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传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;据电子时报报道，随着日本对华半导体设备出口禁令于7月23日正式生效，业内普遍想知道这将对中国半导体行业产生的影响。此次出口管制共计23品类......
其厚度非常薄，在晶圆上形成均匀地薄膜具有很高的难度。所以在化学沉积过程中，确认薄膜材料是否正常生长，以及能否产生所需的特定物性，就非常重要。 为了确保薄膜沉积按照预期进行，通常将已长成的薄膜从真空化学气相沉积......
首芯半导体薄膜沉积设备项目主体封顶，计划2024年6月投产;据中电二公司消息，近日，江苏首芯半导体项目生产厂房主体结构封顶仪式举行。江苏首芯半导体薄膜沉积设备研发及生产项目位于无锡江阴高新区，为集半导体前道制程薄膜沉积......
膜厚量测设备等产品，可被广泛应用于28nm及以上制程集成电路制造和先进封装环节。 微导纳米是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商，公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜......
现氧空缺的介电层中，观察其能隙中的电子状态 Egorov说：「为了研究在氧化钽薄膜生长过程中形成的氧空缺，我们使用了一种整合生长PEALD[电浆辅助原子层沉积]和分析XPS(X射线光电子能谱仪)腔室(以真空......
微导纳米拟募资不超11.7亿元投向半导体薄膜沉积设备智能化工厂等;5月29日，微导纳米发布公告称，公司拟向不特定对象发行可转换公司债券拟募集资金总额不超过11.7亿元，扣除发行费用后募集资金净额将用于半导体薄膜沉积......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著提高生产效率，改善......
总投资5亿元 衍梓智能科技薄膜沉积设备项目落户青岛;据莱西经济开发区消息，4月7日，青岛莱西经济开发区管委会与上海衍梓智能科技有限公司（以下简称“衍梓智能科技”）薄膜沉积......
半导体CVD设备国产化进行到哪步了？;近日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。 CVD设备需求提升 薄膜沉积分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积......
在内的关键RRAM设备及工艺解决方案。在薄膜沉积方面，北方华创eVictor系列薄膜沉积系统，在同一平台上集成多类薄膜加工腔室，单系统可实现包括基底清洁、电极沉积、阻变材料沉积工艺，显著......
握的核心技术平台基础上，公司紧贴客户需求，将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合，形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积......
（ALD）技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。 ALD设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备，在28nm及以......
半导体设备上市公司万业企业携手全球产业专家共同投资成立，总投资规模达20亿元，用地面积109亩，公司研发及制造刻蚀、薄膜沉积、快速热处理等等集成电路成熟工艺的关键设备，产品范围覆盖芯片制造核心设备的多个重要品类。 据了解，自......
的高效电池技术产能持续存在缺口，而技术进步和成本下降预计将为光伏行业带来更多增长机会。为应对这一趋势，公司紧跟下游行业电池技术的迭代和扩产步伐，充分利用ALD、CVD等多种先进的薄膜沉积技术平台，拓宽产品线，提高......
KKR收购。其以制造薄膜沉积设备闻名，薄膜沉积工序是在硅晶圆上添加薄膜层，以便形成电路。 封面图片来源：拍信网......
芯屏高科技产业园开园，半导体薄膜沉积设备等5项目集中签约;近日，蓝科·新站芯屏高科技产业园开园，现场5个入园项目集中签约、3家投资基金签订战略合作。 现场，半导体刻蚀机用陶瓷材料、半导体薄膜沉积......
（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积......
。未来，通过使用狭缝挤压涂布法等工业化兼容的薄膜沉积法，制备具有更大面积的逐层沉积的紫外光掺杂氧化锌薄膜或将助推有机光伏市场化进程。......
科技已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等薄膜设备产品系列，广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。 拓荆科技表示，公司本次新建项目通过提升公司半导体薄膜沉积设备的产能，可以......
设备（Atomic Layer Deposition, ALD）的高速增长。 原子层沉积技术，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积方法。通俗来说，可以将一层层亚纳米厚的薄膜......
的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，公司预期相关产品将于2024年进入商业生产阶段。 普达特科技表示，热CVD设备应用于半导体设备制造业薄膜沉积过程中，在该过程采用的产品中，发挥......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW; 【导读】近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
提出了一种基于磁通门技术原理的电流传感器方案。高精度、低零漂的特点完全符合真空镀膜机的应用要求。 通过精确测量和控制电流，高精度电流传感器能够实现更准确的沉积速率和厚度控制，从而提高薄膜的均匀性和质量稳定性。光学镀膜等对薄膜......
厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分，半导体设备可分为晶圆制造（前道设备）和封装、测试设备（后道设备）。 前道晶圆制造设备占据了市场80％以上的份额，设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀......
备，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW; 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积......
中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™ CW;中国上海，2023年5月9日—— 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出......
存储、FLASH闪存集成电路制造各技术节点产线SiO2、SiN、SiON、BPSG、TEOS等多种通用介质材料薄膜沉积工序，并具备向更先进技术节点拓展的延伸性。基于现有PECVD产品平台，拓荆......
得能够在大型复杂物体的表面形成导电膜。此外，还可以轻松地将电气功能添加到各类不规则的工具和设备表面。 基于 ITO 的电极需要某种高温处理以形成布线图案并类似地表现出导电性，ITO基材料需要在高温和真空环境下进行的真空沉积工艺将薄膜......
迈入全新发展阶段。 2023年10月项目主体结构正式封顶，仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分，主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法......
化产能的同时，支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中，每个腔体都安装有多个加热卡盘，以优化工艺控制并提高产能。   封面图片来源：拍信网......
中微公司推出12英寸薄膜沉积设备，已导入客户端进行生产线核准;近日，中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。 Preforma......
（全球领先的薄膜真空设备制造的供应商），拟建设半导体沉积及镀膜设备的国产化生产基地。项目产品包括：化合物半导体薄膜设备、MEMS薄膜设备、MDS薄膜生产线、精密光学薄膜设备、TCO镀膜设备、HIT玻璃......
核心设备及零部件配套。鼓励深圳企业进行集成电路关键设备及零部件研发，推进检测设备、薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗设备、高真空泵等高端设备部件和系统集成开展持续研发和技术攻关，支持......
孔侧壁和深孔底部等部位成膜，在深度蚀刻时的聚合物沉积等MEMS加工中形成均匀的成膜。 罗姆的代工运用自身拥有的先进薄膜压电技术和MEMS加工技术，以及得到了量产业绩印证的先进生产技术，为实现小型、节能......
。 据当时消息，嘉芯半导体将设立6个子公司，2个事业部，主要从事刻蚀机、快速热处理、薄膜沉积、单片清洗机、槽式清洗机、尾气处理、机械手臂等8寸和12寸半导体新设备开发生产及设备再制造等相关业务，产品......
机、钉卷机、卷绕机、含浸机、排版机、充磁机、键合机、 雕刻机、光刻机、薄膜沉积设备、离子注入机、分选机、探针台、涂布机、固晶机、划片机、叠层机、冷却设备、换热器、表面处理设备、3D打印......
知识产权产品并实施产业化。 资料显示，拓荆科技（上海）有限公司成立于2020年12月，是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积......
使得反应都沿着能量最低的方向进行。该取向成核机制为开发针对性的钙钛矿薄膜质量提升策略及其规模化沉积方案提供了一定的理论依据和技术探索。 研究团队基于此优化了钙钛矿薄膜沉积策略，在两步法和一步法沉积......
海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。 该公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维......
环境中的氦气检漏率为 5X10-12mbar l/s. 使用上海伯东氦质谱检漏仪, 可以进行基于真空法和吸枪法的快速检漏真空法是氦质谱检漏仪最灵敏的检漏方法. 该方法中, 被测产品被放置在真空......
先导微电子科技有限公司是广东先导稀材股份有限公司的子公司。 2021年6月，广东先导稀材股份有限公司半导体沉积及镀膜设备生产基地项目签约落地徐州。当时消息显示，2019年，先导集团以4500万欧元全资收购了德国FHR公司（全球领先的薄膜真空......
国产半导体设备实现关键突破！;公开消息显示，近期我国半导体设备在离子注入、刻蚀、薄膜沉积、第三代半导体等领域取得多番突破。国产设备大厂自2020年起至今年上半年，业绩实现了较大程度的增长。近几......
元授权的回购计划。 据了解，国际电气于2018年从日立国际电气独立，随后纳入了美国投资公司KKR集团旗下。国际电气以制造用于薄膜沉积的设备而闻名，该设备是在硅晶片上添加薄膜薄层以形成电路的工艺。2019年7月......
