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国产光刻机获重大突破,ASML如何应对?(2023-10-19)
是在破坏全球产业链。”问题是,EUV光刻技术突破意味着什么?ASML为何反应激烈?
在讨论光刻机之前,我们应了解芯片的关键性。没有芯片,将无法实现所谓“梦想”。芯片......
ASML再次改口!国家迅速回应,外媒:荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
公司的态度再次发生变化,引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
EUV光刻新突破,是不是真的?(2023-09-18)
总归要讲商业逻辑,路要一步一个脚印地走。
另一方面,要考虑到技术实现的问题。光刻机不仅是吞金兽,还是吞电兽、吞水兽,这么大的机器要用多少电、用多少水、废水怎么处理都是要看考虑的问题;光有一个EUV光源还不代表技术突破......
ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?(2024-06-07)
ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?;首席财务官达森(Roger Dassen)表示,技术路线发展受欧美限制,且已接近技术极限,此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破;
光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
光刻机将成为历史!麻省理工华裔研究出 2D 晶体管,轻松突破 1nm 工艺!(2023-05-29)
大幅降低半导体芯片的成本,如果现阶段的光刻机技术无法突破 1nm
工艺的话,那么这种新技术将从光刻机手中拿走接力棒,届时也将走进历史~
......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
经过蚀刻在晶圆上形成图形。
尽管与国际大厂相比,我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距,但近年来,随着首台28nm国产光刻机成功交付,中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。
值得一提的是,除了自研光刻机之外,我国......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%(2023-05-19)
人员。
在龙仁市新开通的极紫外光刻机培训中心,是阿斯麦在韩国的第二个培训中心。这一中心开通之后,阿斯麦在全球的极紫外光刻机技术人员的培训能力,预计将提升30......
首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂(2022-11-28)
解,ASML的光刻机技术来自全球40多个国家、数百家供应商,就连美国也没有独立生产制造光刻机的能力。
另外,在ASML生产制造的光刻机中,美国技术占比是有限的。因此,美方修改规则限制出货,这对ASML......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产。
自1986年起,佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域,开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
平台合作伙伴进行验证,并做好了量产准备。如果不出意外,要不了多久应该会进入商用阶段。
1β工艺之所以能得到较大的能效,密度提升,其实是用DUV光刻机进行多重曝光,不仅实现了技术突破,而且绕开EUV光刻机......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
难度和成本高筑进入壁垒。
中国在不断的研究新技术,以期在光刻机上有突破,从而实现先进光刻机的独立自主,最终摆脱对ASML的依赖。
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机,且已......
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息,光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢?公开图纸,我们也造不出来?(2022-11-28)
样的局面之下,中企便开始布局芯片产业链的国产化,以此来推动国内芯片代工技术的发展,来摆脱外界规则所造成的影响。
而想要大规模的量产芯片,就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下,中企加大了对于先进光刻机技术......
ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
润式系统TWINSCAN XT:1900,使ASML超越当时的龙头尼康和,成为的全球霸主;2010年,交付了全球第一台光刻机,凭借其极高的技术壁垒,ASML至今仍是全球唯一的光刻机供应商。
由于光刻机技术......
直言光刻胶国产替代仍空白,中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
程工艺可满足 65nm-90nm 光刻需求,该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。
此外,实现技术突破的还有彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞股份等等。
中国内资光刻胶公司当前产品突破及未来规划情况梳理
随着中国半导体光刻胶逐步突破技术......
ASML摊牌了:可远程瘫痪台积电光刻机(2024-05-22)
互联网研究专家项立刚表示,所谓远程瘫痪台积电光刻机技术,应该没有多复杂,但ASML也要面对一个问题,只要通信中断,怎么瘫痪,要靠人力启动吗?在今天的技术中,远程锁定会有很多的办法进行反制。只要光刻机......
逼近极限!ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
,Twinscan NXE:3800E光刻机还具备出色的晶圆对准精度。其机器覆盖层小于1.1nm,为制造更小尺寸的芯片提供了可能。这一技术的突破,将有助于推动芯片制造业向更小、更快、更智......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?(2023-10-11)
制程也一直在向前,未来当纳米数突破1nm,又有哪种光刻技术胜出,也未可知。
从俄罗斯方面来看,虽然有些新闻看似有点"可笑",但面对卡脖子,他们没有停止,这种精神值得褒奖。光刻机本来就是全世界的成果结晶,如果......
