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国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破产重组）提供90-250nm芯片制造，拥有8英寸晶圆厂，两家都以提供军用、航天和工业领域芯片产品为主。因此，预计新的国产光刻机......
发生的背景是：在全球缺芯持续之下，一个半导体行业500人的微信群内正就国内半导体领域紧缺的“光刻胶”耗材国产化进行交流，但是对于光刻胶以及中芯国际看法上，被称为“中芯国际光刻胶负责人”的杨晓松认为，虽然国产光刻......
胶。光刻胶也被誉为“半导体材料皇冠上的明珠”，它的市场规模虽然小，但有撬起千亿美元级半导体市场的力量。 年初，各企业开始公布上一年度业绩快报，国产光刻胶企业成绩亮眼，部分......
的市场份额，且侧重中高端光刻胶布局，垄断地位稳固。 从我国光刻胶情况看，国产光刻胶产品主要集中在g/i线市场，同时厂商也在不断发力KrF、ArF等高端光刻胶领域，并获得了一定突破。 在KrF光刻......
国产光刻胶上演“冰火两重天”;今年以来，国产光刻胶一直是业界关注的焦点，资本青睐、光刻胶厂商也不断加码布局，而关于光刻胶的讨论与争议从未停歇。 投资布局火热 作为备受关注的“卡脖子”半导......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
最新，国产光刻胶通过验证！; 据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现......
向塔斯社报告了这一点。 他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10......
了国内许多优秀的半导体企业，尤其是在半导体材料方面，不仅有沪硅产业这样的龙头，也有南大光电和晶瑞股份这样知名的国产光刻胶企业。 接下来， 跟随小编一起逛一逛那些 参加2021 SEMICON......
来验证产品性能，因为光刻机价格昂贵，买了一台光刻机相当于请了一个吞金兽，对于国产光刻胶企业来说，压力倍增。   再者，由于光刻胶的应用环境复杂且多样，有时甚至需要针对每个工厂进行特别定制，很难......
胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻......
胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产......
至今无法进入大陆市场，不过DUV光刻机还勉强能进来，即便如此，这对我国芯片产业也非常重要，在国内科研人员的努力之下，我国成功突破了14nm工艺芯片的量产。或许有人不知道，14nm是半导体制程工艺中的一个分水岭，能进......
国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展; 据中信建投披露，上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市，中信建投是其辅导机构。 根据官方信息，上海......
应化、信越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额。受益于本土半导体产能持续扩大和集成电路大基金的支持，国产光刻胶正在迎来前所未有的发展机遇。 封面图片来源：拍信网......
胶厂商占据市场规模小，但未来替代空间较大。 当前国产光刻胶产品主要集中在g/i线市场，同时厂商也在不断发力KrF、ArF等高端光刻胶领域，并获得了一定突破。 KrF光刻胶领域，北京......
化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。 国产光刻胶新突破！ 另外，值得肯定的是，国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例，该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
、镀膜、热处理等设备的国内自给率已经相对较高，都达到了≥10%的水平。而像光刻机、涂胶显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是芯片制造的核心设备光刻机方面。 ·国产光刻机比ASML落后15......
正在建设28纳米工厂，但这个技术流程早已失去了相关性——4纳米技术流程早已掌握，并在2023年向3纳米过渡。 如上所述，IAP RAS 正在努力缩小俄罗斯与世界其他国家之间的巨大差距——大学专家正在开发第一款国产光刻机......
传华为徐直军跳槽国产光刻机大厂？多方表态; 截图自网络 若将上述两则消息联系起来，可以得到一个初步推断——“华为轮值董事长徐直军跳槽到上海微电子”。与此同时，业内还有“小道消息”称：“经国......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？;“两军交战，兵马未动，粮草先行”，诠释了粮草的重要性，而在半导体行业的激烈竞争中，半导体光刻胶的及时补给亦如此。 01 核心材料 光刻......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
-14nm工艺设备国产化率达30%，实现浸没式光刻机国产化。在经济上，启动了国家集成电路基金二期，计划针对集成电路行业注入2,000亿元资金。 在此背景下，众鸿半导体项目在临港产业区的新动态，受惠......
得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。 据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布(当前......
巨头ASML也不例外，因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子，自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大，独家垄断了EUV光刻机，占据......
可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
在新北市林口工一产业园区内新建厂区，扩大产能。 说起芯片产业，就不得不提起ASML。作为全球最大的光刻机厂商，无论是用于14nm及以上的DUV光刻机，还是用于10nm及以下的EUV光刻机，ASML都是......
电子”的企业苗子； 3、加速装备从验证到“批量采购”的过程，为本土装备材料企业争取更多的市场机会。 总结 南大光电作为国产光刻胶龙头企业，近期已经取得了不错的成绩，此次......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻......
是可以进行多次曝光的。 理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下......
:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm; ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！;据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标......
内存生产设备，将产能提升到每月7万片晶圆。 在这些设备中，最重要的就是EUV光刻机了，三星从14nm级别的内存芯片开始引入EUV光刻机，EUV光刻机可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而......
没有提到具体的名单，但是台积电、三星、Intel这三家是没跑的，他们的逻辑工艺现在都是要用到EUV光刻机的。 还有2家应该是内存芯片厂商了，三星这部分已经在14nm DRAM内存......
微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机......
ASML：支持7nm高端DUV光刻机仍可出口; 近日，在其官网发表声明称，该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时，将需......
工艺中不可缺少的材料，光罩的成本也占到光刻成本的将近一半，其地位自然是相当重要的！光罩在FPD，集成电路的前后道光刻中都是必须的材料。 01 强劲市场势头拉动国产光......
上可以支持 7nm 工艺。 大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。 ......
型光刻机设备已安装到位，KrF光刻胶已完成中试，ArF光刻胶研发进行中，未来几年公司产品升级有望带来公司光刻胶业务持续增长。眉山生产基地扩产光刻胶及其生产原料，是在充分考虑市场、客户......
:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机;日前，日本三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开始量产半导体最尖端的零部件产品（保护......

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