级工程师、工程师十余人，技术全面，经验丰富研发项目周期短、品质高。 济南西匡科技有限公司愿同各界朋友携手发展、共创双赢！
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;福猫摄影工作室;;
;阿们摄影工作室;;
;苏州澜摄影工作室;;