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线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机摆脱一味采用更短波长光源的技术......
进行包括极紫外（EUV）光刻机在内的半导体设备禁运，以小芯片等先进封装技术将成熟制程的芯片组合连结后达到先进制程芯片功能的技术，成为中国突破美方科技禁运的重要路线之一，很快......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
也远比想象中要多。 虽然EUV并非通向先进制程的唯一之路，但只是都没那么好，或者太贵了，EUV仍然是现在最主要的方向。 对芯片行业来说，理想的光刻机技术应该是成本较低、通量高、特征尺寸小、材料......
突破美方封锁 国产小芯片4纳米封装开始量产;据台湾“中时新闻网”1月8日报道，用先进的封装技术连接功能不同的数个芯片以达到先进制程芯片功能的小芯片（又称晶粒）技术，被视为中国突破......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机获重大突破......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片所需的主流技术......
大幅降低半导体芯片的成本，如果现阶段的光刻机技术无法突破 1nm 工艺的话，那么这种新技术将从光刻机手中拿走接力棒，届时也将走进历史~ ......
人员。 在龙仁市新开通的极紫外光刻机培训中心，是阿斯麦在韩国的第二个培训中心。这一中心开通之后，阿斯麦在全球的极紫外光刻机技术人员的培训能力，预计将提升30......
魏少军：半导体投资应理性，中国突围不必紧盯光刻机、EDA;投资者应理性看待半导体投资 国际电子商情获悉，中国半导体行业协会副理事长魏少军26日在2020世界半导体大会上指出，如今......
也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。 自1986年起，佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域，开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后......
润式系统TWINSCAN XT:1900，使ASML超越当时的龙头尼康和，成为的全球霸主；2010年，交付了全球第一台光刻机，凭借其极高的技术壁垒，ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。 由于光刻机技术......
胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。 如晶瑞电材ArF高端光刻胶研发工作已启动，为适应行业现状带来的发展机遇，已在......
互联网研究专家项立刚表示，所谓远程瘫痪台积电光刻机技术，应该没有多复杂，但ASML也要面对一个问题，只要通信中断，怎么瘫痪，要靠人力启动吗？在今天的技术中，远程锁定会有很多的办法进行反制。只要光刻机......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。 而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机技术......
难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
国产芯片迎难而上的勇气，凸显强大的技术研发能力; 据台湾“中时新闻网”1月8日报道，用先进的封装技术连接功能不同的数个芯片以达到先进制程芯片功能的小芯片(又称晶粒)技术，被视为中国突破......
微电子副理事长何荣明表示，2002 年中国专家出国考察时，一些外国工程师说：「即使我们给你所有的图纸，你也不一定能生产出光刻机」。回国后，他带领团队经过 5 年的研发，在关键的曝光工艺上取得了重大突破。 报道称，这一成就是在美国说服日本和荷兰等盟友共同遏制中国......
施旨在堵住去年10月7日发布对华半导体限制新规来阻碍中国技术发展，并且未来可能“至少每年”更新一次。 雷蒙多指出，新措施的目标是限制中国获得“先进半导体，这些半导体可以推动人工智能和复杂计算机的突破，而这些突破......
能是因为美国向荷兰政府施压。 中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片，中科院曾公开表示，中国的光刻机技术......
。极紫外线光刻机生产技术仅由荷兰阿斯麦公司（ASML）掌握，没有它，就不可能生产最先进、最现代的芯片。 美国正试图完成双重任务：迟滞中国半导体行业发展，同时提升自己在全球市场上的地位。但现......
制程也一直在向前，未来当纳米数突破1nm，又有哪种光刻技术胜出，也未可知。 从俄罗斯方面来看，虽然有些新闻看似有点"可笑"，但面对卡脖子，他们没有停止，这种精神值得褒奖。光刻机本来就是全世界的成果结晶，如果......
程工艺可满足 65nm-90nm 光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。 此外，实现技术突破的还有彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞股份等等。 中国内资光刻胶公司当前产品突破及未来规划情况梳理 随着中国半导体光刻胶逐步突破技术......
