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鼎龙股份：氧化铝抛光液产品已通过客户端验证，并开启计划采购;3月10日，湖北鼎龙控股股份有限公司（以下简称“鼎龙股份”）发布《关于公司抛光液产品通过客户端验证并开启计划采购的公告》。 公告......
产品已实现全面自主研发和量产，有用于金属及非金属硬脆材料加工的切削研磨抛光材料及研磨抛光的精细化工产品，包括但不限于团聚金刚石微粉、团聚金刚石研磨液、氧化铝抛光液、二氧化硅抛光......
来说比较复杂。 先说下抛光 抛光就是用带有研磨颗粒的抛光剂在抛光机的帮助下与漆面发生摩擦，起到清除漆面的污垢，打磨光滑漆面，磨平表面的细化横的作用。当然抛光的弊端也很明显，就是打薄了车漆，一个正常的车漆最多可以抛光......
的清洁剂里面含有水蜡，去污的同时也能让车灯不易沾灰。 三、抛光剂擦涂保养 经过上面两个步骤的清洁后，想要大灯在夜间行车时更加明亮，就可以涂上一层抛光剂，再用软布擦拭后涂上养护辣，这样就能持久的维持明亮啦。抛光剂......
键合样品的制备多采用标准大马士革工艺，即通过光刻‑显影‑刻蚀‑清洗‑种子层沉积‑电镀‑化学机械抛光(CMP)来完成样品制备，在此过程中CMP步骤必不可少，且是样品制备的关键。该步骤受抛光设备、抛光剂......
气体、光掩膜、光刻胶配套化学品、抛光材料、光刻胶、湿法化学品、溅射靶材等多种关键半导体材料高度依赖日本企业。 一些日本材料厂商普遍认为，近年除了氟化氢，其他芯片相关材料对韩出口没有受到特别影响。 业界......
充等领域的进一步渗透意义重大。 普瑞昇新材成立于2023年4月，在12月也完成了数千万人民币天使轮融资。该公司专注于高端氧化铝抛光液和抛光磨料等产品研发，为包括SiC在内的第三代化合物半导体抛光提供有效的国产替代方案。 此外......
High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着，相较于沿用现有的 0.33NA EUV 并搭配多重曝光，引入 High-NA 在近......
访中，Dassen 回应了分析机构 SemiAnalysis 的质疑，表示 High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂......
机仍是未来最经济的选择。 SemiAnalysis 之前刊发文章，认为 High-NA 光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着，相较于沿用现有的 0.33NA EUV 光刻......
SK 海力士开发出可重复使用的半导体 CMP 抛光垫技术;12 月 27 日消息，根据韩媒 ETNews 报道，SK 海力士近日研发出了可重复使用的 CMP 抛光垫技术，不仅可以降低成本，而且......
上海芯谦拟投建一条年产10万片的半导体用抛光垫生产线;8月16日，浦东时报刊登了芯谦集成电路和大硅片用抛光垫产业化项目环境影响报告书公众意见征求的登报公示。 公示内容显示，上海......
首发｜安储科技完成Pre-A轮融资，为半导体领域提供更佳的抛光清洗方案;EEWorld获悉，近日，张家港安储科技有限公司（以下简称“安储科技”）宣布已完成Pre-A轮融资，本轮......
鼎龙股份：目前已在28nm节点HKMG制程的铝制程抛光液产品上取得了突破;近日，鼎龙股份在接受机构调研时表示，公司 CMP 抛光垫产品已经深度渗透国内各家主流晶圆厂的供应链，成为......
晶盛机电半导体材料抛光及减薄设备项目建成时间延后至明年6月;6月15日，晶盛机电发布公告称，审议通过了《关于部分募集资金投资项目延期的议案》，同意将向特定对象发行股票募集资金投资项目“年产80台套半导体材料抛光......
日本放宽对韩出口管制，特定企业交易许可延期3年;据日媒报道，日本经济产业省20日部分放宽了三种半导体材料对韩出口管制。关于涂覆在基板上的感光剂光刻胶，日本针对特定企业间的交易调整了运用：能够......
除发行费用后拟向12英寸集成电路大硅片设备测试实验线项目投入5.64亿元，向年产80台套半导体材料抛光及减薄设备生产制造项目投入4.32亿元，剩余4.24亿元用于补充流动资金。 其中，年产80台套半导体材料抛光......
鼎龙股份：拟新建集成电路CMP用抛光垫项目及集成电路制造清洗液项目;鼎龙股份14日公告，公司拟新建集成电路CMP用抛光垫项目（三期）及年产1万吨集成电路制造清洗液项目。计划投资合计5.67亿元，本次......
精微主要从事半导体设备的研发、生产、销售及技术服务，主要产品为化学机械抛光（CMP）设备及其配件，并提供技术服务。公司前身为四十五所 CMP 事业部，四十五所是半导体专用设备的国家重点研制生产单位，参与......
