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机器，包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。 ASML不装了 为了让中国不能获取先进光刻机和芯片，美国绞尽了脑汁。而这一次，他们又把目光锁定在台积电厂房内的光刻机和产线。 据外......
胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为......
25亿一台！英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装：展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息，ASML新任CEO近日公开表示，两台High NA EUV光刻机（单台设备的售价约为3.5亿美......
胶配套高纯显影液的规模化生产线，包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备；另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心，包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关......
台积电狂言华为不可能追上：专家痛批没有先进光刻机啥也不是; 6月5日消息，近日，董事长刘德音发言引起了轩然大波，其直言华为不可能追上台积电。 有股......
划将在中国台湾地区投资300亿新台币进行扩产。随着先进光刻机产能的提升和High-NA EUV光刻机的问世，ASML有望自由出货更先进的设备。 ▲鼎泰匠芯洁净室交付ASML光刻机搬入现场 据了......
会在18A节点的后期引入它。 台积电、三星都计划在2025年晚些时候投产2nm工艺，或许也会用上高NA EUV光刻机。 至于这种先进光刻机的价格，没有官方数据，不同报告估计在单台成本就要3-4亿美......
ASML推出High-NA EUV乐高模型;全球半导体设备龙头ASML宣布将旗下最先进光刻机「乐高化」，推出High-NA EUV光刻机Twinscan EXE：5000乐高模型，售价227.95......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程;日经亚洲的报导，全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1......
大生产线需求，初步建成较完备的集成电路核心装备自主供给体系。 一是集成电路装备，瞄准光刻、刻蚀、湿法、沉积、离子注入、量测检测等工艺环节，推进先进光刻机、高端刻蚀机、晶圆清洗设备、离子......
工艺应用结合的产物，将促进光刻工艺的革命性改进，符合国际光刻设备研究发展趋势，也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。 EUV光刻机，摩尔定律的拯救者 关于EUV技术可以溯源到20......
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日，中国招标投标公共服务平台官网公示，上海华虹宏力半导体制造有限公司（以下简称“华虹宏力”）中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
半导体设备业务部长岩本和德还表示，如果改进光罩，纳米压印甚至可以生产先进制程的芯片。 佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。 更为关键的是，佳能的纳米压印设备成本和制造成本都远低于ASML的EUV光刻机。岩本......
）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前南大光电已经建成了2条ArF光刻胶生产线，且已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机......
电永远有竞争对手。 “至于华为会不会超越，本来他想请总裁魏哲家回答，后来就直接说，总裁也不用回答了，因为但根本不可能。”刘德音说道。 此言一出，也是引起了行业专家的吐槽，有人甚至放话，如果没有先进光刻机......
）光刻机是目前最先进光刻技术，能在更小尺度实现精准图案转移，是制造下一代高性能芯片的基础设备。荷兰光刻机巨头ASML......
Devices等制造领域。 上海微电子旗下的产品主要有两大系列。 其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及......
件台技术架构已经成为全球300mm和200mm晶圆量产生产线中的先进光刻技术代表 。 英诺赛科将在今年第二季度搬入首批光刻机，这是第三代半导体领域首次量产应用先进的ASML TWINSCAN......
大公司文化的贡献，他的领导力、毅力和远见。我们向 Wim 的家人表示哀悼。” 特鲁斯特是飞利浦晶圆步进机的开发人员，也是在飞利浦管理团队会议上唯一一个表示对光刻机有研究兴趣的人。1984 年，飞利浦和 ASM......
样的局面之下，中企便开始布局芯片产业链的国产化，以此来推动国内芯片代工技术的发展，来摆脱外界规则所造成的影响。 而想要大规模的量产芯片，就必须实现光刻机等关键设备的国产化。在这样的局面之下，中企加大了对于先进光刻机......
传华为要自研光刻机？;近日有消息称，“华为太难了，拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行，还要琢磨研究光刻相关技术...国内产业链在这些方面帮不上华为，华为只能自己来了！” 该爆料者还表示，希望......