上海新阳再购得一台二手光刻机!(2021-03-12)
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。
3月12日,上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示,近日,公司旗下参股子公司上海芯刻微材料技术......
国产车与中国芯何时实现“双向奔赴”?(2023-10-06)
定车规级芯片领域专项产业扶持政策,明确发展目标和重点任务;在技术攻关方面,重点推动光刻机等生产设备、EDA软件等基础工具的技术突破。
同时,要加大产业监管力度,加强汽车信息安全监管顶层设计,形成......
7nm物理极限!1nm晶体管又是什么鬼?(2016-10-11)
斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限,采用碳纳米管复合材料将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。
那么,为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限,碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢?面对美国的技术突破,中国......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入,使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限,从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中,EUV光刻机......
中国半导体该如何崛起?材料/设备/软件国产化才是重点!(2020-06-19)
能是因为美国向荷兰政府施压。
中国的上海微电装备、中电科45/48所、成都光机所等企业/机构正围绕光刻机而积极研发。现在国内已经成功量产的光刻机只能最高生产90nm的芯片,中科院曾公开表示,中国的光刻机技术......
ASML市值超过了昔日的全球半导体霸主英特尔!(2022-11-29)
加大在光芯片领域的研发和投入,这也使得ASML光刻机不再是必需品。如今的芯片市场上以电子芯片为主,这些芯片以一个或多个电压来产生信号,从而组成千变万化的数字、模拟电路。但是随着制程不断突破,5nm、4nm......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪,整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
在不使用EUV光刻机的情况下,实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。
封面图片来源:拍信网......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
正不断向10nm级别靠近,甚至未来有望突破10nm以下,这一过程中,EUV光刻技术也将在未来发挥更加重要的作用。随着美光1γ DRAM开启EUV时代,三星等存储大厂继续深耕EUV,未来EUV光刻机有望在DRAM生产......
国产半导体设备公司预计年底交付28nm制程光刻机(2023-08-03)
形成积极的反馈循环。
2022 年 11 月 15 日,国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」,代表着极紫外(EUV)光刻机核心技术的重大进步。
「但技术的演进需要多年的持续研发,我们......
晶瑞电材业绩预增120%以上,多家厂商发力光刻胶国产替代(2022-01-19)
该公司历史最高水平,整体处于供不应求状态。
聚焦国产替代,多家厂商发力光刻胶技术突破与生产
光刻胶是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的混合液态感光材料,也是......
俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了(2024-05-26)
将获得更强大的辐射源,改进的定位和进给系统,并将开始全面的工作,2028年,这些设备全面运行。
时隔两年,俄罗斯所说的真的实现了——首台光刻机正式制造成功并进入测试。
有实际意义的突破
据塔......
投资100亿美元,补贴8.25亿美元,美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
器”站点将于2025年开始运营,预计同年引入0.33NA EUV光刻机,2026年引入High NA EUV光刻机,将支持相关的功能与技术支持。
EUV光刻技术对于制造更小、更快、更高......
中国半导体设备产业正经历“四大挑战”(2016-10-18)
,但最先进的技术设备都会被列入禁运名单,一般只会允许落后两代左右的技术登陆,核心技术及关键零部件进口难度可想而知。
短期内,核心零件技术突破并不实际,那么......
ASML发布2020年财报:净利润达36亿欧元(2021-01-21)
将在2025年量产。预计到2021年,EUV全年销售额将达到55亿欧元。
DUV突破:预订量创历史新高
ASML向《科创板日报》记者透露,2020年DUV(深紫外光)光刻机......
这一半导体设备项目,百亿产能即将释放!(2024-10-25)
国内半导体产业的持续发展,国产半导体设备的需求有望继续提升。
目前我国半导体设备企业正在加大技术研发,?在技术创新方面国内企业在刻蚀、清洗等领域已经取得了一定的突破,未来在光刻机、量测检测设备等关键领域也有望实现技术突破......