陶氏工厂发生爆炸，影响光刻胶供应？;陶氏化学美国路州厂在美东时间15日传出爆炸起火事件，虽无人伤亡，惟该厂生产光阻剂、抛光垫／液等半导体关键耗材，主要供成熟制程晶圆制造使用，牵动业界神经，联电、世界......
Chemical）Plaquemine工厂发生一系列爆炸。由于陶氏化学是半导体关键化学材料光阻剂与抛光垫/液的重要供应商，使得该件爆炸事件备受市场关注。 报导指出，Plaquemine工厂......
重庆抛光硅片项目产品下线，打破技术壁垒; 版权声明：本文来源 《SEMI》 《中新网》，如果您认为不合适，请告知我们，谢谢！ 集成电路是电子信息产业的基础，而硅......
永光抢进第三代半导体;永光跨入第三代半导体市场，受瞩目。化工厂永光积极开拓电子化学品市场，投入开发碳化硅（SiC）基板抛光制程的抛光液，传已小量出货给硅晶圆厂。 市场近期传出永光的碳化硅基板抛光制程抛光......
鼎龙股份：CMP抛光垫7月份的单月销量首次突破一万片;8月18日，鼎龙股份发布2021年半年度报告。报告显示，上半年鼎龙股份实现营业收入10.96亿万元，较上年同期同比增长35.18%；实现......
方英寸增长了10%。 国际电子商情了解到，半导体硅晶圆是制造芯片的不可或缺的材料，主要由抛光片、退火片、外延片、节隔离片和绝缘体上硅片五大类产品构成，其中抛光片是用量最大的产品，其他的硅晶圆产品也都是在抛光......
要作用是提供高均匀性照明 ( 匀光 ) 、控制曝光剂量和实现离轴照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。 照明系统 3 的匀光功能可以是通过科勒照明结构实现的。 Source：华为......
光刻胶的溶剂来说，一款光刻胶，溶剂的含量占据光刻胶总质量的80%~90%，光刻胶最常使用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），它具有很好的溶解性，性状稳定，适合将成膜树脂和光引光剂液化以便于旋转涂敷。   目前......
步加速国产替代进程。 公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
步加速国产替代进程。公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
年同期3649MSI增长2.5%，其统计范围包括抛光片及运送给最终用户的非抛光硅晶圆。 图片来源于网络 集微......
包括中环领先集成电路用大直径硅片二期项目。 报道介绍称，总投资30亿美元的中环领先集成电路用大直径硅片项目，于2017年12月开工建设，2019年9月项目一期建成投产，目前产能为：月产8英寸抛光片25万片（至2021年底可达50......
得晶圆厂无法满负荷运转。硅晶圆出货量虽然远离了2022年第三季度的峰值，但今年第二季度却出现了反弹，尤其是300mm晶圆出货量呈现出稳定的数字。” 该数据包括抛光和非抛光硅晶圆，例如......
鼎龙控股集团：子公司鼎汇微电子取得首张海外CMP抛光垫订单;12月1日，鼎龙控股集团宣布，经过在客户端的严苛验证，湖北鼎汇微电子材料有限公司（以下简称“鼎汇微电子”）用于W制程的12寸CMP抛光......
镜面存在反射镀银层导体膜，这在电容触摸方面运用原则上是无法实现的。因此，需要触摸按键区域部位进行抛光隔离，才能实现正常触摸。常见的抛光的结构有正方形和圆形，从理论上来说，正方形的图标的会更好，抛光......
力于集成电路材料研发创新，为新片区集成电路产业提供测试服务和研发服务，加速集成电路材料国产化进程。 芯谦集成电路和大硅片用抛光垫产业化项目 上海芯谦集成电路有限公司计划投资4.5亿元，建设化学机械研磨抛光......
，13.5nm）光刻，电子束光刻等六个阶段，随着光刻技术发展，各曝光波长的光刻胶组分（成膜树脂、感光剂和添加剂等）也随之变化。 光刻技术及光刻材料的发展 根据反应机理和显影原理，可以......
大陆半导体硅片企业还有沪硅产业、TCL中环、立昂微、北京奕斯伟、有研半导体以及上海超硅。其中： 沪硅产业提供的半导体硅片产品类型涵盖300mm抛光片及外延片、200mm及以下抛光片、外延片以及200mm及以下的SOI硅片......
中电科8英寸抛光设备进入中芯国际、华虹宏力等大线;7月8日，在北京亦庄创新发布会上，中电科电子装备集团有限公司发布了离子注入机、化学机械抛光设备、湿法设备等多项技术上的创新成果，为国......
轻微磨损的表面 ， 为抛光作准备 注意......
