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制造2025》中针对国产半导体制造设备提出了明确要求：在2020年结束之前，90-32nm工艺设备国产化率达50%，实现90nm光刻机国产化、封测关键设备国产化率达50%；在2025年结束之前，20......
年的贞光科技是三星、VIKING、紫光芯能、基美、国巨、泰科、3PEAK思瑞浦等国内外40余家原厂的授权代理商。获取更多方案或产品信息可联系我们。 由于集成电路产业链极其复杂，因而......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中......
分领域国产化率、当下的机遇和挑战等方面梳理国内半导体设备企业的真实成绩与差距。 01 2022年半导体设备成绩亮眼，国产替代进入快车道 2022年国内半导体设备企业逆势增长 截至2023......
经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国......
的最新款EUV曝光机，以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系，获得ASML的最新一代光刻机的相关技术，并填补上述差距。 但是，另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
行业的领导者，ABM将继续在中国高端光刻机国产化的道路上做一位孤独的登山者。 （以上内容引自芯谋研究） ABM,Inc.全自动双面对准光刻机 ABM全自动光刻机主要规格：  全自动化量产  衬底尺寸2......
与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。2010年初，他明确选定了两个主攻研究方向：面向IC纳米制造的计算光刻与计算测量。十多年来，他和团队在该领域的基础理论与技术创新上做了许多工作，相继获得国内外......
约43亿美元，SK海力士与ASML签署EUV光刻机采购合同;据路透社报道，SK海力士于2月24日宣布，已与ASML签订了一项为期5年、价值4.8万亿韩元(约43.4亿美元)的采购合同。SK海力......
、镀膜、热处理等设备的国内自给率已经相对较高，都达到了≥10%的水平。而像光刻机、涂胶显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是芯片制造的核心设备光刻机方面。 ·国产光刻机比ASML落后15......
与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。2010年初，他明确选定了两个主攻研究方向：面向IC纳米制造的计算光刻与计算测量。十多年来，他和团队在该领域的基础理论与技术创新上做了许多工作，相继获得国内外......
真正开始大规模研究硅光子是在2010年左右，之前多为学术上的研究，起步晚导致中国在硅光子的产品化进程上不如美国。但中国对于硅光子技术研发方面人才和资金的大规模投入，使得国内硅光产业与国外差距......
就“大炒概念”依然操之过急。国产设备隐形巨头  虽然消息并没有想象中那样“劲爆“，但上海微电子作为国内光刻机巨头的地位毋庸置疑。光刻机为什么这么难造？这是因为制造光刻机就像是在微观世界里“造房......
技术的发展局限于在光学衍射极限范围内不断缩短所用光源的波长，其代价非常昂贵。今天光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。 国内目前还没有安装ASML EUV机台......
芯碁微电子装备有限公司主要经营微电子高端装备研发、制造、技术服务。公司技术团队是以曾承接国家02重大科技专项《130—65nm制版光刻设备及产业化》项目核心人员为基础，结合国内外业界精英组成，60%以上......
石相关负责人介绍，企业正加速推进海外布局战略，并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下，预计今年底，企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。 此次引入电子束掩模版光刻机，冠石半导体将成为国内......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内......
了全球中高端的大部分市场份额。EUV光刻机虽然限制出货给中企，但DUV光刻机基本来自ASML。 相比之下上海微电子差距还很大，ASML似乎也不用担心。然而，上海微电子一直在加速进行研发，先进DUV光刻机也正在攻坚，一旦......
用户来说总不希望看到扫地机器人一直碰头吧。 1、相较于通用伺服，机器人用伺服的性能要求更高，国内外差距也更大。内资品牌在技术储备、产品性能、质量、品类上落后于国外品牌，且电机编码器芯片仍依赖进口。 2......
引入EUV光刻机，SK海力士M16新厂竣工;2021年2月1日，SK海力士在韩国京畿道利川总部举行M16新厂竣工仪式。 据了解，SK海力士M16于2018年11月开建，总投资3.5万亿......
取得令人瞩目的回报。 当前，国内外量子科技主要在“量子计算、量子通信、量子测量”三个方向展开激烈竞争。其中，量子计算的优势在于其在解决一些经典计算机难以解决的问题时有着极高的效率。因此，量子......
注入机和涂胶显影设备等领域较为薄弱，但针对28nm及以上制程的工艺覆盖日趋完善，并且去胶、CMP、刻蚀和清洗设备已不断缩短差距。 在IC制造设备上，目前市场抢手的设备-光刻机，主要......
半导体设备业务部长岩本和德还表示，如果改进光罩，纳米压印甚至可以生产先进制程的芯片。 佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。 更为关键的是，佳能的纳米压印设备成本和制造成本都远低于ASML的EUV光刻机。岩本......
成本也更为惊人。 报导分析说，在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下，对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大，这有利于大陆厂商的技术追赶。 但是，在EUV技术......
助力芯片制造，华中大团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA软件;近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。 光刻......
有助于安世半导体快速增加产能，对满足全球客户日益增长的需求具有重要意义。 ASML：不放弃中国市场！ 众所周知，芯片制造离不开光刻机。尽管最近一段时间ASML成为了美国施压的对象，但其实ASML一直都在提升对国内......
