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消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术(2024-07-29)
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术;7 月 29 日消息，台媒《电子时报》（DIGITIMES）今日报道称，台积电最快在 2028 年推......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子(2023-01-28)
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子;
【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电......
中国台湾地区半导体产业强化布局EUV技术，引发韩国三星警戒(2021-09-04)
纳米及更先进制程技术占公司总营收49%，正从曝光设备厂商ASML采购更多EUV光刻设备，增加研发投入。包括台积电自行生产EUV光罩，以提升良率和制程效率。
韩国三星是全球首家采用EUV光刻技术......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。
三星电子此前指出，其目标是引领3nm以下的微制造工艺技术，今年计划采用EUV光刻技术量产第六代10纳米DRAM芯片。未来，三星电子积极寻求到2025年实现2nm芯片商业化，到2027年实......
放缓扩产进度？外媒：晶圆代工大厂将关闭部分EUV光刻机(2022-09-02)
放缓扩产进度？外媒：晶圆代工大厂将关闭部分EUV光刻机;外媒报导，先进制程产能利用率开始下滑，且评估下滑时间将持续一段时间，为节省EUV的巨大耗电，台积电计划年底开始，关机部分EUV光刻机设备。对此......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
数值孔径，表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而......
台积电首次提及 1.4nm 工艺技术，2nm 工艺按计划 2025 年量产(2023-12-14)
-2028 年时间段为 A14 制程采用 High-NA EUV 光刻技术，考虑到届时英特尔（以及可能其他芯片制造商）将采用和完善下一代数值孔径为 0.55 的 EUV 光刻机，台积电......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
当前有能力并且有意愿进入7纳米世代的晶圆厂仅剩台积电、三星和英特尔，加之EUV设备供给有限，ASML便成为三大半导体巨头争相拉拢的重要对象。
5nm/3nm：极紫外光刻成为必修课
随着半导体技术......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
机可以避免制造上双重或四重曝光带来的复杂性，在逻辑和存储芯片方面是最具成本效益的解决方案，对于提高制程效率和性能方面具有巨大潜力。由于计划会根据现有技术的表现以及其他市场因素而改变，所以台积电最后也可能会改变引入High-NA EUV光刻技术......
继向贝恩资本出售近20%的股份后，英特尔将向台积电出售IMS约 10%的股份(2023-09-15)
的长期合作伙伴关系，以加速创新并实现更深入的跨行业合作。”
英特尔称，贝恩资本和台积电的投资共同为 IMS 提供了更大的独立性，并增强了业界对 IMS 面临的重大机遇的信心。这将帮助 IMS 加速其发展并推动光刻技术......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
双方的合作协议，ASML将在日本的Rapidus工厂安装一台EUV光刻机，并提供相关的技术支持和培训。尽管ASML一直以来将其最先进的光刻机设备主要供应给台积电和三星等公司，但此......
台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们(2024-06-06)
元)，重量相当于两架空中客车A320。ASML 是世界上唯一一家生产极紫外光刻技术的公司。
台积电此前宣布，其2nm节点进展顺利，并计划于2025下半年推出N3X、N2制，并将在2026下半......
台积电7nm样品已流片，三星加速追赶(2017-07-18)
始首次采用「极紫外光刻（EUV光刻）」技术进行量产。极紫外光刻能大幅提高电路形成工序的效率，台积电技术长孙元成介绍说，（通过极紫外光刻技术）成本竞争力和性能都将超过原产品。
另一方面，分析......
佳能押注“纳米压印”技术：降低先进工艺生产成本，加速追赶 ASML(2023-12-27)
社长御手洗富士夫近日表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？;
11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV)
对于未来光刻技术......
台积电今年将拿到最新款光刻机(2024-06-06)
尚不清楚最大的EUV客户台积电何时会收到设备。
据悉，这些机器每台造价3.5亿欧元（3.8亿美元），重量相当于两架空中客车A320。ASML 是世界上唯一一家生产极紫外光刻技术的公司。
台积电此前宣布，其......
谁是下一个晶圆代工“最强王者”？(2024-05-06)
2026年量产，Intel 14A-E要到2027年。
而近日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备（High NA EUV）组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN......
谁是下一个晶圆代工“最强王者”？(2024-05-06)
日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备（High NA EUV）组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN
EXE:5000 High-NA EUV光刻设备，开始多项校准，2027......
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学(2023-03-24)
NVIDIA联合半导体三巨头，颠覆计算光刻方法学;2023春季GTC上，NVIDIA与TSMC（台积电）、ASML 和Synopsys（新思科技）联合宣布，完成全新的 AI 加速计算光刻技术......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
机是在破坏全球产业链。”问题是，EUV光刻技术突破意味着什么？ASML为何反应激烈？
在讨论光刻机之前，我们应了解芯片的关键性。没有芯片，将无法实现所谓“梦想”。芯片......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
说简直就是灾难，因为其后续尖端制造工艺都需要EUV光刻机。
台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。借助EUV光刻，所需......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
率得到了保证，但性能和功耗提升欠缺。并且，无论是三星的GAA工艺还是台积电的传统工艺都面临成本高的问题。
High-NA EUV光刻机交付后，更为先进的技术能够在单元面积中内置更多晶体管，从而......
