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高端装备业的进口制约导致我国集成电路产业和国防军工产业面临巨大的战略安全威胁。芯碁微电子装备正是以保障国家经济与产业安全为己任,志存高远,力争尽快成长为中国微电子装备业的领导企业。 想法......
装备将于今年年底开始量产28nm immersion式(沉浸式)光刻机,该设备于2021-2022年交付。28nm能大致满足除了手机、平板、电脑等产品之外的其他大部分应用,如果上海微电子装备光刻机......
是该行业的重大突破,将生产满足常用设备要求的国产芯片。截至周二发稿,上海微电子尚未回应《环球时报》的采访请求。 上海微电子成立于 2002 年,是中国领先的光刻机制造商之一,约占国内市场 80% 的份额。外媒称该公司是荷兰世界领先光刻机......
有报道称,上海微电子28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W设备。 上海微电子的第一大股东是上海电气控股集团有限公司,持股......
将甚至远超台积电。 此外,Patel还认为光刻胶和光刻机关键零部件目前并无出口限制,这也是一个重大的漏洞,如果目标是遏制中国在前沿节点上的能力,也必须阻止这些工具的流通,关键供应商很容易被上海微电子等本土光刻机......
巨头ASML也不例外,因为这次被加入实体清单的还有我国光刻机厂商上海微电子,自然国产光刻机研发也会受到影响。 ASML目前在光刻机领域优势很大,独家垄断了EUV光刻机,占据......
亦庄此前报道,作为北京亦庄开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位,科益虹源自主研发的光刻用准分子激光系统打破了美国和日本的长期垄断地位。 国家财经周刊曾发文称,上海微电子将在2021年交付的28nm光刻机......
和中科院光电所技术创新优势明显,位列前三位。作为半导体设备行业龙头,它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心,其专利布局主要集中于光刻机......
必须在真空环境中传输,机械精确度要达到皮秒级,光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发,2000年开始,我国团队参观ASML,遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机,ASML态度......
政府直面挑战的决心和大国魄力。 巨头垄断,设备推广面临挑战:相对于中国产光刻机的步履维艰,中国产氧化炉、刻蚀机与薄膜沉积设备已初现活力,中国产设备正逐渐打入中芯国际、华力微电子、三安光电、武汉新芯等中国......
技术至少落后ASML 15年。所幸的是,近期上海微电子装备宣布,将于年底开始量产28nm immersion式(沉浸式)光刻机,并于2021-2022年交付。从90nm到28nm将极大缩短我国与国际光刻机......
产品SSB500/10A交付用户。2011年10月,SSB500系列先进封装光刻机产品被科技部批准为“2011年度国家级重点新产品计划项目”。上海微电子先进封装光刻机在全球市场的市占率为37%,在中国......
%。中国在芯片设计、半导体材料、生产工艺等方面实现了快速突破,在芯片和晶圆厂建设方面布局态势强劲,随着制造产线的持续扩张,推动了产能攀升。 如今,消费电子、家电、工业......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是,到现在也没人见过这台国产光刻机,主要原因可能就是上海微电子......
,国产光刻机技术上与之差距太大,根本无法在高端市场上参与竞争,严重制约了我国微电子信息工业的发展。根据媒体报道,近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当,每年已经超过2000亿美......
购买ASML光刻机,晶瑞电材拟投建ArF光刻胶研发项目;8月11日,晶瑞电子材料股份有限公司(以下简称“晶瑞电材”)发布公告称,公司......
。 首先是中国的国产替代逐渐成长,ASML担心自己的市场被抢。在后道光刻机产品中,上海微电子的光刻机产品,在国内的市场占有率达到了80%,全球也拥有接近40%的市场。 中国芯片制造企业以现有的DUV......
为主导。近年来,上海微电子 、北方华创、盛美上海、精测电子、中科飞测、中微公司、芯源微、屹唐半导体等国产设备商正在加速弯道超车。我国半导体设备国产化率已在逐步提高,虽在光刻机、量测检测设备、离子......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破; 来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。 近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子......
上海微电子推出新一代先进封装光刻机,首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息,9月18日,上微举行新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源:上海微电子......
年初定下440亿资本开支目标的台积电,无奈之下已连续两次削减了资本开支,每次都是40亿美元,合计高达80亿美元,同时台积电还鼓励员工休假,并关闭了部分EUV光刻机。 反观28nm及以......
的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术,以期在光刻机上有突破,从而实现先进光刻机的独立自主,最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机,且已......
国产厂商引入首台光刻机设备!;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息,近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术......