是中车时代首次批量采购国产设备。 邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其......
、零部件翻新及新品制造的高新技术企业。该公司主要从事产线泵、通道连接件、气体分配件、阀门、运输腔管路、制程腔体等化学气相沉积工艺设备、离子薄膜沉积工艺设备、半导体蚀刻工艺设备的关键零部件的国产化。主要......
这种涂层主要创新使用了二甲苯，通过真空沉积工艺在“分子级别”上形成薄膜，意味着可以更薄、更均匀地覆盖在裸电路板等电子设备表面。 HZO 表示该技术的关键在于化学气相沉积（CVD）工艺，首先加热前驱体材料，直至......
这种涂层主要创新使用了二甲苯，通过真空沉积工艺在“分子级别”上形成薄膜，意味着可以更薄、更均匀地覆盖在裸电路板等电子设备表面。 HZO 表示该技术的关键在于化学气相沉积（CVD）工艺，首先加热前驱体材料，直至其变成气体；然后......
ALD立式炉设备基于公司现有的立式炉设备平台，搭载差异化创新设计，软件算法优化等实现原子层吸附和均匀沉积。” 据介绍，盛美上海新型热ALD设备可沉积氮化硅（SiN）和碳氮化硅（SiCN）薄膜。出厂......
-LED是将LED结构设计进行薄膜化、微小化、阵列化，常需要用到溅射工艺来生成薄膜结构，而后在此基础上进行后续加工。 在更多的高精尖领域，是超高真空设备的用武之地，涡轮分子泵则在其中起到了关键作用。例如......

相关企业

利方达真空技术深圳公司
的石英晶体膜厚控制仪,传感器。其主要产品有：SC系列石英晶片（5MHz，6MHz）,S,D,B,R系列晶振传感头(单晶,双晶,6晶,可烘烤,可调节),TM-100,TM-350,TM-400薄膜沉积监测仪,MDC-360C
北京德仪天力科技发展有限公司
高品质的产品，先进的技术，过硬的质量和周到的技术服务，DE公司正在稳步向前发展。 十几年来，DE已成功地为国内近百家企业、高校实验室和科研院所提供了全球最先进的真空镀膜沉积设备和优质的技术服务。
北京杰能达机电设备有限公司
设备 磁控溅射镀膜及PECVD设备 在PECVD沉积室主要用于射频增强等离子气相沉积的方法制备各种薄膜。真空烘干陶瓷工业橡胶硫化化学制剂/制药
燕拓航（北京）真空机械有限公司
;燕拓航（北京）真空机械有限公司;;本公司销售真空包装机，干燥机，混合机。承接非标另件加工、结构件加工、焊接加工、数控加工。提供真空波纹管、(CF、KF、ISO)系列超高真空法兰、角阀、放气阀、蝶阀
北京宇丰凯电子有限公司
闭状态容器内部活动多余物的检测，此产品获得过科工委科学进步奖； （二）代理国际知名品牌的半导体材料制备和分析检测设备，例如: 超高真空薄膜沉积系统;分子束外延系统；脉冲激光沉积系统；感应
深圳市德天成科技有限公司
;深圳市德天成科技有限公司;;深圳市凯跃科技有限公司是专业致力于表面技术、薄膜技术及真空技术的研究和开发，集设备研制、技术开发、产品应用于一体的高科技公司。公司结合自身技术实力与有关科研院所合作进行薄膜
激埃特光电有限公司
全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。力求把最适用的方案提供给光机电厂家!
北京利方达真空技术有限责任公司
Vacuum） 的全线真空产品（涡轮分子泵,机械泵,罗次泵,干泵,真空计,检漏仪,质谱仪,各种真空阀门,真空法兰,镀膜机和检漏系统）； 美国美泰克公司（Maxtek）的石英晶体膜厚测量仪,传感器; 美国
新济达光电科技
室组成，采用全分子泵无油真空系统，使用 MF/DC 两种磁控溅射工艺，具有连续沉积五层薄膜的能力，年产能超过200 万片。为了保证产品性能的优越性，公司斥资建造了无尘车间的生产条件，其中
广东激埃特光电科技有限公司
全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。 激埃特以追求质量，客户满意为宗旨。率先通过ISO9001:2008质量管理体系认证，产品