晶圆代工厂的未来：台积电们如何找出路？(2017-06-05)
新工艺节点变得更加难以追逐，每个代工厂都采用了各种方法来定义节点的收缩。这在英特尔公司是最明显的，其10nm节点预计将相当于台积电7nm。
三星的EUV似乎没有那么早。他的8LPP将是一个8nm节点，采用传统浸没式光刻技术......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
了高性能逻辑库，并引入了多个创新。
具体来看，Intel 4简化工艺的EUV光刻技术；Lntel
4针对高性能计算应用进行了优化，可支持低电压（<0.65V）和高电压（＞1.1V）运行。与lntel 7相比......
亚洲半导体的霸主：三星OR台积电？(2017-06-15)
（EUV光刻）」技术进行量产。极紫外光刻能大幅提高电路形成工序的效率，台积电技术长孙元成介绍说，（通过极紫外光刻技术）成本竞争力和性能都将超过原产品。
另一方面，分析认为三星计划最早在2018年开......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元(2023-09-08)
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
ASML最先进的光刻机，花落谁家？(2024-05-11)
资料显示，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。
据悉，三星电子的目标是引领3纳米以下的微制造工艺技术，今年计划采用EUV光刻技术......
ASML：数值孔径0.75超高NA EUV光刻设备2030年登场(2023-06-21)
World 2023表示，半导体产业需要2030年开发数值孔径0.75的超高NA EUV光刻技术，满足半导体发展。
Christophe Fouquet表示，自2010年以来EUV技术......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元(2024-06-06)
机器每台成本为3.5亿欧元（约3.8亿美元），重量与两架空客A320飞机相当。ASML是全球唯一的极紫外线光刻技术制造商，其产品需求被视为该行业发展的晴雨表。
台积电曾对这款机器的价格表示了担忧。台积电......
晶圆代工大厂角逐先进制程迎新进展！(2023-10-17)
了两倍的面积微缩，带来了高性能逻辑库，并引入了多个创新。
具体来看，Intel 4简化工艺的EUV光刻技术；Lntel 4针对高性能计算应用进行了优化，可支持低电压（<0.65V）和高......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
），以及台积电是否会在2027年至2028年期间为其A14工艺技术采用高数值孔径EUV（High NA EUV）光刻机，目前仍尚不清楚。
英特尔方面，英特尔CEO帕特·基辛格在Intel......
Intel 4工艺进展顺利：每瓦性能提升20%(2021-11-15)
工艺。
根据英特尔之前公布的信息显示，与Intel 7相比，Intel 4的每瓦性能提高了约20% ，同时它也将是首个完全采用EUV光刻技术的英特尔FinFET节点。此前台积电的7nm EUV......
5年内进入3纳米，台积电真能做到吗？(2017-02-13)
人的团队研发中。根据规划， 台积电的10nm、7nm都会用上EUV极紫外光刻技术，更遥远的5nm也会如此，而且还会加入新的多重电子束技术(multipe e-beam)。
这两......
康宁将获美国芯片法案3200万美元补贴(2024-11-11)
玻璃的极低热膨胀系数保证了在EUV环境下的高一致性。鉴于EUV光刻技术对精度和稳定性的极高要求，康宁的新玻璃能够承受高强度的极紫外光，从而显著提高芯片设计和制造的性能。
康宁公司最近在加州蒙特雷举办的SPIE光掩模技术......
台积电高雄厂已完成2nm营运团队建设，未来或切入1.4nm(2023-10-25)
以上。
台积电在2nm制程节点将首度使用Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管，同时制造过程仍依赖于极紫外线（EUV）光刻技术，原计划2024年末将做好风险生产的准备，并在2025年末......
从小作坊到垄断EUV光罩检测，这家日本公司靠什么做到的？(2023-01-09)
司”Lasertec，却是世界上唯一一家为极紫外光刻（EUV光刻）制造测试设备的公司，三星台积电均用其EUV检测设备生产芯片。
说到光罩检测，可能......
台积电高雄厂已完成2nm营运团队建设，未来或切入1.4nm(2023-10-25)
-around
FETs（GAAFET）晶体管，同时制造过程仍依赖于极紫外线（EUV）光刻技术，原计划2024年末将做好风险生产的准备，并在2025年末进入大量生产，客户在2026年就能收到首批采用N2制程制造的芯片。......
晶圆代工霸占热搜榜(2024-05-17)
晶圆代工霸占热搜榜;本周晶圆代工领域消息不断：台积电美国工厂发生爆炸、欧洲首座工厂动工时间揭晓；EUV光刻机再次受到关注，英特尔与台积电面对ASML新设备，态度不一；先进制程竞争愈演愈烈，台积电N3......