,该手机的系统芯片采用了中芯国际的技术,当于工艺。由于ASML无法出售最新的光刻,中芯国的工艺可能是以28nm光刻机进行重复曝光后完成,虽然这种做法技术难度大,良率较低,成本也高出许多。 目前中国大陆国产最先进的仍是上海微电子......
体分立器件销售等业务。 除了美的之外,本周科创板芯片设计公司思瑞浦亦投资成立了半导体公司思瑞浦微电子科技(上海)有限责任公司,注册资本高达6亿元。 中芯京城等项目签约北京 2月3日,北京......
传 ASML 将提供特供 DUV 给中国,官方回应!; 据业内消息,在荷兰对实施了出口管制措施之后,业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机,近日 ASML 官方......
另一家中国光刻机厂商浮出水面!;作者:电子创新网张国斌 编者注:目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
率和精度都是实现更先进工艺技术突破的重要因素。 日前,比利时微电子研究中心(IMEC)首席执行官兼总裁Luc Van den hove表示,该中心正在与ASML公司合作,开发更加先进的光刻机,并已取得进展。 近年......
增强核心竞争力。项目达产后,将新增90nm-28nm高端掩模版产能2000片/月,总产能达5000片/月。 此外,宁波前湾新区管理委员会官网消息,近日,宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,企业引入首台电子束掩模版光刻机......
01专项传喜报!​国微芯一口气发布“芯天成”五大系列14款EDA新品!;作者:电子创新网张国斌 近年来,美国政府为了阻遏中国半导体发展,在IC制造和EDA工具、IP领域层层设防围堵,不过......
是半导体芯片的核心生产部件,是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备,被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等,在国产化的浪潮下,如上海微电子......
强调美日荷达成了某些协议。DUV光刻机不同于最先进的EUV光刻机,其主要生产的是14-28nm的芯片,这部分芯片虽不是最高端的类型,但是确实在市场中需求最大的部分。对于ASML来说,最先进的EUV光刻机......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比,我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距,但近年来,随着首台28nm国产光刻机成功交付,中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是,除了自研光刻机之外,我国......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机,其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机,第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案,俄媒......
学代表表示,该综合体由圣彼得堡理工大学开发,旨在创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机,第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二......
三家。中国大陆先进制程设备和技术严重受限,光刻设备获取艰难,自研进程道阻且长,国产化率不足1%。 上海微电子 目前,在光刻机领域被寄予厚望的上海微电子还正在IPO辅导中,此次IPO,上海微电子......
俄罗斯媒体:中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章,原题:重大成就:中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道,上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性,ASML 认为在可预见的未来,其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子(SMEE)或华为的竞争。 根据数据显示,ASML先进的标准型EUV光刻机......
2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。 据悉,晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机,可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻......
设备将会供应到两家企业当中。 俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。之前俄罗斯表示,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土......
威力科创TokyoElectron)宣布,将于镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合发展下一代EUV光刻机的研发生产,以维持原本2023年问世的期程。另外,除了东京电子之外,比利时微电子研究中心(IMEC)也是......
于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。 该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一......
南大光电就是ArF光刻胶细分领域国产替代的门面担当。此次大基金二期的入股,可以说是扶持国产材料的重要一步,同时也是加速光刻胶国产化的重要一步。 投资华润微电子 投资建设半导体晶圆生产线项目 华润微电子......
微芯片密度提高近3倍。 据悉,0.55NA光刻机比现售的0.33NA EUV光刻机大出30%,售价约是0.33NA EUV的2倍。目前,为克服技术挑战,ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC......
无论技术还是成本角度,Hyper NA之后该怎么走,谁的心里都没数。 微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示:“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件,只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻,现有的光刻技术必然终结。” ......
微公告截图 大基金总经理丁文武此前就表示,大基金二期主要侧重以下几个方面: 1、加快开展光刻机、化学机械研磨等核心设备以及关键零部件的投资布局; 2、组团出海,培育中国大陆“应用材料”或“东京电子......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机; 6月16日消息,去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外,同时正在研究更强大的Hyper NA......

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;襄阳仪波达微电子设备有限公司;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是集科研、制造、销售、服务为一体的高新技术企业。是由一批具有丰富技术经验的和敬业精神的优秀团队所组成,是我国微电子
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
;国微电子;;
;成都国微电子;;
;深圳市国微电子;;
;深圳市艾达微科技有限公司;;中国微电子技术有限公司(以下简称“中国微”),成立于1998年3月,是一家专业从事集成电路设计、封装、测试为一体的高新技术企业。历经十三年的发展与创新,中国微于2011
;深圳市国微电子股份有限公司;;
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备