NA EUV光刻机。此外，Christophe Fouque还确认，英特尔的第二套High NA EUV光刻机已经组装完成。 Christophe Fouquet表示，High NA EUV光刻机......
尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市;IT之家 9 月 6 日消息，宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式“NSR-2205iL1......
成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。” 据刘......
还需要通过多个半导体芯片紧密相连的 2.5D 技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。 为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
技术 及半导体芯片层叠的 3D 技术来实现。为此，佳能将于 2023 年 1 月上旬发售半导体光刻机新产品 ——i 线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”，通过......
。 生前，他曾是飞利浦晶圆步进机的开发人员，也是在飞利浦管理团队会议上唯一一个表示对光刻机有研究兴趣的人。当时，他几乎是单枪匹马地在资源匮乏的情况下维持了项目的运转，并寻......
，ASML用第一台步进式光刻机迈入中国市场，如今该公司在中国的总装机量已超过1000台。目前全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机。 数据显示，2021年，ASML在中......
容大感光：已购买i线投影步进式曝光机，用于i线光刻胶的研发与生产检测;4月11日，容大感光在投资者互动平台表示，公司的光刻胶产品主要包括PCB用光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶，其中半导体用光刻......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件;“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%;据尼康官方消息显示，尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪NSR-S636E，作为关键层的曝光系统，该系......
ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机;8月21日消息，据国外媒体报道称，ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示，世界需要中国生产的'传统芯片'，它们......
芯片。 此前佳能一直专注于制造不太先进光刻机产品。直到2014年，佳能收购了Molecular Imprints股份有限公司，开始押注纳米压印技术。 近十年来，佳能......
迫于美国限制禁令的压力限制了与半导体有关的先进技术，荷兰政府的该项法令导致 ASML 不得不申请出口许可才能被允许出口自己的先进光刻机系统。 DUV 和 EUV 都被用于半导体芯片制造中的光刻技术，分别代表“深紫外光”(Deep......
引进光刻机等设备，美迪凯拟建年产20亿颗(件、套)半导体器件项目;近日，杭州美迪凯光电科技股份有限公司（以下简称“美迪凯”）发布对外投资公告称，拟投资年产20亿颗(件、套)半导......
光刻机巨头ASML2024年第一季净销售额53亿欧元;财报显示，2024年第一季度，ASML实现净销售额53亿欧元，毛利率为51.0%，净利润达12亿欧元。 具体来看，第一季度的新增订单金额为36......
回顾步进式光刻机概念的诞生：一个关于直觉的传奇故事;......
的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
，其技术发展路径从接触式、接近式、投影式、步进式和扫描式光刻机。无掩膜光刻机主要为激光直写光刻机，主要应用于FPD、PCB、PV等泛半导体领域。 高精度：ABM Inc.的光刻机......
美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机;快科技6月7日消息，近日，公司CEO公开表示，美国严厉的芯片管控规定，只会倒逼中国厂商进步更快。本文引用地址： CEO表示，多年来，公司......
之前表示和美国政府谈判一项政策，关于对中国半导体设备新的出口限制措施。 因为美国和产业的压力，荷兰政府一直以来没有批准该国最大的制造商向中国出口先进光刻机的相关文件，被标......
ASML股价继续大跌：想卖先进光刻机给中国厂商 但不被允许; 10月17日消息，由于业绩暴雷，这导致龙头股价暴跌，而两天时间股价已跌超20%。 据官方公布的数据看，阿斯麦(ASML......
月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV      为了提高半导体芯片的性能，不仅在半导体制造的前道工艺中实现电路的微细化十分重要，在后......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管......
于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
胶，改进光罩薄片延长寿命、提升产量、降低缺陷率等等，如今光刻机数量增加了十倍，但晶圆产出是2019年的30倍，且仍将持续改进，这也成为其未来支撑1.6nm工艺的重要支柱。 台积电A16工艺......

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