英伟达布与台积电、ASML、新思科技（Synopsys）合作的项目，旨在加快新一代芯片的设计和制造。 据介绍，计算光刻技术主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，以优化光源形状和掩膜板形状，缩小光刻成像与芯片设计差距......
-NA EUV光刻机的价格约为3.84亿美元。尽管如此，台积电在EUV光刻机的技术领先地位，预计仍将吸引更多寻求先进芯片制造能力的高阶客户前来下单。这可能会进一步拉大台积电与其竞争对手之间的差距，尤其......
和推进科技创新做出贡献。 结语 近年来中国在集成电路领域通过不断努力。在设计、制造和封测三个环节都取得了一定成绩。但具体到各个环节深入下去的时候就会发现，问题很严重，与国外差距很大。如今业内人士认为，就算光刻机突破了，在......
设备（特别是EUV光刻机）等领域仍存在一定差距，但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域，中国企业已经取得了一定的市场份额，并逐步实现国产化替代。 市场......
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。 而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机......
。想要保证画质、像素，同时还要低损坏率，这些可是日系厂商几十年的技术累计和沉淀，我们怎么可能轻易的就仿制成功呢？况且投入制造CMOS的光刻机一台就要几千万美元，国产光刻机又达不到美日的水平。对于......
，从美国 2019 年加强对尖端设备和软件的出口限制以来，华为手机国产率的提高印证了中国在技术领域正快速取得进步，包括使用 7nm 工艺生产半导体芯片。 这类工艺一般都是由台积电、三星代工或其他拥有先进制程光刻机......
气生产领域的生产能力的认可，有利于提高公司在光刻气领域内的认可度和知名度，对于公司境内外销售光刻气产品都具有积极意义，公司目前是国内唯一一家同时通过荷兰ASML公司和日本 GIGAPHOTON......
至今无法进入大陆市场，不过DUV光刻机还勉强能进来，即便如此，这对我国芯片产业也非常重要，在国内科研人员的努力之下，我国成功突破了14nm工艺芯片的量产。或许有人不知道，14nm是半导体制程工艺中的一个分水岭，能进......
制造方面 生产方面，国内芯片工艺相对落后，光刻机被卡着脖子，高端的芯片生产不了。这里的芯片类型包括但不限于CPU、内存、Flash存储等，低端的可以做一些，高端的基本没戏。设计CPU已经很烧钱了，造CPU......
增长50%以上。 其中一个重要原因就是中国客户的需求爆发，除了国内半导体产能建设的需要之外，还有一个因素就是下半年荷兰就会限制部分光刻机出口，国内客户提前下单锁定。 ......
可以说是我国半导体设备的薄弱之地，除了上述的上海微电子外，我国还有华卓精科和国科精密等可以生产光刻机零部件。总体来讲，我国光刻机水平与光刻机巨头ASML、佳能、尼康差距较大。当代光刻机代表着芯片性能的先进性，其是......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
胶，如今已形成独属于自身的产业格局。多年来，半导体光刻胶市场主要以日美厂商为主导，从产品种类、产能规模上来看，国内厂商还存在较大差距。不过近几年，随着国产替代“浪潮”的推动下，国内光刻......
DRAM厂商目前基本上都是通过不断缩小电路面积提高继承度来进行竞争的。 芯片制造商们不断挖掘DUV光刻机的潜力，克服DUV光刻机的性能和EUV存在差距，把存在于理论的多重曝光用在了现实。 而在......
电机国内外技术差距分析;国内外电机对比，直接感受到中外公司在电机制造方面的许多先进工艺技术差距，无论是设备的先进程度还是他们的思考方式和具体做法都值得我们学习，下面就目前电机行业国内外存在的一些差距......
着我国本土晶圆制造产业链自主化水平的显著提升。 制造设备也是的重要环节，包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等，这些设备是制造半导体产品所必需的，并且材料方面，芯片制造需要使用高纯度的半导体材料，如硅片、砷化镓等。国内......
-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。 后由于公司与光刻机供应商、北方......
露，该光刻机将于2020 年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达。 现经......
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
文一经刊发，立即引起国内外学术界及产业界的高度关注。 图1. SSMB原理验证实验示意图（图片来源：《自然》） 图2. SSMB原理验证实验结果（图片来源：《自然》） 实验......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。 晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻......
每年投入巨资，毕业生数量庞大，为什么不能完成成熟设备？ 当然，我们制造EUV光刻机并非要取代ASML，而是为了满足自身需求，推动全球光刻机技术发展，继续前进，克服老美的封锁，困难将更大，代价更高。然而，国内......
电和荷兰贸易部发言人均未公开回应。 无独有偶，此前台积电也有类似的言论，意思就是为了不让国内取得最先进光刻机，也有机制立即摧毁芯片生产线。 台积电是ASML的重要客户，世界上最先进的芯片约有90%产自中国台湾。这一次，怎么看，美国......

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苏州汶颢芯片科技有限公司
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘　箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
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;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
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打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
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打标机、激光雕刻机等10多种产品，广泛应用于半导体电子元件、集成电路（IC）、五金制品、电工电器、手机通讯、精密器械、汽车配件、塑胶按键、建材、医疗器械等行业。 公司的产品远销国内及亚欧市场，其优质的产品和完善的服务已得到国内外