俄罗斯媒体:中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
。极紫外线光刻机生产技术仅由荷兰阿斯麦公司(ASML)掌握,没有它,就不可能生产最先进、最现代的芯片。
美国正试图完成双重任务:迟滞中国半导体行业发展,同时提升自己在全球市场上的地位。但现......
中国光刻设备将打破国外垄断?(2016-11-03)
及关键零部件进口难度可想而知。
短期内,核心部件技术突破并不现实,那么通过外交干涉来解决核心部件进口问题将成为关键,如何处理中美、中日等复杂的国际关系是摆在中国政府面前的一大挑战。
巨头垄断,设备推广面临挑战
相对于国产光刻机......
国产光刻机最大的希望!上海微电子上市最新进展(2023-11-15)
Devices等制造领域。
上海微电子旗下的产品主要有两大系列。
其中,SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术......
另辟蹊径?俄罗斯拟自研“比ASML便宜”的EUV光刻机(2024-12-20)
计划分为三个阶段:第一阶段聚焦于基础研究和关键技术辨识;第二阶段制造每小时处理60片200毫米晶圆的原型机,并整合至国内芯片生产线;第三阶段的目标是开发每小时处理60片300毫米晶圆的工业应用设备。尽管俄罗斯光刻机......
售价3.8亿美元!ASML正式宣布,外媒:光刻机市场“变天”了!(2024-06-12)
EUV光刻机的突破,意外的是拥有顶尖工艺的三星、台积电并没有订购任何一台,反倒是英特尔订购了6台,根据市场的消息目前已经完成了第二台的出货。
别看只有6台的数量,但这一台售价可是来到了3.8亿美元,其中......
英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?(2023-04-06)
英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?;
在前不久的 GTC 2023 上,带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以......
俄罗斯自主芯片受挫:50%以上都是废片!(2024-04-08)
的技术突破,只能依靠自身培养。然而,这些努力似乎进展缓慢,还需要进一步提高。
至于自研光刻机,此前俄罗斯曾计划于2028年推出首款设备,而现阶段仍在持续研发当中。
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清华大学科研团队新成果:有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,半个多世纪以来,光刻机光源的波长不断缩小,芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV(极紫外光源)光刻......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作,剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作,剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上,英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是......
投资2400亿韩元,ASML去韩国了(2021-05-17)
用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力,新厂预计在2025年建设完成,投资2400亿韩元(约合13.7亿人民币)。
所谓再制造,指的是以旧的机器设备为毛坯,采用专门的工艺和技术,在原......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
重振芯片制造,欧、日为何青睐2纳米?(2021-04-02)
莫大康的介绍,目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度,对于2nm的先进工艺,高数值孔径的EUV技术还亟待开发,光源、掩模工具的优化以及EUV的良率和精度都是实现更先进工艺技术突破......
光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表)(2021-03-23)
12月通过了客户的使用认证,这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。
同时,上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术,本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
装备项目组经过近7年艰苦攻关,突破了多项关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10......
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破;
来源:内容来自 中科院网站 ,谢谢。
近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
成功导入ASML光刻机,英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三(2021-12-09)
%,跃升为全球第三。
据公众号“ASML阿斯麦光刻”介绍,这是一次重大突破,ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。ASML的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产,为其......
相关企业
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
;苏州欣宇激光设备有限公司销售三部;;苏州欣力宇电子科技有限公司是专业从事数控设备研发、销售及加工应用服务的高新技术公司,专业供应国际技术领先的激光切割机、激光打标机、激光焊接机、激光裁床,模具治具雕刻机
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机,金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机,电蚀刻打标机,金属印字机,金属打字机,高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;章丘市冠牌电子设备厂;;章丘市冠牌电子设备厂提供匀胶机、光刻机、甩干机、花篮、STD扩散片、管芯等产品,章丘市冠牌电子设备厂的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎
高素质的科研团队和专业的激光测试平台,是一家集科研、开发、生产于一体的专业CNC雕刻机企业。已经取得ISO9001:2000质量管理体系及欧盟CE认证,多年来屡获殊荣,在业界备受推崇。亚卓数控拥有众多领先的数控专利技术,在精密雕刻机设计以及雕刻工艺技术研发方面取了突破