代半导体材料氮化镓等，此外稀土金属还在抛光、靶材、激光灯方面，以其优异的物理和化学属性发挥着巨大作用。 稀土常被用作抛光材料，氧化铈是抛光粉最常用的材料，其中高铈抛光粉主要用于石英、光学镜头等硬质玻璃长时间循环抛光......
双方互补优势，创造出更多创新成果。 富乐德半导体产业项目：该项目是丽水第二个百亿级制造业项目，总投资约120亿元，总用地约400亩，主要建设12英寸抛光片、传感器等半导体生产线。其中，首期建设的12英寸抛光......
±1nm（Bin M12）波长下输出光功率为50mw，可与514nm范围内的荧光剂兼容，也可与各类第三方透镜兼容，使该激光器广泛适用于生命科学领域，包括：• 流式细胞术，共聚焦显微镜和光谱学• 材料......
国内某集成电路龙头企业。 据清华新闻网报道，该装备是路新春教授团队与华海清科股份有限公司（以下简称“华海清科”）继解决我国集成电路抛光装备“卡脖子”问题后的又一突破性成果，将应用于3D IC制造......
机电发布向特定对象发行股票预案公告。 据公告，晶盛机电此次拟募集资金57亿元，扣除发行费用后拟全部用于碳化硅衬底晶片生产基地项目、12英寸集成电路大硅片设备测试实验线项目、年产80台套半导体材料抛光......
面积11.5万平方米，项目总投资约10亿元。历经15个月的建设，同步迎来千吨级半导体OLED面板光刻胶（PSPI) 、万吨级CMP抛光液（Slurry）和万吨级CMP抛光......
所互动易截图 有投资者在互动平台上问及，晶盛机电在半导体晶体生长方面的行业地位和竞争优势以及目前研发和新技术项目储备等相关情况，晶盛机电回应表示，公司积极布局“长晶、切片、抛光、外延”四大......
平芯CMP抛光材料研发生产基地项目投产 10月25日，青岛平芯CMP抛光材料研发生产基地项目投产。 该项目由上海润平电子材料有限公司投资，拟投资1亿元，主要建设半导体芯片制造用CMP抛光材料及精密抛光......
%。 加快追赶全球领先水平 作为国内重要的半导体材料厂商之一，中环股份的硅片产能也实现了快速扩张。 据中环股份今年5月发文指出，目前，公司已实现4-12英寸单晶硅、抛光片的规模化量产。按半......
万华电子材料二期项目桩基已于8月19日开工。该项目是“半导体新材料制备与应用技术”项目，项目建成后，将助力化学机械抛光液和抛光垫市场国产化进程。 常州承芯二期机电项目已于9月28日提......
技术可供 Attolab 的合作伙伴使用。 为了支持下一代光刻，imec 正在探索以下技术。 一方面，光掩膜的开发正在进行几项新的发展。如为了满足降低 EUV 曝光剂量的要求，具有低 n 吸收......

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电解电源，专用各类大中小型不锈钢电解抛光设备 ， 除油剂，除锈剂，防锈剂 常温发黑剂，清洗剂，钝化剂，不锈钢电解抛光液，铜化学抛光剂，铜抗氧化剂，酸洗剂，铝化学抛光剂， 电解抛光。 产品主要涉及不锈钢、铜、铝等
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机、钢筘专用磨料、钢筘专用抛光液、钢筘专用抛光剂、钢领专用磨料、钢领专用抛光液、织针专用抛光液、织针专用抛光剂、XPE各种多用精密件精抛光机、GPT系列专用精抛光磨料磨具，超精抛光液，广泛
东莞市长安明成研磨材料店
;东莞市长安明成研磨材料店;;本公司主要经营振动研磨抛光机，脱水烘干机，各种研磨石，各种研磨抛光剂，产品广泛用于金属，非金属零件表面光整光饰。尤其适用于不规则形面批量去切除削，磨削，冲压，浇铸
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;惠州市三邦电镀化工有限公司;;广东省惠州市三邦电镀化工致力于电镀绿色清洁工艺，硬铬电镀工艺光亮剂，日本陶瓷隔膜，素烧桶，快干防锈油，挥发性防锈油，自干防锈油，不锈钢电解抛光剂，代铬工艺。滚镀
台湾振雄研磨抛光机械厂
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份） / 双组份有机硅LED灌封胶。 5．厌氧胶 / UV胶 / 瞬间胶 /环氧树脂胶 二．其它助剂： 1．液体亚光剂/ 消光剂/ 哑光剂（油墨/涂料/树脂/有机硅电子LED灌封胶专用） 2．相机摄像摄影专用消光剂
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、热处理及专业院校等行业，公司先后开发出多种系列金相专用切割片，高效金相抛光剂、镶嵌料、研磨膏、金相砂纸、抛光织物及专用金相抛光粉等产品。 金相设备系列，针对客户对金相制样的需求，提供
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