为了给摩尔定律续命，芯片行业有多努力？(2023-03-27)
如今最先进的芯片制程已经达到5nm，借助于EUV光刻等先进技术，头部公司还在向3nm甚至更小的节点演进。
近两年是台积电与三星竞争最激烈的两年，在先进制程上打得不可开交。
台积电......
近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了(2024-07-18)
光学系统收集和聚焦光线的能力，数值越高，聚光能力越好。通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，从而有助于晶体管的进一步微缩。
业界预计，随着High-NA......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计该制程技术......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术(2023-03-27)
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作，剑指计算光刻技术;国际电子商情27日讯 在近日召开的GTC大会上，英伟达宣布推出一项将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这是英伟达布与台积电......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术......
Intel大爆发了：要把这些年从AMD/台积电手里失去的东西 统统夺回来！(2022-12-07)
部就班推进，且18A（相当于友商1.8nm）更是提前到了2024下半年准备投产。
据悉，Intel 4相当于友商4nm，也就是Intel此前口径中的7nm，它会导入先进的EUV光刻技术，并在14代Meteor......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂(2022-12-13)
和其他公司正在使用的非常昂贵的极紫外 (EUV) 光刻技术的替代品。
......
Intel良率也不行，为何三大晶圆厂都困在10nm？(2017-03-03)
情况是刚上线的尖端工艺良率只有60%左右，如果低于这个，就有仓促上线的嫌疑了。这次台积电是否很赶，一定要比三星快？
但是从现状看，相信193nm的光刻技术已经走到尽头了，靠多重曝光技术苟延残喘，良率出问题不可避免。解决......
传台积电将制造特斯拉的下一代自动驾驶芯片(2022-11-24)
次部署了EUV光刻技术量产7nm及以下的芯片。
不过，特斯拉现身台积电2022科技座谈会，预示着一股变革之风，预示着台积电在sub-7nm技术上的领先地位，未来......
ASML阿斯麦：你都知道多少(2023-10-08)
因担心客户需求而向包括ASML在内的主要供应商推迟部分芯片制造设备的交付，导致ASML份额下跌2.5% 价格。
ASML股东回报
凭借其作为 EUV 光刻技术的独特供应商的地位，以及......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
首套高数值孔径(High-NA)极紫外线(EUV)光刻机-EXE:5000。这代表着台积电对这项先进半导体技术不断变化的立场，从一开始持谨慎，到后来全面发展采用，为的......
重振芯片制造，欧、日为何青睐2纳米?(2021-04-02)
莫大康的介绍，目前的EUV光刻机精度仍不足以满足2nm的需求。光刻技术的精度直接决定工艺的精度，对于2nm的先进工艺，高数值孔径的EUV技术还亟待开发，光源、掩模工具的优化以及EUV的良率和精度都是实现更先进工艺技术......
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;台积电上海有限公司;;台积电上海有限公司（台积电上海）位于上海市松江科技园区内，是台积电独资设立的子公司，也是其全球布局中重要的一环。台积电将运用以往丰富的成功经验，协助
家专门经营台湾艾笛森EDISON,美国科锐CREE，台湾琉明斯以及（台积电）彩钰等品牌大功率LED灯珠的专业光电子器件通路商！公司严格执行“系统管理，以人为本，诚实守信，交货快捷，优质服务”的宗旨。真诚
;深刻技术看见;;ssdfsssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssssss
;深圳锡安科技有限公司销售部;;深圳锡安科技有限公司，本公司专业代理OSRAM欧司朗、CREE科锐、Philips飞利浦、Sharp夏普、TSMC台积电等海内外大品牌LED灯珠、光源、发光
;深圳锡安科技有限公司-销售部;;深圳锡安科技有限公司，本公司专业代理OSRAM欧司朗、CREE科锐、Philips飞利浦、Sharp夏普、TSMC台积电等海内外大品牌LED灯珠、光源、发光
LUMILEDS LUXEON系列；首尔半导体LED 5630 5050,三星LED 5630,台湾隆达LED 5630 3014，以及台积电3535 TS系列大功率TS1 TS3，台湾
子科技有限公司其前身得积工作室在公司成立前，一直默默地专注于技术研发和创新，一直为广大客户提供强大的技术服务，随着国家及各界人士对于反向技术的认同和支持，得积工作室慢慢从幕后走向前台，深圳市得积电子科技有限公司以强大技术力量和卓越企业精神，立足
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
;深圳市台积微科技有限公司;;深圳市台积微科技有限公司总部坐落于罗湖区国贸中心大厦27楼,物流中心设置于深圳市南山区,另外新亚洲二期一楼设有柜台便于华强北市场同业送货服务，我司
;东昕企业社 TOP SCREEN INSTRUMENT;;东昕企业紧邻台南科学园区,为全台最大光电科技产业区,其中以台积电.联电.奇美电子.瀚宇彩晶.美商康宁玻璃.3M.应用材料.日商NEC.西虹