用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力，新厂预计在2025年建设完成，投资2400亿韩元（约合13.7亿人民币）。 所谓再制造，指的是以旧的机器设备为毛坯，采用专门的工艺和技术，在原......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
平台合作伙伴进行验证，并做好了量产准备。如果不出意外，要不了多久应该会进入商用阶段。 1β工艺之所以能得到较大的能效，密度提升，其实是用DUV光刻机进行多重曝光，不仅实现了技术突破，而且绕开EUV光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
仅次于光刻！我国突破氢离子注入核心技术 100％国产; 9月11日消息，据国家电力投资集团官方消息，近日，集团所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司核力创芯暨国家原子能机构核技术(功率......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
晶圆厂都在加速验证导入本土KrF光刻胶。但是，光刻胶要想真正实现“本土化”，其实还有很多亟待突破的壁垒。市场行业特性壁垒和技术壁垒就是其中难以迈过的“两道坎”。 在市场行业特性壁垒方面，步日欣向《中国......
，Twinscan NXE：3800E光刻机还具备出色的晶圆对准精度。其机器覆盖层小于1.1nm，为制造更小尺寸的芯片提供了可能。这一技术的突破，将有助于推动芯片制造业向更小、更快、更智......
孔)、机械研磨、氧化退火等领域均可满足技术指标, 但欠缺本土的光刻机企业作为核心链主, 串起中国先进封装工艺成套设备的配置与布局，ABM正是中国极少数具备先进封装成套设备一站式解决方案的供应商。 ABM如同......
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。 3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司旗下参股子公司上海芯刻微材料技术......
细，显然量子芯片才是未来的方向。 其次，量子芯片的生产原理和硅基芯片不同，完全可以避开光刻机的限制。最近美国唆使荷兰对我国禁售光刻机，就是因为目前的纳米芯片技术对光刻机有依赖，而靠我们一己之力去攻克光刻机......
家的i-line和KrF光刻机——面向各种类型的芯片，而且不仅是狭义的芯片制造，也包括一些现代化的封装技术。比如FPA-5520iV半导体i-line步进式光刻机也做晶圆级封装——主要针对一些多die......
若加入美国对华半导体产业围堵阵营，则会进一步迫使中国下决心在光刻机这个领域更多发力，早日取得突破。 共同社援引多名相关人士透露的消息报道称，9日，雷蒙多与西村康稔举行电话会谈，围绕半导体的对华出口管制，雷蒙......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
胶市场体量虽小，却能撬动整个半导体产业的原因。 表1 五代光刻机以及对应光刻胶类型 从技术层面看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度。随着芯片尺寸越来越小，产业对光刻机以及光刻胶的要求也越来越高，为了......
（不过由于北约的瓦森纳协议限制，中国只能买到中低端ASML光刻机）. 这是中国外交的一大突破。 下面我们来看看尼康的财务报表是多么得惨淡，先上一封 尼康各个季度报表中 最靓......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
的企业，其90nm DUV光刻机在2016年已经通过验收，但45nm、28nm光刻机仍在研发过程中尚未量产，亟待突破。 结 语 从上文的各项数据来看，全球半导体设备市场几乎被美日荷所垄断，核心设备如光刻......
我国突破氢离子注入核心技术 100％国产;据国家电力投资集团官方消息，近日，集团所属国电投核力创芯（无锡）科技有限公司核力创芯暨国家原子能机构核技术（功率芯片质子辐照）研发中心，完成......
。 装备材料，加强装备材料创新发展，突破光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、离子注入设备、湿法设备、检测设备等集成电路前道核心工艺设备；提升12英寸硅片、高端掩膜板、光刻胶、湿化学品、电子特气等基础材料产能和技术......
ASML被禁止维修售华光刻机！CEO：基本不影响赚钱;4月29日消息，美国对中国的封锁进一步加剧，甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务，不过在ASML看来，这么做影响并不大，至少......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
或ASML，但相关措施旨在限制部分型号光刻机对中国的出口。荷兰和日本今年1月原则上同意加入美国限制对中国出口先进芯片制造商设备的行动，荷兰贸易部长Schreinemacher已在3月表......
加大在光芯片领域的研发和投入，这也使得ASML光刻机不再是必需品。如今的芯片市场上以电子芯片为主，这些芯片以一个或多个电压来产生信号，从而组成千变万化的数字、模拟电路。但是随着制程不断突破，5nm、4nm......

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